MKS ASTRON2L RPS Halbleiter Fernplasmaquelle

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Die MKS ASTRON2L RPS-Halbleiter-Remote-Plasmaquelle ist ein Schlüsselkomponent im Ablagerungs- und Ätzkammerreinigungsprozess der Halbleiterlinie, der die Ansammlung von Prozessnebenprodukten an den Kammerwänden beseitigt, die Lebensdauer der Prozesswerkzeuge verlängert und die Quelle der Dünnfilmverschmutzung reduziert.

Produktdetails

MKS ASTRON2L RPS Halbleiter FernplasmaquelleEs ist eine langfristig bewährte, leistungsstarke Fernplasmaquelle mit ausgezeichneter Leistung und hoher Zuverlässigkeit, eine Schlüsselkomponente des Ablagerungs- und Ätzkammerreinigungsprozesses, die die Ansammlung von Prozessnebenprodukten an der Kammerwand beseitigt, die Lebensdauer der Prozesswerkzeuge erhöht und die Quelle der Dünnfilmverschmutzung reduziert.Die ASTRON-Serie RPS ist weit verbreitet in der Reinigung von Halbleiterprozessen.Es kann in einer Vielzahl von Konfigurationen auf Siliziumplatten oder auf Prozessräumen mit großflächigen Substraten montiert werden. Die ASTRON-Serie RPS ist effektiver und kostengünstiger und bietet die erforderliche Reaktionsgaskammerreinigung für CVD-Kammerreinigung, FPD (Flachbildschirm-Display), Solarkammerreinigung, Photogravierkammerreinigung, Oxidation, Stickstoff und chemische Reduktion.

MKS ASTRON2L RPS Halbleiter FernplasmaquelleTechnische Parameter

Gerätenummer: Astron AX7657-85,P/N 0190-41326W

AC-Eingang: 208V ~, 3 Phasen ~, 50 / 60Hz, 30A

Wärmeabkühlung: Wasserkühlung

Wasserkühldruck: 100 PSIG (max.)

Kommunikationsschnittstelle: RS-232 / Cust I/O

MKS ASTRON2L RPS 半导体远程等离子源

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