Willkommen Kunden!

Mitgliedschaft

Hilfe

Nanoscribe 3D Technologie (Shanghai) Co., Ltd.
Kundenspezifischer Hersteller

Hauptprodukte:

instrumentb2b>Produkte
Produktkategorien

Nanoscribe 3D Technologie (Shanghai) Co., Ltd.

  • E-Mail-Adresse

    cui@nanoscribe.com

  • Telefon

    13917994506

  • Adresse

    Zimmer 108, 26 Gafeng Road, Pudong New District, Shanghai

Kontaktieren Sie jetzt

Nanoscribe QX-Serie Dual-Photonen-Maskenloses Photograviersystem

VerhandlungsfähigAktualisieren am01/16
Modell
Natur des Herstellers
Hersteller
Produktkategorie
Ursprungsort
Übersicht
Nanoscribe QX-Serie Dual-Photon-Maskenloses Photograviersystem - Quantum X align verfügt über die ausgerichtete Dual-Photon-Photograviertechnologie A2PL Es ermöglicht eine genaue Ausrichtung im Nanometer-Maßstab auf Faser- und Photonenchips.
Produktdetails

Nanoscribe QX-Serie Dual-Photonen-Maskenloses PhotograviersystemHöchste Auflösung
A2PL ® Technologie 3D-Druck für die Präzisionsausrichtung auf Nanoskala

Neue Quantum X align zur Ausrichtung von Doppelphotonen (A2PL)®Das System ermöglicht eine präzise Platzierung von hochpräzisen Strukturen durch die neu hinzugefügte Hochpräzisionsausrichtung, die die bereits allgemein anerkannte dreidimensionale Nano-Bearbeitungstechnologie von Nanoscribe verbessert. Dieses hochauflösende Druckgerät mit einer 3D-Druckausrichtung auf Nanoskala-Präzision nutzt die A2PL-Technologie, mit der freie Mikrooptik-Originale mit einer Submikrometer-Präzision auf die optische Achse von Fasern oder Photonenchips ausgerichtet werden können. Kann zur Herstellung effizienter optischer Interkonnektivitäten für die Photonenintegration und -verpackung oder miniaturisierte Bildoptik verwendet werden, z. B. für minimal invasive Endoskopie.


Von der Ausrichtung zum Drucken in einem Schritt

Die Verpackung von integrierter Fotonik oder miniaturisierten medizinischen Geräten erfordert in der Regel eine mühsame Platzierung verschiedener mikrooptischer Komponenten untereinander und eine Ausrichtung der optischen Schnittstelle A2PL. Das Quantum X align vereinfacht diesen Prozess und die A2PL-Technologie ermöglicht die automatische Erkennung der optischen Schnittstelle und ihrer räumlichen Richtung auf einem Photonenchip oder einem Faserkern sowie den Druck von Mikrooptik- oder Diffraktionselementen auf freien Flächen direkt an Ort und Stelle. Kompaktere Geräte werden gleichzeitig reduziert und die Komplexität der Prozesskette erheblich verringert, wodurch der ursprünglich aufwendige manuelle Ausrichtungsprozess vermieden wird.

Ausrichtung von Faser- und Photonenchips

Beim Druck auf Single-Crack- oder V-Slot-Faserarrangements sorgen das automatische 3D-Faserkarnerkennungssystem und die automatische Neigungskorrektur für eine genaue Ausrichtung und geringe Kopplungsverluste.
Quantum X align verfügt außerdem über ein confocal imaging-Modul für die 3D-Komposition der Grundtopologie und kann automatisch vordefinierte Marker oder Wellenleiter ausrichten. Dadurch kann Quantum X align mikrooptische Komponenten direkt auf die Oberfläche oder die Fläche des Photonenchips drucken.
wirksamWerkzeuge für Photonenverpackungen in der industriellen Fertigung.

Ihre Ideen genau umsetzen

3D-Ausrichtungssysteme mit nanoskalarer Genauigkeit in Kombination mit leistungsstarken und benutzerfreundlichen Workflows eröffnen neue Möglichkeiten für andere Mikronanobearbeitungsanwendungen außer der dreidimensionalen Mikronanooptik. Von Mikroflüssigkeiten bis hin zu komplexen Sensorsystemen oder MEMS: Quantum X align ist eine hochpräzise 3D-MikronanobearbeitungwirksamWerkzeuge zur automatisierten Positionierung auf komplexen 3D-Substraten mit höchster Genauigkeit.


Nanoscribe QX-Serie Dual-Photonen-Maskenloses PhotograviersystemTechnische Parameter
  • Hochleistungsstarke 3D-Mikronanobearbeitung durch die ausgerichtete Dual-Photon-Lithographie (A2PL)

  • 3D-Druck auf Fasern: Präzise Ausrichtung des Drucks auf der Faseroberfläche basierend auf der Faserkernerkennung

  • 3D-Druck auf Chips: Präzise Ausrichtung des Drucks auf der Oberfläche oder der Fläche des Chips basierend auf einer 3D-Basistopologie

  • 3D-Ausrichtungstechnik: Automatische Erkennung und Kompensation der Neigung der Unterlage auf drei Drehachsen

  • Hochgeschwindigkeits-Mikronano-Bearbeitung Intelligentes Schneiden

Druckverfahren und Arbeitsabläufe
  • Hochpräziser 3D-Druck auf Basis von Doppelphotonen-Polymerisation (2PP)

  • Einfache und zuverlässige Einrichtung mit Dip-in Lasergravur (DiLL)

  • 100 nm Eigenschaften Größensteuerung

  • Die ausgerichtete Dual-Photon-Lithographie (A2PL) ermöglicht einen präzisen 3D-Druck an vordefinierten Positionen


image.png