ICP Plasmagraviermaschine

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Die ICP-Plasmagraviermaschine WINETCH ist ein kostengünstiges ICP-Plasmasystem für Forschungs- und Entwicklungskunden. Als multifunktionales System erzielt es durch eine optimierte Systemgestaltung und flexible Konfigurationen einen leistungsstarken ICP-Gravurprozess. Die kompakte, kleine Fläche der Anlage, die professionelle mechanische Konstruktion und die optimierte Automatisierungssoftware ermöglichen eine einfache, sichere Bedienung und eine hohe Wiederholbarkeit des Prozesses.

Produktdetails

ICP-Trockengravierung ist eine gängige Mikro-Nano-Verarbeitungstechnik, deren Prinzip darin besteht, das Gas zu ionisieren, um es zu Plasma zu bilden, und das Plasma dann in den Reaktionskammer einzuführen, um die chemische Reaktion im Reaktionskammer zu verwenden, um das Material zu korrosieren oder abzulegen. Bei der ICP-Trockengravierung dient das Hochfrequenzfeld dazu, Gasmoleküle zu ionisieren und Elektronen und Ionen zu bilden. Die Ionen beschleunigen ihre Bewegung unter der Wirkung eines elektrischen Feldes und kollidieren mit den Gasmolekülen im Reaktionsraum, wodurch ein Plasma entsteht. Das Plasma besitzt hohe Temperatur- und Energieeigenschaften, die eine effiziente Verarbeitung des Materials ermöglichen. ICP-Trockengegravierung ist gekennzeichnet durch die Lage, eine hohe Präzision, hohe Geschwindigkeit und hohe Gleichmäßigkeit zu erzielen, mit geringeren Schäden an den Materialien, die häufig in der Herstellung von Mikroelektronikgeräten, der Verarbeitung von optischen Geräten und anderen Bereichen verwendet werden. Es ist jedoch wichtig zu beachten, dass bei der Verwendung von ICP-Trockengegravuren geeignete Parameter wie Gas, Leistung und Reaktionsraumtemperatur ausgewählt werden sollten, um negative Auswirkungen auf das Material zu vermeiden.

　　ICP Plasmagraviermaschine WINETCHEs ist ein kostengünstiges ICP-Plasmasystem, das für die Anforderungen von Forschungs- und Entwicklungskunden entwickelt wurde. Als multifunktionales System erzielt es durch eine optimierte Systemgestaltung und flexible Konfigurationen einen leistungsstarken ICP-Gravurprozess. Die kompakte, kleine Fläche der Anlage, die professionelle mechanische Konstruktion und die optimierte Automatisierungssoftware ermöglichen eine einfache, sichere Bedienung und eine hohe Wiederholbarkeit des Prozesses.

　　ICP Plasmagraviermaschine WINETCH Produkteigenschaften：

● Kompatibel mit 4/6/8 Zoll, Single-Wafer-Vakuum-Übertragungssystem

• Niedrige Kosten und hohe Zuverlässigkeit, geeignet für Forschung und Entwicklung und kleine Produktion

● Einfache Struktur, kleine Form

● Einfache Bedienung, einfache automatische Steuerung, geeignet für die Gravur großer Flächen

● Ausgezeichnete Gravurgleichmäßigkeit, schnelle Gravurgeschwindigkeit

● Regelsystem für Formel-Antrieb und Management-Software, das Halbleiterstandards erfüllt

● Auswahl höher als, hoch im gegenseitigen Geschlecht, kleinere Erosionsschäden

● Hohe Steuerbarkeit des Profils, glatte und glatte Gravurfläche

ICP PlasmagraviermaschineTechnische Parameter:

Wafer Größe: 4/6/8 Zoll kompatibel

Anwendungsverfahren: Plasmagravierung

Anwendungsmaterialien: SiC, Si, GaN, GaAs, InP, Ploy, etc.

Anwendungsbereiche: Verbindungshalbleiter, MEMS、 Leistungsgeräte, Forschung usw.

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