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Ultraschalldurchflussmesser der Serie UFM400 für CMP-Geräte

VerhandlungsfähigAktualisieren am05/13
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Das Ultraschallflussmesser der Serie UFM400 für CMP-Geräte, das Chemisch-mechanische Polieren, ist eine Technologie zum präzisen Schleifen und Polieren von Siliziumoberflächen durch eine chemische und mechanische Kombination. Es ist die Hardware-Basis dieser Technologie, die eine globale Abflachung der Siliziumoberfläche ermöglicht und eine gute Grundlage für den nachfolgenden Prozess bietet. CMP-Geräte sind Schlüsselprozessgeräte im Bereich der Halbleiterherstellung.

Produktdetails

Ultraschalldurchflussmesser der Serie UFM400 für CMP-Geräte

Chemische mechanische Polierung (CMP):

CMP, Chemisch-mechanisches Polieren ist eine Technologie zum präzisen Schleifen und Polieren von Siliziumoberflächen durch eine Kombination von Chemie und Mechanik. Es ist die Hardware-Basis dieser Technologie, die eine globale Abflachung der Siliziumoberfläche ermöglicht und eine gute Grundlage für den nachfolgenden Prozess bietet. CMP-Geräte sind Schlüsselprozessgeräte im Bereich der Halbleiterherstellung.

Ultraschalldurchflussmesser der Serie UFM400 für CMP-Geräte

CMP设备专用流量计UFM400系列超声波流量计


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