NS3800 Hochgeschwindigkeits-3D-Laser-Kofokussmikroskop

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Übersicht

Das NS3800 High-Speed 3D Laser Cofocus Mikroskop ist ein Hochgeschwindigkeits-3D-Mikroskop, das von Nanoscope Systems in Südkorea speziell für das Institute for Low-Dimensional Materials entwickelt wurde. Im Vergleich zu herkömmlichen 3D-Sondenprofiliergeräten verwendet der NS3800 einen 405nm-Laser als Lichtquelle, um eine schädigungsfreie Prüfung durchzuführen und keinen direkten Kontakt mit der Oberfläche der Probe zu haben, so dass die Oberfläche der Probe nicht beschädigt wird und die Messgenauigkeit weit höher ist als das Sondenprofiliergerät.

Produktdetails

NS3800 Hochgeschwindigkeits-3D-Laser-KofokussmikroskopEs ist ein präzises und zuverlässiges dreidimensionales (3D) Messhochgeschwindigkeits-konfokales Laserscannmikroskop (CLSM). Echtzeit-konfokus-Mikrobild durch schnelle optische Scan-Module und Signalverarbeitungsalgorithmen. Eigentümer von * Lösungen zur Messung und Erkennung von mikroskopischen dreidimensionalen Strukturen wie Halbleiterchips, FPD-Produkte, MEMS-Geräte, Glassubstrate, Materialoberflächen usw.

Features & Benefits (Leistung und Vorteile):

Hochauflösende schädigungsfreie optische 3D-Messung Automatische Neigungskompensation

Echtzeit-konfokale Bildgebung Einfache Datenanalyse

Vielfältiger optischer Zoom Doppel-Z-Scan

Vielfältige Spleizungen Eigenschaften von durchsichtigen Substraten

Echtzeit-CCD-Lichtfeld- und Kofokus-Bildgebung Keine Probenvorbereitung

Automatischer Fokus

Anwendungsfeld (Application Field):

Der NS-3500 ist eine vielversprechende Lösung für die Messung niederdimensioneller Materialien.

Höhe, Breite, Winkel, Fläche und Volumen von Mikron- und Submikron-Strukturen messen können, z. B.

- Halbleiter: IC-Grafik, Konkubenzhöhe, Spulenhöhe, Fehlererkennung, CMP-Prozess

- FPD-Produkte: Touchscreen-Bildschirmerkennung, ITO-Muster, LCD-Säulenabstandshöhe

- MEMS-Geräte: Strukturelle dreidimensionale Konturen, Oberflächenrauhe, MEMS-Grafik

- Glasoberfläche: Dünnfilm-Solarzellen, Solarzellen-Textur, Lasermuster

- Materialforschung: Schimmeloberflächendetektion, Rauheit, Rissanalyse

Dimension (Größe):

NS3800 Hochgeschwindigkeits-3D-Laser-KofokussmikroskopSpezifikation (Specification):

Modell	Mikroskop NS-3800					Bemerkung
Objektivvergrößerung		10x	20x	50x	100x
Beobachtungs-/Messbereich	Höhe (H): μm	1400	700	280	140
	垂直 (V): μm	1050	525	210	105
Arbeitsbereich: mm		16.5	3.1	0.54	0.3
Numerischer Durchmesser (N.A.)		0.30	0.46	0.80	0.95
Optischer Zoom		x1 bis x6
Gesamtvergrößerung		178x to 26700x
Beobachtungs-/Messoptik		Needle Loch Kofokuss Optik System
Höhenmessung	Scanbereich messen	Feine Abtastung: 100 μm (und/oder) Lange Abtastung: 7 mm [NS-3800L]				Anmerkung 1
		Feine Abtastung: 400 μm (und/oder) Lange Abtastung: 10 mm [NS-3800D]
		Feine Abtastung: 200 μm (und/oder) Lange Abtastung: 10 mm [NS-3800T]
	Anzeigeauflösung	0,001 μm
	Wiederholungsrate σ	0,010 μm				Anmerkung 2
Breitenmessung	Anzeigeauflösung	0,001 μm
	Wiederholungsrate 3σ	0,02 μm				Anmerkung 3
Frame-Speicher	Pixel	1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96
	Einfarbiges Bild	12 Bit
	Farbbilder	8-Bit für RGB jeweils
	Höhenmessung	16 Bit
Bildrate	Oberflächenscanning	20 Hz bis 160 Hz
	Linie-Scan	bis 8 kHz
Automatische Funktionen		Automatischer Gewinn
Laserkonfokus-Messlichtquelle	Wellenlänge	405 nm
	Ausgabe	~ 2mW
	Laserklasse	Klasse 3b
Laser-Empfangselemente		PMT (Photomultiplikator)
Optische Beobachtungslichtquellen	Lampe	LED von 10W
Optische Beobachtungskamera	Bildgebungskomponenten	1/2" Farbbild CCD-Sensor
	Auflösung aufzeichnen	640x480
	Automatische Anpassung	Gewinn, Verschlussgeschwindigkeit, Weißgewicht
Datenverarbeitungseinheiten		PC
Stromversorgung	Spannung	100 to 240 VAC, 50/60 Hz
	Strom	500 VA max.
Gewicht	Mikroskop	ca. ~50 kg (Messkopfenheit: ~12 kg)
	Controller	~ 8 kg
Isolierungssystem		Luftschwimmende Isolationssysteme				Option

Hinweis 1: Die feine Abtastung wird durch einen piezoelektrischen Aktor (PZT) durchgeführt.

Anmerkung 2: Durchführen Sie 100 Messungen der Standardprobe (Schrittlänge 1 μm) mit einem Objektiv von 100 x / 0,95.

Anmerkung 3: Durchführen Sie 100 Messungen der Standardprobe (5 μm Abstand) mit einem Objektiv von 100 x / 0,95.

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