Kompakte und wirtschaftliche ALD-Ablagerung

VerhandlungsfähigAktualisieren am02/06

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Diese ALD-Ablagerungsanlage eignet sich besonders für kleine Desktopgeräte für wissenschaftliche Anwender. Es ist wirtschaftlich und praktisch, einfach zu bedienen, stabil und zuverlässig, die Verbrauchsmaterialkosten nach dem Verkauf sind sehr niedrig, die Wartung ist einfach und einfach zu bedienen. ALD Experten Professorenlaboratorien sind weit verbreitet.

Produktdetails

Ausrüstung:
Das ALD-Ablagergerät,Kleine Desktopgeräte speziell für ForschungsanwenderEs ist wirtschaftlich und praktisch, einfach zu bedienen, stabil und zuverlässig in der Qualität, sehr niedrige Verbrauchsmaterialkosten nach dem Verkauf, bequeme Wartung und einfache Bedienung. Es wird bereits weit verbreitet in ALD-Experten-Professorenlaboren verwendet.

Das Entwicklungsteam präsentiert:

Das Gerät wurde von Professoren des renommierten ALD-Teams von Harvard, Professor Roy G. Grodon, entwickelt.

Roy G. Gordon, Professor für Chemie an der Harvard University. Die Forschungsfelder umfassen angewandte Mathematik, Physik, Chemie und Materialwissenschaften. Spezialfunktionen (Airy, Bessel, Weber, Dawson, Morse usw.) wurden auf dem Gebiet der angewandten Mathematik entwickelt und in Bereichen wie der Quantenmechanik und der chemischen Dynamik angewendet. Im Bereich der physikalischen Chemie wurde die „Gordon-Kim“ Tendenzfunktion vorgeschlagen, die zur präzisen Berechnung der Wechselwirkungskräfte zwischen Molekülen verwendet werden kann. Im Bereich der Materialwissenschaft hat sich Roy Gordon seit den 80er Jahren mit den Vorläufern und Prozessen der chemischen Gasphase-Ablagerung (CVD) und der Atomschichtenablagerung (ALD) beschäftigt und eine Reihe von Vorläufern entwickelt, die für den Anbau reiner Metalle, Metalloxide, Stickstoffe und Sulfide verwendet werden können und in der industriellen Produktion eingesetzt werden können. Technische Methoden von Roy Gordon, die derzeit in der Industrie eingesetzt werden, umfassen: CVD-Herstellung von Zinn-Oxid-/Siliziumdioxid-Mehrschichtmembranstrukturen für energiesparendes Fensterglas;Schnelle ALD-Vorbereitung von Nano-Al2O3/SiO2-Mehrschichtmembranen für Filtergeräte;ALD bereitet Titannitrid-Nanofilm für die Diffusionsbarriere von Kupfer- und Aluminium-Leitungen in Computerchips vor;CVD-Vorbereitung ITO-Film für Dünnfilm-Solarzellen; CVD-Vorbereitung von Aluminiumnitrid-Folien für die Anwendung auf den Leuchtbildschirmen.

Eigenschaften:

1. Das Gerät ist klein und klein,Besonders geeignet für Forschung mit hochvakuumigen und empfindlichen MaterialienEs gibt keine professionellen Reinraum Anforderungen, das kleinste Modell kann direkt in die Handschuhkosten eingesetzt werden. Es können auch verschiedene Verbindungsformen nach Bedarf und Handschuhkosten erstellt werden;

2. Die Ausrüstung eignet sich für Forschung auf wissenschaftlicher Ebene und kann mindestens 2 Zoll Substrat machen;

3. Pulverpackungen können durchgeführt werden;

4. Kann inAuswahl der Vor-Ort-Upgrade von Heat auf Plasma；

5. Bis zu fast hundert Unterlagen können auf Anfrage angepasst werden.

Bitte kontaktieren Sie uns sofort.

Nutzerfälle:

Harvard University, University of Helsinki (Herkunftsort von ALD), Northwestern University, University of Cambridge (Großbritannien), University of Oxford, Rice University, University of British Columbia (Kanada), ENS-Paris (Frankreich, Higher Normal School), National Institute of Materials Science (Japan, mehrere), Waseda University (mehrere), University of Tokyo, Beijing Quantum Research Institute, University of Beijing, University of Bristol (Großbritannien), Sheffield University und viele weitere

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