Ablagerung thermischer Atomschichten

Ausrüstung:

Kleiner SchreibtischALD (Atomic Layer Deposition) Werkzeuge sind für einfache Bedienung und Installation ohne Opfer konzipiertSein GeschlechtKannfürKosteneffektive Forschung und Entwicklung.

Mit Halbleiterkomponenten, Metalldichtungsleitungen und leistungsstarkenSPS-angetriebene Benutzeroberfläche für schnelle Zyklen und hochwertige, wartungsfreundliche Mehrkomponentenfilme，Wiederholbar und sicher betrieben.

Technische Parameter:

·Größe L * W * H: 62,3 * 61 * 40cm (4 Zoll)

·am meistenHochWenGradkönnenDa315℃

·GoldGeschlechtDichtungRohreWeg(Reduzierung der AtmosphäreVerschmutzungInfektionderMaschineWird.)

·3 Quellen für organische Metalle (auf 150 °C erhitzbar) und 2 Quellen für Oxidationsmittel/Reduktionsmittel (auf 180 °C erhitzbar)Zusätzliche Co-Reaktoroptionen

·Schnellpuls-ALD-Ventil mit hoher Temperaturbeständigkeit und integriertem Inertgasempfer mit ultraschnellem MFC - Standard

·Geeignet für 4-Zoll-, 6-Zoll- und 8-Zoll-Substrate und optional maßgeschneiderte Sperrklammern (große und mehrkammerigeObere Wafer (verfügbar)

·StatischGegenSollteModelleTypuntenkönnenrealJetztHochÜberdeckenAbdeckung

·BandsammlungzuPLCKontrolleder7 Zoll.AnzeigenZeigeBildschirm

·LebenslangweichStücksteigenStufe

Verfügbare Optionen

·Kundenspezifische Chips / Basis | Ozongenerator | QCM (Quarzkristall Mikrowaage) | Flaschenheizung

·Schaumstoff für Ihre Flasche entwerfen | Vorlaufbeheizungsleitungen auf 185 ° C zusätzlich aktualisieren | Handschuhkosten mit integrierter Verbindung

·Lüftungs-Vorfahrergehäuse | Exotische Räume maßgeschneidert | Beratung für maßgeschneiderte Systeme

Ausrüstungsvorteile

ØDer Hersteller istExperten im Bereich ALD

ØHochwertige Komponenten (Halbleiterleitungen, Ventile, Metalldichtungen (ohne Eindring von Wasser oder Luft))

ØVertrauenswürdig (SPS-Steuerung - kein Treiber-Upgrade, keine zusätzliche Karte) und zuverlässig (sehr einfach zu warten)

ØEntworfen für Labortechniker.

ØKlein und kompakt (ohne Platz)

ØKleine Volumenkammer bedeutet schnelle Ablagerung und weniger Vorläufer Abfall und tiefe Penetration in dreidimensionale Strukturen

ØSchnelle Aufwärmzeit (und Abkühlung)

ØChemikalien werden von Reagenten getrennt und werden daher nicht in Rohrleitungen, Ventilen usw. abgelegt....

ØKurze Länge zwischen Vorfahrer und Hohlraum (Verringerung der Möglichkeit, Leitungen zu verstopfen)

ØEinfache Bedienung (150 Menüs mit Standardrezept)

Warum?AnricTechnologie???

Weltweit MainstreamHersteller von ALD, wieDie ASM International N.V.， Beneq，Picosun， Oxford Instrumente，TEL usw. konzentrieren sich diese großen Anlagen auf industrielle ALD-Geräte.

AnricTechnologie： Konzentrieren Sie sich auf kleine Mini, DesktopALD-Geräte, einfache Bedienung, günstige Wartung, besonders für wissenschaftliche Nutzer geeignet.

Entwickler präsentieren:

von Philippe de Rouffignac,PhD-AbschlussAbsolvent vonHarvard University, Abteilung für ChemieDer Mentor.Prof. Roy Gordon, Während des Studiums wurden mehrere Designs entwickelt.ALD Geräte und in HarvardZentrum für Nanoskale-SystemeArbeit, während dereinschließlichEntwicklung von CVD/ALD-VorproduktenDanach wurde gegründet.Anric TechnologieFokussiert auf Mini und Desktop für LaborforschungDas ALD.