Wafer-Grillmaschine (Backtisch)

Eigenschaften:

1.HMS-901ASPWafer-Grillmaschine (Backtisch)Mit verbesserter Infrarot-Heiztechnologie, mit Vakuum-Negativdruckfunktion, hat die Oberfläche mehrere Adsorptionslöcher, so dass das erhitzte Material eng an die Oberfläche passt, um einen gleichmäßigen Effekt der Beheizung zu erreichen.

2. Mit beheiztem Isolierdeckel kann die Temperatur eingestellt werden, und der gesamte Heizbereich bildet einen Isolierraum, der die Temperaturgleichmäßigkeit erheblich verbessert und auch eine staubfeste Rolle spielt.

3. Automatische Einluftfunktion, Übertemperatur-Schutzfunktion, Übertemperatur-Alarmfunktion, Timing-Funktion, CE-Zertifikat erhalten, Experimente sicherer und bequemer !!

HMS-901ASPWafer-Grillmaschine (Backtisch)Parametereinstellung:

Heizungsleistung: 2000W

2. Oberflächentemperatur: Raumtemperatur ~ 350 ℃

3. Temperaturkontrollmodus: freie Einstellung der LED-Temperatur

4. Temperaturprüfung: integrierte Temperaturregelung und externe Temperaturregelung schaltbar

Genauigkeit der Temperaturregelung: ± 0,1

Heizungsbereich: 220 x 220mm

7. Funktionsoption: Vakuum-Adsorption-Funktion: Keine Pol-Regelung des Vakuums, so dass die Probe gleichmäßiger erwärmt wird

8. Top-Nadel-Funktion: Durchmesser 3mm, Höhe 30mm beliebige Höhe einstellen, bequeme Abnahme, Probe ohne Berührung, Verschmutzung zu vermeiden

9. Limit-Funktion: geeignet für Wafer verschiedener Größen, um Probenverschiebungen zu verhindern und eine feste Rolle zu spielen

10. Programmsegmentiertes Steuersystem: Zeiteinstellung, Leistungsverhältnisseinstellung, Erwärmungskurve, Kommunikation usw.

11. Produktgröße: 220 x 350 x 180mm

12. Plattenmaterial: Nanokeramik Sandstrahlheizplatte