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Produktkategorien
Shanghai Mikroskop
Transverse Positive Metallphase Mikroskop CMM-55E
VerhandlungsfähigAktualisieren am12/03
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Übersicht
Die Serie CMM-55E/CMM-55Z ist für die Elektronik-, Metallurgie-, Chemie- und Instrumentenindustrie geeignet, um transparente, halbtransparente oder undurchsichtige Materialien wie Metallkeramik, integrierte Blöcke, Leiterplatten, Flüssigkristallplatten, Folien, Fasern, Beschichtungen und andere nicht-Xin-Materialien zu beobachten. Positiv reflektierendes Metaphasemikroskop ermöglicht die Bearbeitung, Speicherung und Druck der gewünschten Bilder.
Produktdetails
Transverse Positive Metallphasemikroskop CMM-55E Detaillierte technische Parameter
Einsatz:
Die Serie CMM-55E/CMM-55Z ist für die Elektronik-, Metallurgie-, Chemie- und Instrumentenindustrie geeignet, um transparente, halbtransparente oder undurchsichtige Materialien wie Metallkeramik, integrierte Blöcke, Leiterplatten, Flüssigkristallplatten, Folien, Fasern, Beschichtungen und andere nicht-Xin-Materialien zu beobachten. Positiv reflektierendes Metaphasemikroskop ermöglicht die Bearbeitung, Speicherung und Druck der gewünschten Bilder.MaterialmikroskopMaterialmetallische Mikroskope
Positiv reflektierendes Metallphasemikroskop CMM-55EPositiv reflektierendes Metallphasemikroskop CMM-55Z
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II. Systemeinleitung
Positive Reflexion Metallophase Mikroskop-System ist die Kombination der herkömmlichen optischen Mikroskop mit Computer (Digitalkamera) durch die optische Umwandlung organisch, kann nicht nur auf der Brille mikroskopische Beobachtung, sondern auch auf dem Computer (Digitalkamera) Display-Bildschirm in Echtzeit beobachten dynamische Bilder und die erforderlichen Bilder zu bearbeiten, zu speichern und zu drucken.
Technische Parameter:
1. Brille
Typ |
Vergrößern |
Brennweite (mm) |
Sichtfeld (mm) |
Flache Brille |
10x |
25 | Φ18 |
| 20x | 13 | Φ11 | |
Splitting Brille |
10x | 25 | Φ17 |
2. Objektive
Objektivtyp |
Vergrößern |
Numerischer Durchmesser |
Arbeitsabstand (mm) |
Flachfeld Farbdifferenz Objektiv |
5X |
0.12 |
18.3 |
10x |
0.25 |
8.9 |
|
| 20x | 0.45 | 4.5 | |
| 40x | 0.60 | 3.7 | |
60x |
0.85 |
0.26 |
|
| 100x | 1.25 | 0.44 |
Optische Vergrößerung: 50X - 2000X
Systemreferenzvergrößerung: 50X-2600X
5. Fallbeleuchtung
(1) Beleuchtung Lichtquelle: 6V20W Halogenlampe, Helligkeit einstellbar;
(2) Versorgungsspannung: 220 (50Hz);
(3) Drehscheibenfilter: gelb, blau, grün, geschliffenes Glas;
(4) Polarisationsvorrichtung: ein einsetzbares Startpolarisationsblech und ein dreizylinderköpfiges Polarisationsblech;
Bewegungsbereich: Länge 50 mm; Horizontal 75 mm
7. Mikro-Bewegungswert 0,002mm
8. Regulierungsbereich: 53-75mm
9. Schimmelschutz: spezifisches Schimmelschutzsystem
4. Systemzusammensetzung:
Computerbasiertes Positive Reflexion Metallophasemikroskop (CMM-55E): 1, Metallophasemikroskop 2, Adapterspiegel 3, Kamera (CCD) 4, A/D (Bilderfassung) 5, Computer
Digitalkamera-Typ Positive Reflexion Metallphasemikroskop (CMM-55Z): 1, Metallphasemikroskop 2, Anpassungsspiegel 3, Digitalkamera
5. Auswahl der Geräte:
1. Brille: 12,5x 2. Objektiv: 50x 80x
3. Hochpixelbildsystem 4. Metallphasenbildmesssoftware CF-2000C
5. Software zur Analyse von Metallographie (Quantitativ) CF-2000JX
Auswahl der Analyse vor OrtFabriklaborauswahlHochschullaborauswahl
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