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Zimmer 108, 26 Gafeng Road, Pudong New District, Shanghai
Nanoscribe 3D Technologie (Shanghai) Co., Ltd.
cui@nanoscribe.com
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Neue Quantum X align zur Ausrichtung von Doppelphotonen (A2PL)®Das System ermöglicht eine präzise Platzierung von hochpräzisen Strukturen durch die neu hinzugefügte Hochpräzisionsausrichtung, die die bereits allgemein anerkannte dreidimensionale Nano-Bearbeitungstechnologie von Nanoscribe verbessert. Dieses hochauflösende Druckgerät mit einer 3D-Druckausrichtung auf Nanoskala-Präzision nutzt die A2PL-Technologie, mit der freie Mikrooptik-Originale mit einer Submikrometer-Präzision auf die optische Achse von Fasern oder Photonenchips ausgerichtet werden können. Kann zur Herstellung effizienter optischer Interkonnektivitäten für die Photonenintegration und -verpackung oder miniaturisierte Bildoptik verwendet werden, z. B. für minimal invasive Endoskopie.
Die Verpackung von integrierter Fotonik oder miniaturisierten medizinischen Geräten erfordert in der Regel eine mühsame Platzierung verschiedener mikrooptischer Komponenten untereinander und eine Ausrichtung der optischen Schnittstelle A2PL. Das Quantum X align vereinfacht diesen Prozess und die A2PL-Technologie ermöglicht die automatische Erkennung der optischen Schnittstelle und ihrer räumlichen Richtung auf einem Photonenchip oder einem Faserkern sowie den Druck von Mikrooptik- oder Diffraktionselementen auf freien Flächen direkt an Ort und Stelle. Kompaktere Geräte werden gleichzeitig reduziert und die Komplexität der Prozesskette erheblich verringert, wodurch der ursprünglich aufwendige manuelle Ausrichtungsprozess vermieden wird.
Beim Druck auf Single-Crack- oder V-Slot-Faserarrangements sorgen das automatische 3D-Faserkarnerkennungssystem und die automatische Neigungskorrektur für eine genaue Ausrichtung und geringe Kopplungsverluste.
Quantum X align verfügt außerdem über ein confocal imaging-Modul für die 3D-Komposition der Grundtopologie und kann automatisch vordefinierte Marker oder Wellenleiter ausrichten. Dadurch kann Quantum X align mikrooptische Komponenten direkt auf die Oberfläche oder die Fläche des Photonenchips drucken.wirksamWerkzeuge für Photonenverpackungen in der industriellen Fertigung.
3D-Ausrichtungssysteme mit nanoskalarer Genauigkeit in Kombination mit leistungsstarken und benutzerfreundlichen Workflows eröffnen neue Möglichkeiten für andere Mikronanobearbeitungsanwendungen außer der dreidimensionalen Mikronanooptik. Von Mikroflüssigkeiten bis hin zu komplexen Sensorsystemen oder MEMS: Quantum X align ist eine hochpräzise 3D-MikronanobearbeitungwirksamWerkzeuge zur automatisierten Positionierung auf komplexen 3D-Substraten mit höchster Genauigkeit.
Hochleistungsstarke 3D-Mikronanobearbeitung durch die ausgerichtete Dual-Photon-Lithographie (A2PL)
3D-Druck auf Fasern: Präzise Ausrichtung des Drucks auf der Faseroberfläche basierend auf der Faserkernerkennung
3D-Druck auf Chips: Präzise Ausrichtung des Drucks auf der Oberfläche oder der Fläche des Chips basierend auf einer 3D-Basistopologie
3D-Ausrichtungstechnik: Automatische Erkennung und Kompensation der Neigung der Unterlage auf drei Drehachsen
Hochgeschwindigkeits-Mikronano-Bearbeitung Intelligentes Schneiden
Hochpräziser 3D-Druck auf Basis von Doppelphotonen-Polymerisation (2PP)
Einfache und zuverlässige Einrichtung mit Dip-in Lasergravur (DiLL)
100 nm Eigenschaften Größensteuerung
Die ausgerichtete Dual-Photon-Lithographie (A2PL) ermöglicht einen präzisen 3D-Druck an vordefinierten Positionen
