UV-Nanodrucker

EVG^®610 UV Nanoimprint Lithographie System

EVG ® 610 UV-Nano-Druck-Lithographie-System

Universelles R&D-Maskenausrichtungssystem mit UV-Nanodruck, von kleinen bis zu großen Stücken150 mm

Technische Daten

Das Werkzeug unterstützt eine Vielzahl von Standard-Lithographieprozessen wie Vakuum-, Weich-, Hart- und Nahbelichtungsmodi und kann eine Rückausrichtung auswählen. Darüber hinaus bietet das System zusätzliche Funktionen für multifunktionale Konfigurationen, einschließlich der Bindungsausrichtung und der Nano-Druckphotogravur (NIL).

Der EVG610 bietet schnelle Bearbeitungs- und Neuinstallation-Tools, um die Anforderungen des Benutzers zu ändern, und die Umstellungszeit zwischen Lithographie und NIL beträgt nur wenige Minuten. Sein fortschrittliches Multi-User-Konzept passt sich allen Anforderungen von Anfängern bis hin zu Fachleuten an und macht es daher ideal für Universitäts- und Forschungs- und Entwicklungsanwendungen.

Für den Druckprozess,Der EVG610 ermöglicht eine breite Palette von kleinen Chipgrößen bis hin zu einem Durchmesser von 150 mm. Die Konfiguration von Nanotechnologieanwendungen kann neben programmierbaren hohen und niedrigen Berührungskräften auch einen Freigabemechanismus für Briefmarken umfassen. Das proprietäre Design der EV Group bietet eine gleichmäßige Berührungskraft für hohe Druckleistungen und unterstützt sowohl weiche als auch harte Druckformen.

Eigenschaften

Ober- und Unterausrichtung

Hochpräzise Ausrichtung

Automatischer Keilfehlerkompensationsmechanismus

Belichtungslücke für elektrische und Rezeptursteuerung

unterstützenneuderUV-LED Technologie

Minimierung von Systemfläche und Anlagenanforderungen

Schritt für Schritt

Ferne technischer Support

Mehrbenutzerkonzept (unbegrenzte Anzahl von Benutzerkonten und Rezepten, zuweisbare Zugriffsrechte, verschiedene Benutzeroberflächensprachen)

Agile Umstellung zwischen Bearbeitung und Lithographie; Tisch- oder Einzelmaschinenversion mit schockdichtem Granittisch

Zusatzfunktionen: Tastenausrichtung, Infrarotausrichtung, Nanopressur, µ-Kontaktdruck

Technische Daten

Wafer-Durchmesser (Grundplattengröße) Standard-Gravur: groß150 mm Stücke; weichUV-NIL: Große 150 mm Stücke

Auflösung ≤40 nm (Auflösung abhängig von Vorlage und Prozess)

Unterstützungsprozesse

Weich.UV-NIL

Belichtungsquelle: Quecksilber oder UVLED Lichtquelle

Automatische Trennung: nicht unterstützt;

Arbeitsstempel Herstellung: Außen;