GVC-2000 Magnetron Ionensputtergerät

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Der GVC-2000 Magnetron Ionensputtergerpartikel ist kleiner und besser geeignet für die hochdoppelte Bildbeobachtung, die sich an Feld-Emission / hochauflösendes Feld-Emissionselektroskop anpasst.

Produktdetails

GVC-2000 Magnetron IonensputtergerätBeschreibung

Grundsätzlich kein Temperaturanstieg, keine Wärmeverluste auf der Probenoberfläche.

GVC-2000磁控离子溅射仪

GVC-2000 Probenaufnahme Diagramm Andere Probenaufnahme Geräte Diagramm

Die oben genannten beiden Bilder sind das Elektroskop-Bild der Filterfilm-Probe, das linke Bild ist das Elektroskop-Beobachtungsbild des GVC-2000 nach dem Spritzen von Gold, kann man sehen, dass die Form der Probe wirklich vollständig ist, das rechte Bild ist das Elektroskop-Beobachtungsbild der anderen Geräte nach dem Spritzen von Gold, kann man sehen, dass die Hitzeschäden schwer sind, fast nicht als die gleiche Probe erkennbar sind.

Die Partikel sind kleiner und besser geeignet für die Bildbeobachtung mit hoher Vergrößerung und passen sich an Feld-Emission-/Hochauflösungs-Feld-Emissionselektroskope an.

GVC-2000磁控离子溅射仪

Goldpartikelgröße: 6-10nm

GVC-2000磁控离子溅射仪

Keramikfilm, Beschichtungsmaterial Pt, 100.000 Mal Bild, kein Partikelgefühl Filterfilm Material, Beschichtungsmaterial Pt, 200.000 Mal Bild, kein Partikelgefühl.

GVC-2000 Magnetron IonensputtergerätNiedrigspannung Großstrom Spritzen, höhere Effizienz.

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