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Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe
Graustufengravierung vernetzte Nano-Fertigungslösung, Gerätehersteller Nanoscribe 3D für Sie zu knacken!
Datum:2025-11-03Lesen Sie:0
Grauskala-Photogravie-Vernetzung Nano-Fertigung bezieht sich auf: die Verwendung von Grauskala-Photogravie-Technologie, eine einmalige, hochpräzise Herstellung verschiedener kritischer dreidimensionaler nanooptischer Strukturen, die für die optische Vernetzung erforderlich sind.
Grauskala Photogravie vernetzte Nano-Fertigung Lösung mit seiner hohen Präzision, hohe Effizienz und andere Vorteile, zu einem wichtigen Weg zur Lösung der optisch vernetzten Nano-Fertigung Herausforderungen, Nano-Sticky-dreidimensionale Lösung hat eine starke Repräsentativität, die folgende spezifische Einführung:
Kerntechnologie: Die Kerntechnologie der nano-klebrigen dreidimensionalen Grauskala-Photogravur-Vernetzung der Nano-Fertigungslösung ist die Dual-Photonen-Grauskala-Photogravur-Technologie (2GL). ®)。 Diese Technologie kombiniert die hervorragende Leistung der Graustufengravur mit der Einzigartigkeit und Flexibilität der Doppelphotonen-Aggregation und ermöglicht einen maskenlosen Direktdruck mit einer tiefen Synergie durch die Hochfrequenz-Laservibroskopie und die 100MHz-Technologie der dynamischen Gosin-Einstellung, die die Größe und Energie des Gosins in Echtzeit reguliert und dreidimensionale Nanostrukturen auf einmal formt, ohne mehrere Schichten zu schneiden.
Ausrüstungsunterstützung: Die QuantumX-Serie ist das komplette Q-Haupt-Doppelphotonen-Grauskala-Laser-Direktschreibsystem, wie das QuantumXalign-System mit Oberflächenrauheit ≤10nm, mit einer Größenkontrolle von bis zu 100nm, kann die freie Oberfläche mikrooptischer Komponenten direkt auf die Faserendefläche und den Photonenchip drucken, und kann durch die 3D-automatische Faserkernerkennung und die Topologiekarte des Substrats die automatische Ausrichtung auf Submikronenstufe abschließen, um den Kopplungsverlust auf weniger als 1dB zu senken. Das QuantumXlitho-System kann verschiedene Substrate wie Glasträger oder Siliziumchips bis zu 6 Zoll verarbeiten und ist speziell für die schnelle Formgebung, kleine Serienproduktion und die effiziente Herstellung von Motherboards im Replikationsprozess konzipiert.
Prozessvorteile: Erstens ist die ultrapräzise Kupplungsstrukturbearbeitung, die Bearbeitungsauflösung ist unter 100 Nanometer niedrig, die optische Oberflächenrauheit (Ra<5nm) kann direkt die erforderliche Mikrolinsenarrange für die Kupplung von Faser-Chip, Chip-Chip, Gradientenbruchlinsen und andere Strukturen drucken, die den Kopplungsverlust von Photonengeräten innerhalb von 1,5 dB kontrollieren können. Zweitens ist die Kompatibilität mit mehreren Materialien und die heterogene Integration, die eine Vielzahl von Photonenverpackungen wie Photogravur, Glas, Siliziumbasierte Materialien und Biokompatibilitätsmaterialien unterstützt, um den integrierten Druck der "Mikrooptischen Struktur + leitenden Verbindungskanal" auf dem gleichen Chip zu realisieren. Drittens ist die Herstellung von Strukturen auf Skalenübergreifender Ebene, die sowohl feine Merkmale auf Nanonengruppe wie die Photonenkristallapertur < 200 nm erreichen können als auch die Gesamtstruktur auf Millimeter-Ebene wie den Mikrofluid-optischen Chip berücksichtigen können.
Anwendungsszenarien: Die Lösung deckt den gesamten Link „F&E – Massenproduktion“ der Photonenverpackung ab. Für Hochschulen und Forschungseinrichtungen kann die Prototyp-Vorbereitung einer neuen Photonenkopplungsstruktur innerhalb von 1-2 Tagen abgeschlossen werden, um die Entwicklung von Spitzentechnologien wie Superstrukturoberflächen und Quantenphotonengeräten zu unterstützen; Für die Industrie, durch 6-Zoll-Wafer-Ebene-Bearbeitungsplattform und automatisierte Prozess-Design, um die kleine Mengenproduktion von optischen Kommunikations-Mikrolinsen-Arrays, MEMS-optischen Schaltern und anderen Geräten zu erreichen, können Sie das Produktmodell ohne den Austausch der Maske wechseln, die Produktionseffizienz erhöht sich um mehr als 30% im Vergleich zu herkömmlichen Prozessen.