NS3500 Solar Halbleiterwafer Qualitätsprüfsystem

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Das NS-3500 Solar ist ein zuverlässiges Halbleiterwafer-Detektionssystem. Echtzeit-konfokus-Mikrobild durch schnelle optische Scan-Module und Signalverarbeitungsalgorithmen. Eine Vielzahl von Lösungen zur Messung und Erkennung von mikroskopischen dreidimensionalen Strukturen wie Halbleiterchips, FPD-Produkte, MEMS-Geräte, Glassubstrate, Materialoberflächen usw.

Produktdetails

NS3500 Solar Halbleiterwafer Qualitätsprüfsystem

Das NS-3500 Solar ist ein zuverlässiges Halbleiterwafer-Detektionssystem. Echtzeit-konfokus-Mikrobild durch schnelle optische Scan-Module und Signalverarbeitungsalgorithmen. Bei der Messung und Erkennung von mikroskopischen dreidimensionalen Strukturen kann eine Vielzahl von Halbleiterchips, FPD-Produkte, MEMS-Geräte, Glassubstrate, Materialoberflächen usw. zur Verfügung gestellt werdenLösungen.

Eigenschaften & Vorteile(Leistung und Vorteile):

Hochauflösende schädigungsfreie optische 3D-Messung Automatische Neigungskompensation
Echtzeit-FokusbildgebungEinfache Datenanalyse
Viele optische ZoomsDoppel-Z-Scan

大范围拼接Charakteristikerkennung von halbtransparenten Substraten
EchtzeitCCD-Lichtfeld- und KofokussbilderungKeine Probenbereitung
Automatischer Fokus

Anwendungsfeld(Anwendungsbereich):

Der NS-3500 ist eine vielversprechende Lösung für die Messung niederdimensioneller Materialien.

Höhe, Breite, Winkel, Fläche und Volumen von Mikron- und Submikron-Strukturen messen können, z. B.

- Halbleiter: IC-Grafik, Konkubenzhöhe, Spulenhöhe, Fehlererkennung, CMP-Prozess

- FPD-Produkte: Touchscreen-Bildschirmerkennung, ITO-Muster, LCD-Säulenabstandshöhe

- MEMS-Geräte: Strukturelle dreidimensionale Konturen, Oberflächenrauhe, MEMS-Grafik

- Glasoberfläche: Dünnfilm-Solarzellen, Solarzellen-Textur, Lasermuster

- Materialforschung: Schimmeloberflächendetektion, Rauheit, Rissanalyse

Spezifikationen (Specifications):

Modell	Mikroskop NS-3500 Solar					Bemerkung
Objektivvergrößerung		10x	20x	50x	100x
Beobachtungs-/Messbereich	Höhe (H): μm	1400	700	280	140
	垂直 (V): μm	1050	525	210	105
Arbeitsbereich: mm		16.5	3.1	0.54	0.3
Numerischer Durchmesser (N.A.)		0.30	0.46	0.80	0.95
Optischer Zoom		x1 bis x6
Gesamtvergrößerung		178x to 26700x
Beobachtungs-/Messoptik		PinholeKofokussiertes optisches System
Höhenmessung	Scanbereich messen	400 µm				Anmerkung 1
	Anzeigeauflösung	0,001 μm
	Wiederholungsrate σ	0,010 μm				Anmerkung 2
Frame-Speicher	Pixel	1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96
	Einfarbiges Bild	12 Bit
	Farbbilder	8-Bit für RGB jeweils
	Höhenmessung	16 Bit
Bildrate	Oberflächenscanning	20 Hz bis 160 Hz
	Linie-Scan	bis 8 kHz
Laserkonfokus-Messlichtquelle	Wellenlänge	405 nm
	Ausgabe	~ 2mW
	Laserklasse	Klasse 3b
Laser-Empfangselemente		PMT (Photomultiplikator)
Optische Beobachtungslichtquellen	Lampe	LED von 10W
Optische Beobachtungskamera	Bildgebungskomponenten	1/2" Farbbild CCD-Sensor
	Auflösung aufzeichnen	640x480
	Automatische Anpassung	Gewinn, Verschlussgeschwindigkeit, Weißgewicht
Datenverarbeitungseinheiten		PC
Stromversorgung	Stromversorgungsspannung	100 to 240 VAC, 50/60 Hz
	Stromverbrauch	500 VA max.
Gewicht	Mikroskop	ca. ~50 kg (Messkopfenheit: ~12 kg)
	Controller	~ 8 kg
Isolierungssystem		Fluoroptische Plattform Isolierungssystem				Option

Hinweis 1: Die feine Abtastung wird durch einen piezoelektrischen Aktor (PZT) durchgeführt.

Anmerkung 2: Durchführen Sie 100 Messungen der Standardprobe (Schrittlänge 1 μm) mit einem Objektiv von 100 x / 0,95.

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