NS-Vista Reflexionsdurchlässigkeitsmessung mit Doppelkanalmembrandickenmessgerät

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Das NS-Vista Reflex Transmittance Measurement Dual-Channel-Foliendickenmesser ist ein technisch ausgezeichnetes Desktop-Foliendickenmessungs- und Analysesystem. Es verfügt über die Fähigkeit, sowohl Reflexivität als auch Durchlässigkeit zu messen und ist bei der Messung von Proben mit hoher oder niedriger Reflexivität äußerst leistungsstark.

Produktdetails

NS-Vista Reflexionsdurchlässigkeitsmessung mit Doppelkanalmembrandicke (Nationale Labor Membran Dicke MesslösungenEs ist ein technisch ausgezeichnetes Tischfilmdickenmess- und Analysesystem. Es verfügt über die Fähigkeit, sowohl Reflexivität als auch Durchlässigkeit zu messen und ist bei der Messung von Proben mit hoher oder niedriger Reflexivität äußerst leistungsstark. Darüber hinaus ist der Algorithmus Vista Learning speziell für Anwendungsszenarien entwickelt, in denen sehr raue und dicke Oberflächen gemessen werden. Die Flächengröße des Reflexionskanals kann leicht von 1,5 mm auf 0,2 mm eingestellt werden, was den Anwendungsbereich der Dickenmessung erheblich erweitert. Als Desktop-Gerät steht NS-Vista für eine ausgezeichnete Technologie auf diesem Gebiet.

国家实验室膜厚测量解决方案

Merkmale des NS-Vista Reflexionsdurchlässigkeitsmessers für Doppelkanalmembrandicken:

1. Doppelkanäle messen gleichzeitig Reflexivität und Durchlässigkeit, beide können Dicke berechnen;

2, die Messung der hohen Reflexivität und der geringen Reflexivität der Probe, die Messung der Membrandicke des Glasgrundes ist nicht mehr schwierig;

3, 0,2 mm bis 1,5 mm Flecken extrem breiter dynamischer Einstellbereich;

Der Vista Learning Algorithmus wurde speziell für Anwendungsszenarien entwickelt, in denen sehr raue und dicke Oberflächen gemessen werden;

2. Parameter Spezifikationen:

参数规格

abhängig vom spezifischen Material;

2, Si / SiO2 (500 ~ 1000 nm) Proben;

Berechnen Sie die doppelte Standardabweichung von 100 Messungen von 500 nm SiO2-Standardschichten und durchschnitten Sie die doppelte Standardabweichung von 20 effektiven Messtagen;

Berechnen Sie den Durchschnittswert von 100 Messungen von 500 nm SiO2-Standardschichten und machen Sie eine doppelte Standardabweichung vom Durchschnittswert von 20 effektiven Messtagen.

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