Laser-Direktgraviersystem DWL 2000 GS

Laser-Direktgraviersystem DWL 2000 GSEin schneller und flexibler Mustergenerator mit hoher Auflösung. Diese Systeme sind für Graustufen in industrieller Klasse optimiert und sind für integrierte Schaltungen, MEMS、 Die Sicherheitsmerkmale von mikrooptischen und mikrofluidischen Geräten, Sensoren und Hologrammen ermöglichen eine hohe Durchsatzmaske und Wafer-Patternierung.

Der professionelle Graustufenmodus ermöglicht die Modellierung komplexer 2,5D-Strukturen auf einem großen Bereich der dicken Gravure. Mit einer Mindestmaßgröße von 500 nm, einer maximalen Schreibfläche von 400 × 400 mm2 und einem optionalen automatischen Aufladesystem eignet sich das DWL 2000 GS / DWL 4000 GS-System besonders für Wafer-Mikrooptik für die Telekommunikations-, Beleuchtungs- und industrielle Display-Fertigung sowie für die Geräteherstellung im Bereich der Life Sciences.

Laser-Direktgraviersystem DWL 2000 GSProdukthighlights

Belichtungsqualität

CD-Gleichmäßigkeit 60 nm; Randrauheit 40 nm; Ausrichtungsgenauigkeit 60 nm; Ausrichtung zweiter Schicht 250 nm; Autofokusskompensation 80 µm

Graustufendruck

1024 Graustufen; Spezielle GenISys BEAMER-Software zur Optimierung der Belichtung komplexer Geometrien

Temperaturgesteuerte Flowbox

Temperaturstabilität ± 0,1°, ISO 4 Umgebung

Belichtungsgeschwindigkeit

200 × 200 mm2 Fläche im Graustufenmodus < 60 Minuten

Große Grundgröße

Maximal 20 / 40 cm