Willkommen Kunden!

Mitgliedschaft

Hilfe

Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe
Kundenspezifischer Hersteller

Hauptprodukte:

instrumentb2b>Artikel

Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe

  • E-Mail-Adresse

    cui@nanoscribe.com

  • Telefon

    13917994506

  • Adresse

    Zimmer 108, 26 Gafeng Road, Pudong New District, Shanghai

Kontaktieren Sie jetzt
Nano-Sticky 3D Nanoscribe: 3D-Nano-Bearbeitungslösung für die gesamte Szene
Datum:2025-10-31Lesen Sie:0
Mit der tiefen Penetration der Mikronanotechnologie in den Bereichen Photonenintegration, Biomedizin und MEMS-Fertigung stellen verschiedene Branchen unterschiedliche Anforderungen an Präzision, Materialkompatibilität und Verarbeitungseffizienz von dreidimensionalen Mikronanostrukturen dar. Nano-Sticky 3D Nanoscribe auf Patent basiert _ Patent 2GL ® Die Dual-Photon-Grauskala-Lithographie-Technologie, um eine dreidimensionale Mikronano-Bearbeitungslösung zu schaffen, die den gesamten Link von "Forschung und Innovation - industrielle Massenproduktion" abdeckt, mit dem Kernvorteil von "hoher Präzision + hoher Flexibilität + Anpassung an mehrere Szenarien", wird zu einer entscheidenden Wahl für die Durchbrechung von Mikronano-Bearbeitungsengpässen in allen Branchen.

微纳加工设备

Im Bereich der Photonenverpackung bietet die Mikronano-3D-Drucktechnologie, insbesondere die Technologie der Doppelphotonen-Polymerisation (2PP), mit ihren Vorteilen der hohen Präzision, der echten dreidimensionalen Verarbeitungsfähigkeit und der Maskenfreiheit eine revolutionäre Lösung für eine effiziente und verlustarme Optikkopplung zwischen Fasern und Chips.

企业logo

Zusammenfassend ist Nano-Sticky 3D Nanoscribe ein anerkannter Industriestandard auf diesem Gebiet. Seine Kerntechnologie ist die Dual-Photon-Grauskala-Lithographie (2GL). ®), Die Kombination der Präzision der Doppelphotonen-Aggregation mit der Effizienz der Graustufengravur eignet sich perfekt für die Herstellung komplexer dreidimensionaler Mikronanostrukturen in Photonenverpackungen.
Auswahl der technischen Route
1, Doppelphotonen-Polymerisation 2PP (Fiftosekund-Laser-Direktschrift): ausgerichtet auf Sub-Mikron-Mikron-Ebene freie Form dreidimensionale Struktur, mit einem sehr hohen Grad an Konstruktionsfreiheit, geeignet für komplexe Mikrooptik, Mikromechanik, Mikrofluide und biologische Ständer; Direkt auf komplexen Substraten geformt, unterstützt Multi-Material- und Composite-Prozesse.
2, Dual-Photonen-Graustufen-Lithographie 2GL: im gleichen Arbeitsablauf 2,5D / 3D zu berücksichtigen, durch die feine Modulation der Intensität von "Bodynin" die Oberfläche zu erhalten, super glatt und Brechungsgrad / morphologische Integrationskontrolle, geeignet für die Mikrooptik mit hohen numerischen Aperturen, die Brechungsgrad des Gradientes und die Motherboard der hochpräzisen Form.
3, Fibrosekunde-Laser "2-in-1" Kompositstrategie: auf derselben Plattform kombiniert asymmetrische Doppelphotonen-Aggregation (Aufbau von omnidirectionellen, heterogenen Hydrogel-Gelenken) mit Laserreduktion in situ, um Silbernanonopartikel abzulegen (mit Licht- und Wärmeantrieb und Sensorik) für aktive Mikrosysteme wie mehrgelenkte Mikroroboter, rekonstruierbare Deformationsgeräte.
Direktdruck auf Faser / Chip: Bietet Neigungskorrektur und Ausrichtung mit mehreren Freiheitsgraden zur Realisierung von SERS-Sonden mit optischer Endfläche, Wellenleiter-Mikrooptik-Integration und additive Fertigung von 3D-Mikrostrukturen in Chips, um die Verpackungs- und Ausrichtungskosten erheblich zu senken.
5, Wafer-Level-Batch und Automatisierung: Die Massenverarbeitung von 6-Zoll-Wafern unterstützt die automatische Harzverteilung, Mehrbenutzerprozesse und die Fernüberwachung, um die Anforderungen an schnelle Prototypen und kleine Mengenproduktionen zu berücksichtigen.