Pulveratomschicht Ablagerungssystem ALD

Modell: AT-200MPlus（PlasmaVerbesserung+ Ablagerung der thermischen Atomschicht）

Technische Parameter:

·Größe (L * W * H): 35,5 * 38,1 * 56,8 cm

·Pulverbeschichtung optional (Kapazität bis zu 10 cm^3)

·Proben mit 2 Zoll x 2 Zoll x 3 Zoll oder zwei 2 Zoll Scheiben (individuell anpassbare Scheiben und unsere Pulverbeschichtungsoption) platzierbar

·3 Vorlaufanschlüsse (1 MFC, 2 Tanks),6 optionale Ports(bis zu 2 MFC, 4 Tanks) mit Begleitleitung bis 150 °C (HT-Kit bis 180 °C)

·Plasma mit Hohlkathode (13,56RF, 80W)

·Belüftungs-Vortriebsgehäuse

·Schnelle Impulse gegen hohe Temperaturen ALDVentile,Integrierte Inertgasreinigung mit ultraschnellem MFC - Standard

·Vollständig Edelstahlkammer,Temperaturbereich bis 300°C

·Hohe Abdeckung im statischen Reaktionsmodus

·5-Zoll-Display mit integrierter SPS-Steuerung

·Inklusive lebenslange Software-Upgrades

·1 年保Reparatur

Optionen : Vakuumpumpe, 4 Anschlüsse, Ozongenerator (AT-03), Flaschenheizer, QCM, PC-Fernbedienung, ALD-Vorläufer, Handschuhgehäuse, HT-Kit (Vorläufer bis 180°C), Schaumstoff, Pulverspritzmaschine, Heizkasse (bis 450°C)

Eigenschaften:

1. Desktop ALD Atomschicht Ablagerung, kleine Fläche;

2. Heiß und aufrüstbar Plasmaverstärkung；

3. Die Pulverpackungsfunktion kann ausgewählt werden, besonders für Kunden im Bereich der Batterieforschung geeignet;

4. Volumen, das direkt in die Handschuhkasse eingesetzt werden kann, besonders geeignet für Kunden im Bereich der Batterieforschung;

Die Bedienung und Installation sind äußerst einfach und erleichtern den Betrieb von Experimenten durch verschiedene Mitarbeiter im Labor.

Anwendungsbereiche:

Besonders empfohlene Anwendungen im Energiebereich

1. Anwendungen im Bereich Lithium-Ionen-Batterien

Ablagerung der Atomschicht(ALD) hat aufgrund seiner koformalen Ablagerung und seiner einfachen und präzisen Membrandickenkontrolle große Vorteile und Anwendungsmöglichkeiten bei der nanoskaligen Filmverpackung von Nanostrukturen. Eine Vielzahl von Studien hat gezeigt, dass die Verwendung von ALD, um Elektrodenmaterialien in Nanofilm zu verpacken, das Batteriematerial effektiv modifizieren und die Batterieleistung verbessern kann. Darüber hinaus kann ALD verwendet werden, um positive, negative und feste Elektrolyte zur Herstellung von Lithium-Ionen-Batterien zu synthetisieren.

2. Anwendungen von ALD im Bereich der Solarzellen

Die Anwendung der ALD-Technologie im Bereich der Solarzellen umfasst hauptsächlich: Vorbereitung von nanostrukturierten Photoelektroden; ② Passivierung der Elektrodenoberflächenmodifikation; Empfindlichkeit der Elektrodenoberfläche durch Quantenpunkte oder Metallnanopartikel; ② Energieband-Regulierung von Farbstoffempfindlichen Solarzellen und Dünnfilm-Solarzellen.

3. Anwendungen von ALD im Bereich der Superkondensatoren

Die ALD-Technologie kann nicht nur zur Herstellung von Elektrodenaktiven Materialien mit hoher Verhältniskapazität verwendet werden, sondern auch zur Herstellung von Nanostrukturen, zur Stabilisierung und Verbesserung der Leistung von Elektrodenmaterialien, die im Bereich der hohen Kapazität und der hohen Stabilität von Superkondensatoren eine wichtige Rolle spielen.Rolle.

4. Anwendungen von ALD im Brennstoffzellenbereich

ALD hat eine Vielzahl von Anwendungen im Bereich der Brennstoffzelle: Hochaktive Katalysatoren für Brennstoffzellen können durch die Regulierung der Zusammensetzung des Metallkatalysators (wie bimetallische Nanopartikel) und der Größe der Metallnanopartikel erhalten werden; ② Ablagerung von Metallpartikeln auf der Nanostruktur zur Vorbereitung der Anode der Brennstoffzelle; ② Herstellung von leistungsstarken festen Elektrolyten, um die Arbeitstemperatur der Brennstoffzelle zu senken; Die Bildung einer Schutzschicht auf der Elektrodenoberfläche verbessert die Stabilität und Leistung der Batterie.

5. Anwendungen von ALD im Bereich der photoelektrochemischen Zersetzung von Wasser

Die ALD-Technologie kann aufgrund ihrer Wachstumseigenschaften nicht nur eine photoaktive Schicht vorbereiten, sondern auch eine leistungssteigernde oder stabilisierende Schicht auf der Photoelektrode absetzen, was einige Herausforderungen löst, die sich auf den Bereich der Zersetzung von Photoelektrochemischen Zellen auswirken.