Desktop-basiertes automatisches Membrandickenmessungsanalysesystem

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Die NS-30-Serie ist ein Desktop-basiertes automatisches Membran-Dickenmessungssystem, das von Suzhou Knowledge Technology Co., Ltd. für die Online-Membran-Dickenüberwachung spezialisiert ist.

Produktdetails

Die Wafer-Wafer-Extension-Online-Membran-Dickenüberwachung ist eine Schlüsseltechnologie in der Halbleiterherstellung, die hauptsächlich berührungslose optische Messmethoden verwendet, um die Echtzeit-Dickenüberwachung und -kontrolle während des Extension-Wachstumsprozesses zu erreichen.

Die NS-30-Serie ist ein Desktop-basiertes automatisches Membran-Dickenmessungssystem, das von Suzhou Knowledge Technology Co., Ltd. für die Online-Membran-Dickenüberwachung spezialisiert ist. Das Gerät verfügt über eine fortschrittliche optische Messtechnik mit hoher Genauigkeit, hoher Stabilität und Intelligenz und spielt eine wichtige Rolle in der Halbleiterherstellung.

　　1. Kerntechnische Prinzipien

Die Membrandickenmesser der Serie NS-30 basieren auf dem Prinzip der weißen Lichtinterferenz. Das Gerät strahlt hochstabiles breitbandiges Licht vertikal auf die Fläche der zu messenden Wafer-Oberfläche, das eingehende Licht reflektiert sich auf der Oberfläche der Fläche, der andere Teil wird in die Fläche durchgeführt und an der Schnittstelle zwischen der Fläche und dem Substrat reflektiert. Diese beiden Reflexionsstrahlen stören sich gegenseitig und bilden ein Interferenzprogramm, das durch Spektralanalyse und Regressionsalgorithmen Parameter wie Dicke, Brechungsgrad und Reflexionsgrad der Schichten des Dünnfilms berechnen kann.

　　Haupttechnische Parameter
主要技术参数

　　3. Kernfunktionale Merkmale

1, hohe Präzisionsmessfähigkeit

- Sub-nanoscale-Genauigkeit: Messgenauigkeit von bis zu 0,02 nm, um die Messung der Dicke der nanoscale-Film zu erreichen;

- hohe Wiederholbarkeit: Wiederholungsgenauigkeit von 0,02 nm, die Konsistenz und Zuverlässigkeit der Messergebnisse gewährleistet;

Breiter Messbereich: Abdeckung des Dickenmessbereichs von 1 nm bis 250 μm, um die unterschiedlichen Anwendungsanforderungen zu erfüllen;

2. Automatisierte Messfunktionen

- Automatische Probenlader: Plattformgröße 100mm-450mm ist optional und unterstützt die Messung großer Wafer-Größen;

- Intelligente Punktverteilung: Die Software generiert automatisch die Messpunktverteilung nach Bedarf und unterstützt die automatische Mehrpunktmessung;

- 2D / 3D-Kartierung: Generieren Sie 2D und 3D-Verteilungskarten für Dicken, Brechungsgrad, Reflexionsgrad und andere Parameter;

Berührungslose verlustfreie Messung

- optische berührungslose: berührungslose Messung, um Schäden an der Wafer-Oberfläche zu vermeiden;

- Mehrschichtenfilmmessung: Die Dicke und die optischen Parameter der einzelnen Schichten der Mehrschichtenfilm können gemessen werden;

- Materialanpassung: geeignet für transparente oder halbtransparente Membranschichten, einschließlich Oxide, Stickstoffe, Lichtwiderstände und andere Materialien;

　　4. Anwendung in der Wafer-Wafer-Extension-Überwachung

1. Vorteile der Prozesskontrolle

Die NS-30-Serie spielt eine Schlüsselrolle im Wafer-Wafer-Extensionsprozess:

- Echtzeitüberwachung: In-situ-Online-Messungen bei ALD-Atomschichtabsetzung, CVD-chemischer Gasphasenabsetzung usw.

- Prozessoptimierung: Anpassung und Optimierung der Prozessparameter in Echtzeit durch präzises Feedback von Membranstickendaten

- Qualitätssicherung: Gewährleistung der Gleichmäßigkeit der Dicke der Streckenschicht und Verbesserung der Leistung und Zuverlässigkeit von Halbleitergeräten

2. Verbesserung der Messeffizienz

- Hochgeschwindigkeitsmessung: Einzelmesszeit von weniger als 1 Sekunde, unterstützt schnelle Batch-Erkennung

- Batch-Bearbeitung: Unterstützt die automatische Übertragung von 8-Zoll-Wafer-Boxen, um die Messeffizienz erheblich zu verbessern

- Intelligente Analyse: Ausgestattet mit leistungsstarker Analysesoftware für automatisierte SPC-statistische Analyse und Datenmanagement

3. Erweiterung der Anwendungsbereiche

Neben der Wafer-Extension-Überwachung wird die NS-30-Serie auch weit verbreitet in:

Halbleiterherstellung: Messung von SiO 、 SiNx、 Schlüsselmembranschichten wie Polykristallines Silizium

- Photovoltaik: Al?O von TOPCon / SiNx-Schichtfilm, TCO-transparente Leitfolie von HJT

- Optische Beschichtung: AR Anti-Reflexionsschicht, AG Anti-Reflexionsbeschichtung, Filter usw.

- Display-Panel: OLED, TFT, ITO und andere Schichtdickenmessungen

Mit seiner hohen Präzision, hohen Stabilität und intelligenten Eigenschaften bietet die NS-30-Serie eine zuverlässige Lösung für die Online-Filmdickenüberwachung der Wafer-Wafer-Extension, die eine wichtige Rolle in High-Tech-Bereichen wie Halbleiterherstellung, Photovoltaik und Anzeige spielt.

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