Spuren-Verunreinigungsanalysesystem in Halbleitergasen

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Mit dem Fortschritt in der Halbleitertechnik und der zunehmenden Anwendung von Halbleiterlasern in Bereichen wie Kommunikation, Informationsverarbeitung und anderem steigen die Spezialgase und -mengen, die im Herstellungsprozess verwendet werden. Dieses System verwendet eine Gaschromatographie, die automatisch Spuren von Verunreinigungen und Komponentengehalt in Halbleitermaterialiengasen erkennt.

Produktdetails

Messbar für Germanian (GeHWasserstoffphosphid (PH-WertArsen (AsHDichlorsilan (DCSTrichlorsilan (TCSVerunreinigungen in Halbleitergasen.

Hochpräzise automatische Erkennung (einfache Bedienung) durch ein leistungsstarkes Gaschromatometer.

Wasserstoff erkennbar (H2Sauerstoff (O2Stickstoff (N2Methan (CH4Kohlenmonoxid (COKohlendioxid (CO2),C2Komponenten,C3Verunreinigungen wie Komponenten.

Messbar für Germanian (GeHWasserstoffphosphid (PH-WertArsen (AsHDichlorsilan (DCSTrichlorsilan (TCSVerunreinigungen in Halbleitergasen.

Hochpräzise automatische Erkennung (einfache Bedienung) durch ein leistungsstarkes Gaschromatometer.

Wasserstoff erkennbar (H2Sauerstoff (O2Stickstoff (N2Methan (CH4Kohlenmonoxid (COKohlendioxid (CO2),C2Komponenten,C3Verunreinigungen wie Komponenten.

Messbar für Germanian (GeHWasserstoffphosphid (PH-WertArsen (AsHDichlorsilan (DCSTrichlorsilan (TCSVerunreinigungen in Halbleitergasen.

Hochpräzise automatische Erkennung (einfache Bedienung) durch ein leistungsstarkes Gaschromatometer.

Wasserstoff erkennbar (H2Sauerstoff (O2Stickstoff (N2Methan (CH4Kohlenmonoxid (COKohlendioxid (CO2),C2Komponenten,C3Verunreinigungen wie Komponenten.

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