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5500 Yuanjiang Road, Minhang, Shanghai
Shanghai Maikewei Semiconductor Technology Co., Ltd
5500 Yuanjiang Road, Minhang, Shanghai
Einführung
ELS-F125 ist eines der von Elionix vorgestellten Elektronenstrahlbelichtungssysteme mit einer beschleunigten Spannung von bis zu 125 KV und einer feinen Grafik mit einer unteren Linienbreite von 5 nm. (Die folgenden Parameter basieren auf ELS-F125)
Der ELS-F125 hat folgende Vorteile:
Hohe Schreibpräzision
Genauigkeit von 5 nm bei 125 kV
- Minimierung des Elektronenstrahldurchmessers von 1,7 nm und des Nachbarschaftseffektes bei 125 kV
Hoher Durchfluss, gute Gleichmäßigkeit
- Super großes Sichtfeld Schreiben: 10 nm Leitungsbreite unter 500um Sichtfeld
- Der Elektronenstrahldurchmesser unter hohem Strahlstrom bleibt klein, hoher Durchfluss ohne Auswirkungen auf die Auflösung, 2 nm Elektronenstrahldurchmesser @ 1 nA
l Benutzerfreundliche Oberfläche
CAD- und SEM-Schnittstellen für Windows-basierte Systeme:
Einfache und benutzerfreundliche Design-Funktionen
- Einfach zu steuernde Elektronenstrahlbedingungen
II. Hauptfunktionen
l Hauptanwendungen
Mikrostruktur von Nano-Geräten
Integrierte optische Geräte wie Raster, Photonenkristalle usw.
NEMS-Strukturen, komplexe Feinstrukturen
Maskenvorlagen, Druckvorlagen
l Technische Fähigkeiten