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Produktkategorien
Beijing Rongxing Guangheng Technology Co., Ltd
Sehen Sie! Mit dem M Plan APO50X/100X NIR Objektiv
VerhandlungsfähigAktualisieren am05/06
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Übersicht
Sehen Sie! M PLAN APO50X/100X NIR-Infrarot-Objektiv für das Bildgebungssystem mit sichtbarem Licht
Produktdetails
Sehen Sie! Mit dem M Plan APO50X/100X NIR Objektiv
Sehen Sie! Mit dem M Plan APO50X/100X NIR Objektiv
Mikroskop Langstreckenobjektiv | Infrarotobjektiv
1. M plan 95mm Lange Arbeitsdistanz sichtbares Licht durch Objektiv:
Name |
95 mm lange Arbeitsdistanz sichtbares Licht durch Objektiv |
Brille |
||||||
Numerischer Durchmesser |
Arbeitsabstand |
Brennweite |
Auflösung |
Physik |
Objektsicht |
Kamera |
Fokussiertiefe | |
N.A. |
W.D. |
f |
von R(μm) |
± Δp (μM) |
（WF10/24） |
1/2' CCD |
±Δ(μM) |
|
M Plan Apo HL 2X |
0.055 |
34.6 |
100 |
5 |
91 |
?12 |
2.4*3.2 |
221 |
M Plan Apo HL 5X |
0.14 |
45 |
40 |
2 |
14 |
?4.8 |
0.96*1.28 |
34.4 |
M Plan Apo L 10X |
0.28 |
34 |
20 |
1 |
3.5 |
?2.4 |
0.48*0.64 |
8.6 |
M Plan Apo HL 20X |
0.29 |
31 |
10 |
1 |
3.3 |
?1.2 |
0.24*0.32 |
5.8 |
M Plan Apo HL 50X |
0.42 |
20.5 |
4 |
0.7 |
1.6 |
?0.48 |
0.10*0.13 |
2.3 |
M Plan Apo HL 100X |
0.55 |
12.5 |
2 |
0.61 |
0.9 |
|
|
1.82 |
2. M plan 95mm Lange Arbeitsstrecke UV-Licht durch Objektiv (NUV-Objektiv):
Name |
95 mm langer Arbeitsabstand UV-Licht durch Objektiv (NUV-Objektiv) |
||||||||
NA |
WD |
Brennweite f' (m) |
Auflösung R (μm) |
Fokustiefe ± Δp (μm) |
Sichtfeld (mm) |
Sichtfeld (mm) CCD |
Durchlaufrate |
Stimulierende Wellen |
|
Der NUV50X |
0.43 |
14.81 |
4 |
0.64 |
1.49 |
Φ0.48 |
0.1x0.13 |
450nm ~ 700nm 70% oder mehr 345nm ~ 365nm 90% oder mehr |
Wellenlänge 355nm Färbung |
NUV20X |
0.4 |
17.15 |
10 |
0.69 |
1.72 |
Φ1.2 |
0.24x0.32 |
450nm ~ 700nm 70% oder mehr 345nm ~ 365nm 90% oder mehr |
Wellenlänge 355nm Färbung |
Der NUV50X |
0.7 |
3.5 |
4 |
0.39 |
0.56 |
Φ0.48 |
0.1x0.13 |
450nm ~ 700nm 70% oder mehr 345nm ~ 365nm 90% oder mehr |
Wellenlänge 355nm Färbung |
M Plan 95mm Infrarot-Objektiv (NIR-Objektiv):
Name |
M plan 95mm Infrarot-Objektiv (NIR-Objektiv) |
|
||||||||
NA |
Arbeitsabstand (WD) |
Brennweite f' (m) |
Auflösung R (μm) |
Fokus tief |
Sichtfeld (mm) φ24 |
Sichtfeld (mm) |
Durchlaufrate |
Bemerkung |
||
20x |
0.45 |
17.4 |
10 |
0.61 |
1.36 |
Φ1.2 |
0.24x0.32 |
450nm bis 700nm Mehr als 70 Prozent, 770nm bis 790nm Mehr als 90% |
Laserwellenlänge 780nm |
|
50x |
0.8 |
4.04 |
4 |
0.34 |
0.43 |
Φ0.48 |
0.1x0.13 |
450nm bis 700nm Mehr als 70 Prozent, 770nm bis 790nm Mehr als 90% |
Laserwellenlänge 780nm |
|
1. Die oben genannten Objektive sind ein unbegrenztes fernoptisches System mit multiplexem Flachfeldobjektiv. Mittelspiegel f'=200mm.
2. Der Fokusabstand der obigen Objektive beträgt 95 mm.
3. Die Verbindungsgewinde für die obigen Objektive sind M26x0,706 (M26x1/36'), können jedoch nach Kundenanforderungen angepasst oder über einen Umschaltring verbunden werden.
4. Die "HL"-Kennzeichnung des obigen Objektivs ist eine sehr lange Arbeitsdistanz.
5. Die oben genannten langen Arbeitsabstand Objektive passen Video-Single-Zylinder kontinuierliche Multipler Mikroskop oder industrielle Prüfung Mikroskop, weit verbreitet in einer Vielzahl von Phasen-Prüfung, wie die Elektronikindustrie leitfähige Partikel, IC-integrierte Schaltung von Mikromolekülen, Wafer und so weiter.
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