Wafer-Kontaktwinkelmessgerät

Theta Flow WaferWafer-KontaktwinkelmessgerätEs ist ein Wafer vollautomatisches Kontaktwinkelmessgerät. Das Instrument umfasst den Host des optischen Kontaktwinkelmessgeräts Theta Flow mit vier automatischen Tröpfgeräten mit softwaregesteuerter, horizontal bewegbarem, wegwerfbarem Tropfenkopf und einem vollautomatischen XYZ-Probenstand mit automatischer Drehung.

Die Berührungswinkelmessung auf den Wafers ist entscheidend für die Beurteilung der Feuchtigkeit und der Oberflächeneigenschaften dieser Materialien, die weit verbreitet in der Elektronikherstellung verwendet werden. Durch die Beurteilung des Winkels, in dem Tropfen mit der Oberfläche des Chips in Kontakt kommen, können die Forscher einen tieferen Einblick in die Oberflächenenergie und die Haftungseigenschaften von Silizium erhalten. Diese Informationen sind entscheidend für die Optimierung von Prozessen wie Beschichtung, Lithographie und Bindung in der Halbleiterherstellung. Das Verständnis der Kontaktwinkel hilft dabei, die erwartete Wechselwirkung zwischen dem Chip und den verschiedenen Materialien, die im Produktionsprozess verwendet werden, zu gewährleisten und letztlich die Leistung und Zuverlässigkeit der Elektronik zu verbessern.

Anwendung

• Untersuchung der Oberflächenreinigkeit

Die Kontaktwinkelmessung ermöglicht die Beurteilung der Reinigkeit des Wafers, um die Entfernung von Oberflächenschutzmitteln und Rückständen zu beurteilen.

• Bestimmung der freien Oberflächenenergie

Durch die Messung des Kontaktwinkels kann die freie Oberflächenenergie abgeleitet werden, was von entscheidender Bedeutung ist, um zu verstehen, wie andere Materialien mit Wafer interagieren.

• Verstehen Sie die Haftfähigkeit

Der Kontaktwinkel hilft bei der Bestimmung der Hafteigenschaften von Beschichtungen und Folien, die auf die Wafer aufgebracht werden.

• Untersuchung der Hydrophilität / Hydrophobie

Die Messung des Kontaktwinkels kann bestimmen, ob die Wafer-Oberfläche hydrophil oder hydrophob ist, was Prozesse wie Lithographie und Ätz beeinflusst.

• zur Qualitätskontrolle

Regelmäßige Kontaktwinkelmessungen können als Teil des Qualitätskontrollprozesses verwendet werden, um eine konsistente Wafer-Bearbeitung und -Verarbeitung sicherzustellen.

Softwarefunktionen zur Unterstützung der Wafer-Kontaktwinkelmessung

• Batchmodus zur schnellen Messung mehrerer Wafer in einer Reihe.

• Standard-Sitztropfmethode für eine tiefere Analyse.

Wafer Automatischer Drehtisch

Die Wafer-Probentasche der Serie Theta ist eine softwaregesteuerte elektrische Plattform für die Drehung von Wafern zur automatischen Positioniermessung von Kontaktwinkeln von Wafern bis zu 12 Zoll Durchmesser.

Die Theta-Serie umfasst einen Drehtisch (T340R) und einen Wafer-Tisch (T340RW). Die Steckung der Wafer-Tischplatte hilft bei der hochpräzisen Ausrichtung und Positionierung der Wafer. Positionierstifte helfen auch, die Wafer während der Messung an der richtigen Position zu halten. Zur weiteren Fixierung des Wafers kann auch über den eingebauten Vakuumanschluss an die Vakuumpumpe angeschlossen werden.

Die Theta-Serie Wafer-Probentasche ist an den automatischen XYZ-Probentaschen angeschlossen und ermöglicht die automatische Positionierung von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 12 Zoll. Um die Leistung des Drehtisches zu maximieren, wird empfohlen, ihn in Kombination mit vier wegwerfbaren Tropfenköpfen zu verwenden. Dies ermöglicht eine automatische Messung der freien Oberflächenenergie oder eine erhöhte Anzahl von kontinuierlichen Messungen, wenn nur Wasser verwendet wird.