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Beijing Rongxing Guangheng Technology Co., Ltd
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Komm schon! Sanfong M PLAN APO50X NUV UV-Objektiv

VerhandlungsfähigAktualisieren am05/06
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Übersicht

Komm schon! M PLAN APO50X NUV UV-Objektiv für sichtbares Licht

Produktdetails

Komm schon! Sanfong M PLAN APO50X NUV UV-Objektiv

Komm schon! Sanfong M PLAN APO50X NUV UV-Objektiv


Mikroskop Langstreckenobjektiv | Infrarotobjektiv


来!三丰M PLAN APO50X NUV紫外物镜


Hauptmerkmale

  • Unendliche Korrektur
  • Für offene Beobachtung und Laserbearbeitung
  • Lange Arbeitsdistanz
  • Spezifikationen von flachen Multiplex-Farbdifferenzlinsen
  • Es ist darauf ausgelegt, den Bereich vom nahen UV (Wellenlänge 355 nm) bis hin zum sichtbaren Bereich (allgemein beobachteter Wellenlängenbereich) zu kompensieren.
  • NUV HR: High-Resolution-Spezifikation: Auflösungserhöhung um ca. 50% (im Vergleich zum Standard)

Spezifikation







Code-Name
378-809-5
378-817-8
378-818-8
378-819-15
Die entsprechende Beobachtungsmethode
明场
明场
明场

Objektivvergrößerung
Zehnmal.
20 mal.
50 mal.
100 mal.
Numerischer Durchmesser NA
0.28
0.42
0.44
0.50
Arbeitsabstand WD (mm)
30.5
17
15
11
Brennweite f(mm)
20
Zehn
vier
Zwei
Schwerpunkttiefe (µm)
3.5
1.6
1.4
1.1
Wirkliches Sichtfeld (mm) φ24 Brille
2.4
1.2
0.48
0.24
Wirklicher Sichtfeld (mm) 1/2 Kamera (horizontal)
0.64
0.32
0.13
0.05
Sichtfeld (mm) 1/2 Zoll Kamera (vertikal)
0.48
0.24
0.1
0.06
Auflösung R(µm)
Einen
0.7
0.6
0.6
Masse (g)
255
340
350


1. M plan 95mm Lange Arbeitsdistanz sichtbares Licht durch Objektiv:

Name

95 mm lange Arbeitsdistanz sichtbares Licht durch Objektiv

Brille

Numerischer Durchmesser

Arbeitsabstand

Brennweite

Auflösung

Physik
Fokustiefe / Tiefe

Objektsicht

Kamera

Fokussiertiefe

N.A.

W.D.

f

von R(μm)

± Δp (μM)

(WF10/24)

1/2' CCD

±Δ(μM)

M Plan Apo HL 2X

0.055

34.6

100

5

91

?12

2.4*3.2

221

M Plan Apo HL 5X

0.14

45

40

2

14

?4.8

0.96*1.28

34.4

M Plan Apo L 10X

0.28

34

20

1

3.5

?2.4

0.48*0.64

8.6

M Plan Apo HL 20X

0.29

31

10

1

3.3

?1.2

0.24*0.32

5.8

M Plan Apo HL 50X

0.42

20.5

4

0.7

1.6

?0.48

0.10*0.13

2.3

M Plan Apo HL 100X

0.55

12.5

2

0.61

0.9

1.82


2. M plan 95mm Lange Arbeitsstrecke UV-Licht durch Objektiv (NUV-Objektiv):


Name

95 mm langer Arbeitsabstand UV-Licht durch Objektiv (NUV-Objektiv)

NA

WD

Brennweite f' (m)

Auflösung R (μm)

Fokustiefe ± Δp (μm)

Sichtfeld (mm)
φ24 Augenkontakt

Sichtfeld (mm) CCD

Durchlaufrate

Stimulierende Wellen

Der NUV50X

0.43

14.81

4

0.64

1.49

Φ0.48

0.1x0.13

450nm ~ 700nm 70% oder mehr 345nm ~ 365nm 90% oder mehr

Wellenlänge 355nm Färbung

NUV20X

0.4

17.15

10

0.69

1.72

Φ1.2

0.24x0.32

450nm ~ 700nm 70% oder mehr 345nm ~ 365nm 90% oder mehr

Wellenlänge 355nm Färbung

Der NUV50X

0.7

3.5

4

0.39

0.56

Φ0.48

0.1x0.13

450nm ~ 700nm 70% oder mehr 345nm ~ 365nm 90% oder mehr

Wellenlänge 355nm Färbung


M Plan 95mm Infrarot-Objektiv (NIR-Objektiv):

Name

M plan 95mm Infrarot-Objektiv (NIR-Objektiv)

 

NA

Arbeitsabstand (WD)

Brennweite f' (m)

Auflösung R (μm)

Fokus tief
± Δp (μM)

Sichtfeld (mm) φ24

Sichtfeld (mm)
CCD

Durchlaufrate

Bemerkung

20x

0.45

17.4

10

0.61

1.36

Φ1.2

0.24x0.32

450nm bis 700nm

Mehr als 70 Prozent,

770nm bis 790nm

Mehr als 90%

Laserwellenlänge 780nm

50x

0.8

4.04

4

0.34

0.43

Φ0.48

0.1x0.13

450nm bis 700nm

Mehr als 70 Prozent,

770nm bis 790nm

Mehr als 90%

Laserwellenlänge 780nm


1. Die oben genannten Objektive sind ein unbegrenztes fernoptisches System mit multiplexem Flachfeldobjektiv. Mittelspiegel f'=200mm.
2. Der Fokusabstand der obigen Objektive beträgt 95 mm.
3. Die Verbindungsgewinde für die obigen Objektive sind M26x0,706 (M26x1/36'), können jedoch nach Kundenanforderungen angepasst oder über einen Umschaltring verbunden werden.
4. Die "HL"-Kennzeichnung des obigen Objektivs ist eine sehr lange Arbeitsdistanz.
5. Die oben genannten langen Arbeitsabstand Objektive passen Video-Single-Zylinder kontinuierliche Multipler Mikroskop oder industrielle Prüfung Mikroskop, weit verbreitet in einer Vielzahl von Phasen-Prüfung, wie die Elektronikindustrie leitfähige Partikel, IC-integrierte Schaltung von Mikromolekülen, Wafer und so weiter.