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Gebäude 3A-1801, Hengtaiyu Building, Tonghui Road, Tongtai Community, Phoenix Street, Guangming District, Shenzhen
Shenzhen Vector Science Instrument Co., Ltd
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RZJ-304LichtgravierkleberEs ist positiv von Suzhou Ruihong hergestellt.LichtgravierkleberHier ist eine detaillierte Beschreibung:
Bestandteil
Es besteht hauptsächlich aus Propylenol-Methyletheracetat, Methanol-Formalphenol-Harz (CAS-NO.9016-83-5, Konzentration 21%), 6-Schwerstoff-5,6-Diwasserstoff-5-Oxid-1-Naphthalsulfonsäure und 2,3,4-Trihydroxydibenzon-Ester (CAS-NO.68510-93-0, Konzentration 6%).
Leistungsmerkmale
Hohe Gravur-Genauigkeit: In der Lage, feinere Gravur-Muster zu erreichen, Linienbreite und Abstand können kleinere Größen erreichen, geeignet für Mikronano-Bearbeitungsprozesse, die eine hohe Gravur-Genauigkeit erfordern, wie die Fertigung von integrierten Schaltungen, die Verarbeitung von Mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) und anderen Bereichen.
Gute Auflösung: Mit einer besseren Auflösung, in der Lage, die Grafik auf der Maskenplatte auf den Boden zu übertragen, kann auch für komplexe grafische Strukturen besser dargestellt werden, was zur Herstellung von Mikronanogeräten mit hoher Präzision und hoher Leistung beiträgt.
Starke Prozessanpassung: Sie können sich an eine Vielzahl von Lichtgravur-Prozessbedingungen wie unterschiedliche Belichtungsenergie, Darstellungszeit usw. anpassen. In einem bestimmten Prozessparameterbereich können stabile und zuverlässige Lithographieffekte erzielt werden, was es zu einer besseren Anwendungsflexibilität unter verschiedenen Produktionsumgebungen und Prozessanforderungen macht.
Bessere Bindung an die Substrate: mit den üblichen Halbleiter-Substrate-Materialien, wie Silizium, etc., hat eine gute Haftung, kann fest an der Substrate-Oberfläche befestigt werden, ist nicht einfach während der Lithographie auftretenLichtgravierkleberDas Phänomen des Abfallens oder der Entfernung gewährleistet die Integrität und Genauigkeit des Gravurmusters.
technische Parameter
Viskosität: 25mpa·s und 50mpa·s verfügbar.
Bildschirm: RZX-3038.
Empfohlene Prozessbedingungen
Beschichtung: Temperatur 23 ° C, die Methode der Rotationsbeschichtung verwendet, kann eine Membrandicke von 1,0 bis 3,5 μm erhalten.
Vorbacken: 90 Sekunden auf einer Platte bei 100°C backen.
Belichtung: Belichtungsenergie von 50 bis 75 mj/cm².
Darstellung: Verwenden Sie die RZX-3038 bei 23 °C für eine Darstellungszeit von 1 Minute und können entweder durch Spray oder Immersion verwendet werden.
Reinigung: 30 Sekunden lang mit deionisiertem Wasser reinigen.
Nach dem Backen: 120 Sekunden auf einer Heißplatte bei 120 ° C backen.