Quantum X shape Dual-Photon-Maskenlose Lithographie

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Das Quantum X shape Doppelphotonen-Maskenlose-Lithographie-System ist ein wahrhaft allseitiges Modell. Das System basiert auf der Dual-Photon-Polymerisation-Technologie und ist nicht nur das beste Modell für die schnelle Formgebung, sondern eignet sich auch für die Massenproduktion von 2,5D- und 3D-Formen mit jeder Submikron-Genauigkeit auf dem Wafer. Mit dem neuen Quantum X shape können Sie jede 2,5D- und 3D-Mikronanostruktur drucken und eine echte Designfreiheit bieten. Dieses System ermöglicht Ihnen eine Vielzahl von Strukturen mit hohen Höhenverhältnissen.

Produktdetails

Als führendes 3D-Drucksystem seiner Klasse

Quantum X Form Druckbar in jeder Form mit einer Mindestgröße von bis zu 100 nm(R)ein)Weniger als 5 nm, maximale Fläche bis zu 25 cm

Ein Drucksystem mit automatischem Tropfenmodul ermöglicht eine Übernachtungseffizienz von bis zu 200 Charakterstrukturen.

Universelles Hochleistungs-Doppelphotonen-Polymer für Polymer- und Glasdruck.

Präzision neu gestalten.

Als von der Industrie anerkanntNanoscribeDie zweite Generation der Quantum X-Plattform,Quantum X shape Dual-Photon-Maskenlose LithographieEigentümer im Bereich der 3D-MikronanobearbeitungErstaunlich hochGenauigkeit im Vergleich zuNanoscribeUnternehmen bahnbrechend bei OberflächenstrukturanwendungenDoppelphotonische Graustufen(2GL ®)。 Ganz neu.Quantum X FormDie hohe Präzision hängt von der höchsten Fähigkeit der Isotin-Modulationsverhältnisse und der ultrafeinen Verarbeitung von Gittern ab, wodurch die Subisotin-Größenkontrolle erreicht wird. Außerdem profitieren vonDoppelphotonische GraustufenDurch die feine Einstellung des Bodens erreicht das System eine ultraglatte Herstellung von Oberflächenmikrostrukturen, während eine hochpräzise Formenkontrolle aufrechterhalten wird.

Ausgabe neu gestalten.

Quantum X shape Dual-Photon-Maskenlose LithographieNicht nur in der Biomedizin, Mikrooptik, MEMS、 Das ideale Werkzeug für die schnelle Prototypierung von Geräten in Mikrokanalen, Oberflächentechnik und vielen anderen Bereichen ist gleichzeitig ein einfaches Werkzeug für die Massenproduktion kleiner Wafer-basierter Struktureinheiten.

Usability neu gestalten.

Die Funktionalität der Druckdateien wird durch eine integrierte Touchscreen-Steuerung erheblich verbessert. Durch die im System enthaltene nanoConnectX-Software wird die Fernüberwachung von Druckdateien und die Konfiguration für mehrere Benutzer ermöglicht, um die industrielle Standardisierung und die effiziente Wafer-basierte Produktion zu fördern.

Hauptmerkmale:

* Nanoskala-Druck: Charakteristik-Skala-Steuerung in beliebiger Raumrichtung bis zu 100nm

* Hochgeschwindigkeits-3D-Mikronanobearbeitung mit Ultra-Fast-Physin-Steuerung und 100nm-Bearbeitungsgitter

* Vibroskopische Bahnsteuerung garantiert die Genauigkeit der Bahn bei der schnellsten Scangeschwindigkeit

* Hochpräzise Laserenergiesteuerung und -positionierung durch automatisierte Selbstkalibrierungswege

* Große Auswahl an bis zu 6-Zoll-Substraten und Siliziumflatten

* Industrielle Serienproduktion: Übernachtungsproduktion von 200 Standard-Skalen-Strukturen

* Touchscreen und Fernbedienung für Praxis und Erlebnis

* Schnelle Prototypierung, hohe Präzision, hohe Entwurfsfreiheit, einfache und klare Arbeitsabläufe

* Industriegeprüfte Wafer-Serienproduktion

* Allgemeines und spezielles Druckmaterial

* Kompatibel mit eigenständigen und Drittanbieter-Druckmaterialien

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