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Shanghai Maikewei Semiconductor Technology Co., Ltd
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Elektronische Strahlgravierer Elionix

VerhandlungsfähigAktualisieren am05/07
Modell
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Hersteller
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Ursprungsort

Übersicht

Marke: Elionix$r$n$r$n$r$n$r$n$r$n Modell: ELS-F125/F100/HS50$r$n$r$n$r$n$r$n Elektronenstrahlbelichtung, Elektronenstrahldirektschrift, Elektronenstrahlgravur

Produktdetails

Einführung

ELS-F125 ist eines der von Elionix vorgestellten Elektronenstrahlbelichtungssysteme mit einer beschleunigten Spannung von bis zu 125 KV und einer feinen Grafik mit einer unteren Linienbreite von 5 nm. (Die folgenden Parameter basieren auf ELS-F125)

Der ELS-F125 hat folgende Vorteile:

Hohe Schreibpräzision

Genauigkeit von 5 nm bei 125 kV

- Minimierung des Elektronenstrahldurchmessers von 1,7 nm und des Nachbarschaftseffektes bei 125 kV

Hoher Durchfluss, gute Gleichmäßigkeit

- Super großes Sichtfeld Schreiben: 10 nm Leitungsbreite unter 500um Sichtfeld

- Der Elektronenstrahldurchmesser unter hohem Strahlstrom bleibt klein, hoher Durchfluss ohne Auswirkungen auf die Auflösung, 2 nm Elektronenstrahldurchmesser @ 1 nA

l Benutzerfreundliche Oberfläche

CAD- und SEM-Schnittstellen für Windows-basierte Systeme:

Einfache und benutzerfreundliche Design-Funktionen

- Einfach zu steuernde Elektronenstrahlbedingungen

II. Hauptfunktionen

l Hauptanwendungen

Mikrostruktur von Nano-Geräten

Integrierte optische Geräte wie Raster, Photonenkristalle usw.

NEMS-Strukturen, komplexe Feinstrukturen

Maskenvorlagen, Druckvorlagen

l Technische Fähigkeiten