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Shenzhen Vector Science Instrument Co., Ltd
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12 Zoll vertikaler mittlerer Hochtemperatur-Oxidator

VerhandlungsfähigAktualisieren am05/07
Modell
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Hersteller
Produktkategorie
Ursprungsort

Übersicht

Der 12 Zoll vertikale Mittel- und Hochtemperatur-Oxidator THEORIS X302H wird hauptsächlich für 12 Zoll 1000 ℃-1200 ℃ Hochtemperatur- und Ultrahochtemperatur-Oxidations- und Brennprozesse verwendet. Die Maschine ist ein vertikales Einkammerrohrsystem und ermöglicht eine hohe Automatisierung der Prozessverarbeitung. Das System besteht hauptsächlich aus Übertragungsmodulen, Prozessmodulen, Stromschränken und anderen Teilen. THEORIS X302P wird hauptsächlich für 12-Zoll-Oxidations- und Hitzprozesse bei 600 °C bis 1000 °C verwendet. Die Maschine ist ein vertikales Einkammerofenrohrsystem, der Prozessverarbeitungsprozess erreicht ein hochautomatisiertes System, das hauptsächlich aus Übertragungsmodulen, Prozessmodulen, Stromschränken und anderen Teilen besteht.

Produktdetails

1. Produktübersicht:

Der Theoris X302Hauptsächlich verwendet12 Zoll 600 ℃ -1200°C Oxidations- und Brennprozess. Die Maschine ist ein vertikales Einkammerrohrsystem und ermöglicht eine hohe Automatisierung der Prozessverarbeitung. Das System besteht hauptsächlich aus Übertragungsmodulen, Prozessmodulen, Stromschränken und anderen Teilen.

2. GerätAnwendung:

Wafer Größe

12 Zoll.

Anwendungsmaterial

Silizium

Anwendungsverfahren

Hochtemperatur trocknen/ Nasse Oxidation, DCE Oxidation, Stickstoffoxidation, Hochtemperatur

Anwendungsbereiche

Fortgeschrittene integrierte Schaltungen, Leistungshalbleiter, Unterlagen

3. Besondere Parameter:

Der nasse Oxidationsprozess besteht darin, Wasserdampf zur Oxidationsreaktion in Sauerstoff hinzuzufügen. Norden Die Ausrüstung des THEORIS X302 Oxidatorfes leistet sich bei der Nassoxidierung hervorragend. Es ist in der Lage, den Wasserdampfgehalt und die Eingangsweise genau zu steuern, um die Wachstumsrate und die Qualität der Oxidfolie genau zu regulieren. Bei der Temperaturregelung hat es auch hohe Präzisionseigenschaften, um sicherzustellen, dass Siliziumflatten in einer feuchten Sauerstoffumgebung gleichmäßig erwärmt werden und somit eine gleichmäßige, dichte Oxidfolie bilden. Die Regulierung des Gasflusses ist auch sehr präzise und kann das Verhältnis von Sauerstoff und Wasserdampf flexibel an die Prozessanforderungen anpassen, um den speziellen Anforderungen verschiedener Produkte an den nassen Sauerstoffoxidationsprozess gerecht zu werden. Durch ihre hervorragende Prozessstabilität und Wiederholbarkeit sind die Ergebnisse des nassen Oxidationsprozesses vorhersehbar und zuverlässig.

4.Ausrüstungsmerkmale

Fortgeschrittene Partikelkontrolltechnologie

Fortgeschrittene Technologie zur Kontrolle der Metallverschmutzung

Hochpräzise Temperaturfeldsteuerung

Unterstützung für schnelle Erhöhung/ Kühltechnik

Hohe Produktivität