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KLA R50 Viersonde WiderstandsmesssystemEs ist ein Produkt der KLA Widerstandsprüfserie. Die Widerstandsmessung und -überwachung sind für jede Branche von Bedeutung, die leitfähige Folien verwendet, von der Halbleiterherstellung bis hin zu flexiblen Elektronikprodukten, die für tragbare Technologien erforderlich sind.KLA R50 Viersonde WiderstandsmessgerätDabei können Messbereiche wie die Gleichmäßigkeitsverteilung der Metallfolien, die Ionendoping- und Injektionscharakterisierung, die Filmdicke und die Widerstandsverteilung sowie die berührungsfreie Filmdicke berücksichtigt werden.
Kontaktvierpunktsonde (4PP) und kontaktlose elektrische Wirbelstrom-Konfiguration (EC);
100mmZ Strom, hohe Präzision Steuerung;
Leiter- und Halbleiterfilmwiderstand, 10 Größenbereiche;
Benutzerdefinierte Bearbeitung von Testpunkten, einschließlich rechteckiger, linearer, polarer Koordinaten und benutzerdefinierter Konfigurationen;
200mmXY elektrische Plattform;
RSMapper Software ist flexibel und einfach zu bedienen;
Kompatibel mit allen Dünnfilmwiderstandsmesssonden von KLA;
Vierpunktsonde (4PP)Die aus vier leitfähigen Sonden bestehende Sonde berührt die Oberfläche der Leitschicht mit kontrollierbarer Kraft, wobei zwischen der gemessenen Leitschicht und dem Substrat eine nicht-leitfähige Blockschicht besteht. Die Standard-Messsondenkonfiguration besteht darin, Strom zwischen zwei äußeren Sonden anzulegen und Spannung zwischen zwei inneren Sonden zu messen. Bei der Messung des Dünnfilmwiderstands sollte die Dicke der Leitschicht weniger als 1/2 des Abstands zwischen den beiden Sonden sein. Die KLAR50 Viersonde WiderstandsmessgerätDie Dual-Mode-Technologie wurde entwickelt, die es ermöglicht, die Spannung an der Intervalssonde zu messen und die Funktion der dynamischen Korrektur des Grenzeffekts und der Kompensation von Sondenabstandsfehlern zu konfigurieren. KLA bietet eine breite Palette an Sondentypen zur Anwendung und Optimierung der Eigenschaftscharakteristischen Messungen verschiedener Oberflächenmaterialien, die für nahezu jede leitfähige Folie oder Ioneninjektionsschicht verwendet werden können.
Elektrischer Wirbelstrom (EC)Es handelt sich um eine kontaktlose Leitfolienmesstechnik. Der Zeitstrom wird durch die Spule aufgebracht, um ein zeitwechselndes Magnetfeld zu erzeugen, das einen induzierten zeitwechselnden Strom (Wirbelstrom) in dieser Oberfläche erzeugt, wenn das Magnetfeld sich der leitfähigen Oberfläche nähert. Diese Wirbelströme erzeugen ihrerseits ihr eigenes zeitlich verändertes Magnetfeld, das mit der Sondenspule gekoppelt wird und eine Veränderung des Signals erzeugt, die proportional zum Widerstand der Probe ist. Die spezielle EC-Technologie von KLA, bei der sich eine einzelne Sonde oberhalb der Probe befindet, ermöglicht die dynamische Anpassung der Sondenhöhe jedes Messpunkts, was für die Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Messungen sehr wichtig ist. Die EC-Methode ist nicht von der Sondengröße oder der Oberflächenoxidation beeinflusst und eignet sich ideal für weichere Proben oder andere Proben, die nicht für die Messung mit 4PP-Kontaktmethoden geeignet sind.

Halbleiter |
Tablet und VR Display |
Verbindungen Halbleiter |
Fortgeschrittene Verpackung |
Solarenergie |
Druckkreise |
Tragegeräte |
Leitungsmaterial |
Die Gleichmäßigkeit des Widerstands der Metallfolie ist sehr wichtig, um die Komponentenleistung zu gewährleisten, und die meisten Metallfolien können mit 4PP und EC gemessen werden. EC wird für dickere, hochleitfähige Metallfolien empfohlen, 4PP ist für dünnere Metallfolien (> 10Ω/sq) geeignet, aber 4PP/EC zeigt in jedem Fall eine hohe Korrelation, die sicherstellt, dass mit jeder Methode genaue Ergebnisse erzielt werden können. Die Widerstandsverteilung des Widerstandsmessgeräts KLA R50 mit vier Sonden kann die Gleichmäßigkeit der Folie, die Ablagerungsmasse und andere Prozessschwankungen charakterisieren.
Die 4PP-Methode ist die Standard-Messtechnik zur Messung von Ioneninjektionsprozessen. Durch die Prüfung der Ioneneinspritzverteilung nach dem Hitzegehnen können Hitzpunkte und Kältepunkte aufgrund eines Lampenfehlers, eines schlechten Wafer-/Plattformkontakts oder einer Änderung der Injektionsdosierung erkannt werden. Für die Silizium-Ionen-Injektionsschicht ist ein Hitzprozess notwendig, um dopierte Ionen zu aktivieren.
Durch die erfassten Wafer-Daten,KLA R50 Viersonde WiderstandsmessgerätSie können eine Verteilung von Filmwiderständen, Filmdicken oder Widerstandsraten zeichnen. Durch Eingabe des Widerstands des Materials kann die Membrandickenverteilung berechnet und angezeigt werden; Oder durch Eingabe von Membranstickendaten kann die Widerstandsverteilung berechnet werden.
KLA R50 Viersonde WiderstandsmessgerätDie RSMapper-Software kombiniert Datenerfassung und leistungsstarke Analysefunktionen mit einer intuitiven Visualisierungsoberfläche, die sowohl für das Gerät selbst als auch für den Offline-Einsatz geeignet ist. Die Software verfügt über verschiedene Koordinatenlayouttools, die den Benutzern helfen, die Messpunkte der Daten einfach einzurichten.
Z-Bereich: |
60 mm |
Typ der Plattform Z: |
Automatisch |
X-Y Plattform Typ: |
Automatisch |
Maximale Probenauflastung: |
2,5 kg |
Neigungsprobentisch: |
±5° manuell |
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Elektrische Leistung | |||
R50-4PP |
R50-EG |
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Wiederholbarkeit der Messpunkte: |
<0.02% |
<0.2% |
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Genauigkeit: |
±0.2% |
±1% |
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