GVC-2000T Hochvakuum Magnetron Ionen Spritzer

VerhandlungsfähigAktualisieren am01/27

Modell

Natur des Herstellers: Hersteller

Produktkategorie

Ursprungsort

Online Beratung

Übersicht

GVC-2000T Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Spritzer ist ein einfach zu handhabbarer Magnetron-Ionen-Spritzer, der den besten Gebrauchswert auf dem Markt für Beschichtungsmaschinen mit Automatisierungstechnik bietet. Es wird für die Vorbehandlung von nicht leitfähigen Proben verwendet, um die 3D-Bildschirmauflösung, die Leitfähigkeit der Probe zu verbessern, die elektronische Ladung zu verringern und Lichtschäden an empfindlicheren Proben zu verringern.

Produktdetails

高真空磁控离子溅射仪

GVC-2000T Hochvakuum Magnetron Ionen SpritzerEs ist ein einfach zu bedienender Magnetron-Ionensputtergerät, der den besten Gebrauchswert für Beschichtungsmaschinen der Automatisierungstechnologie auf dem Markt bietet. Es wird für die Vorbehandlung von nicht leitfähigen Proben verwendet, um die 3D-Bildschirmauflösung, die Leitfähigkeit der Probe zu verbessern, die elektronische Ladung zu verringern und Lichtschäden an empfindlicheren Proben zu verringern.

I. Beschreibung

Vollautomatische Wissensprodukte;

2, keine Wärmeschäden, höhere Effizienz, feinere Partikelgröße, besser geeignet für hochauflösende Elektroskope.

II. Grundprinzipien

Leitfähige Rohstoffe wie Pt-Pd, Pt, Au und Pd werden auf das Gerät auf der Probenoberfläche aufgetragen. Darüber hinaus werden nichtleitbare Proben zur Datenvisualisierung unter dem Transmissionselektroskop verwendet, um die Oberfläche der Probe vor Einführung von Ionenstrahlen zu schützen und die Mobilität von Elektronikgeräten zu unterstützen. Sie können sogar als Kunststoff-dünnfilm-elektrische Klasse erzeugt werden.

III. Anwendungsbereiche

1, hochauflösende Scan-Elektroskop-Probenvorbereitung (tatsächliche Vergrößerung ≥ 100K);

2, Elektrodenvorbereitung - können verschiedene Metallelektroden, ITO-Elektroden vorbereitet werden.

Ausrüstung und technische Parameter

Modell&Name	GVC-2000T Hochvakuum Magnetron Ionen Spritzer
Vakuumsystem	Turbomolekularpumpe (importiert): Leipzig 90i (Monomagnetische Suspensionspumpe mit einer Pumpgeschwindigkeit von 90 L/s) Rotationspumpe: Zhejiang fliegt über VRD-4 (Pumpgeschwindigkeit 1,1 L/s)
Vakuummessung	Komplexvakuumregler (importiert): 1.0E5Pa-1E-4Pa
Systemextremvakuum	≤5E-3Pa
Spritzstromversorgung	Magnetron Spritzleistung, Leistung 150W
Verfügbare Ziele	Alle Metallziele, ITO-Ziele
Spritzspannung	300-600V, Abhängig von Zielauswahl und Steuerparametern
Spritzstrom	0-200mA kontinuierlich einstellbar, Schrittlänge 5mA
Spritzzeit	0-9999s, Kontinuierlich einstellbare Schrittlänge 1s
Bedienungsschnittstelle	7-Zoll-TFT-Farb-LCD-Touchscreen, Auflösung 800 x 480
Betriebsweise	Ein-Klick-Operation
Pumpenschlag	<15 Minuten
Kontrollmethode	Einfach Spritzstrom und -zeit einstellen, vollautomatische Steuerung Vorsputterblech (Vorsputterzeit einstellbar), vollautomatische Steuerung
Schutzfunktionen	Verriegelung von Software und Hardware, Verhinderung von Fehlbetrieb, Strom, Vakuumschutz usw.
Durchmesser der Probe	φ125mm， Drehbar, automatisch manuell steuerbar, Drehzahl 4-40rpm einstellbar
Vakuumkammer	Hoch Siliziumborglas, spezifische Größe ca. φ200 × 130mm
Stromversorgung	220V 50Hz Leistung 800W
Größe & Gewicht	Gewicht 424 (Länge) x 345 (Tiefe) x 420mm (Höhe), 25 kg (Nettogewicht)
Kühlungsart	Innenluftkühlung
Auswahl	Probenauswahl, Membrandückensteuerung, Temperaturüberwachung usw.