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Shanghai Yiqiao International Trade Co., Ltd.
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Ersatzteile RUBBER DESIGN Stoßdämpfer

VerhandlungsfähigAktualisieren am05/10
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Ersatzteile Ersatzteile DeutschlandDie wichtigsten Produkte von EGE-Elektronik sind: Durchflussregler, Flüssigkeitsspiegelregler, induktive Näherungsschalter, kapazitive Näherungsschalter, optoelektronische Sensoren, Infrarot-Detektoren Seit 1976 hat die EGE-Elektronik Spezial-Sensoren GmbH Sonderzwecksensoren für eine Vielzahl von Industrieanwendungen entwickelt und produziert. Hersteller des Unternehmens. Sein Portfolio umfasst Flow Controller, Infrarot, Optoelektronik, Ultraschall-Sensoren, kapazitive Nächstschalter, Lichtbarrieren und. Ersatzteile RUBBER DESIGN Stoßdämpfer

Produktdetails

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Ersatzteile RUBBER DESIGN Stoßdämpfer


Ersatzteile RUBBER DESIGN Stoßdämpfer


MSE FILTERPRESSEN KOPFPLATTE KFP 800/KD25 GA4/TD/SWG


MSE FILTERPRESSEN NEUES ANSCHLUBSYSTEM


MSE FILTERPRESSEN KAMMERPLATTE 800 KD25/TD/SWG


MSE FILTERPRESSEN ENDPLATTE 800 KD25/TD/SWG/KA-DN25


Filterkörper für INFASTAUB AJB 800-980-22 P 310744


Membranventil für INFASTAUB AJB 800-980-22 P 030064


Folien für INFASTAUB AJB 800-980-22 P 300682


Controller für INFASTAUB AJB 800-980-22 P 320234


Elektromagnetventil für INFASTAUB AJB 800-980-22 P 320409


Filter für INFASTAUB AJB 800-980-22 P 300898


Filterkörper für INFASTAUB AJM 300-500-1 P 302466


Membranventil für INFASTAUB AJM 300-500-1 P 026200


Filme für INFASTAUB AJM 300-500-1 P 011058


Filterkörper für INFASTAUB AJM 900-500-15 P 302466


Membranventil für INFASTAUB AJM 900-500-15 P 011057


Folie für INFASTAUB AJM 900-500-15 P 011058


Controller für INFASTAUB AJM 900-500-15 P 320255


Elektromagnetventil für INFASTAUB AJM 900-500-15 P 320409


Filter für INFASTAUB AJM 900-500-15 P 300898


Filterkörper für INFASTAUB AJV 640-980-15 P 028913


Membranventil für INFASTAUB AJV 640-980-15 P 030064


INFASTAUB AJV 640-980-15 P Unterstützungsfolie 300682


Controller für INFASTAUB AJV 640-980-15 P 320234


Elektromagnetventil für INFASTAUB AJV 640-980-15 P 320409


Filter für INFASTAUB AJV 640-980-15 P 300898


SCHUNK 0371457 PGN-PLUS 380-2-AS


BRAUN 402051/999


ROLAND PW42AGS


Heingstler 0734007


SAMSON 4763-01200121000000


DENISON 701-00610-8


ALFING 8117294


ALFING 8513339


ALFING 8547598


MENNEKES 16A-6H / 220-250V2P + T


MENNEKES 16A-6H / 380-415V3P + T


MENNEKES 32A-6H / 220-380V3P + N + T


KUHNKE 64.063-110VAC


JUNCOR 40440050003050 C.NITTA TC 50X3050MM ENDLESS


HYDROTECHNIK 3185-03-35.030


HYDROTECHNIK 3107-00-45.00


Elektronik 1030099 E62.G14-303G10


BRABENDER TITRATIONPUMPE FÜR ABSORPTOMETER C


MULTI-KONTAKT 30.4016 ROBIFIX-S-L


INFICON 510-027, HLD6000


INFICON 710-202-G1


BD-SENSOREN 26.600 G-2503-R-1-8-C10-300-5K-000


LENORD+BAUER GEL293Y118


LENORD+BAUER GEL2037Y001


WAGNER-MAGNETE 752-ST/2 FE-1 130/31


CATTRON BT-923-00075 Akku NIMH 1,6 AH


GROSSFUNK GF – SENDER T 07 + EMPFANGER GF 2000I V2 / R99


HIRSCHMANN MA-9T/01 16001


COUDOINT SNE350X40S2-1KD040


PHOENIX SACC-M12FS-4QO-0,34 - 1641701


PHOENIX SACC-M12MS-4CON-PG9-VA-1553174


PHOENIX SACC-M12FR-4CON-PG7-1681130


PHOENIX SACC-M12MR-4CON-PG9-VA-1553226


Heingstler 0570856


MSE FILTERPRESSEN KD25/SWG


MSE FILTERPRESSEN KD25/SWG TD


Laserkomponenten FP-MVPICO-660-50-10-F90-KONF


CROWCON T4 tragbarer Multigasdetektor


EATON UNS1000-MS 0122-196


Die NARDA NRA-6000 RX


SCHUNK 9935815 SWO-R19-K


SCHUNK 9935816 SWO-R19-A


SCHUNK 0301294 KAS-19B-K-90-C


PHOENIX EBR40


WENGLOR FFAF149


KALINSKY DMU 2


ROLAND SHX42


KROHNE VFM3030FEX-XT-DN80


KROHNE VFM3030F-XTEX-DN50


INFICON Heizung für VBP160-Z,250-627


BINKS 502376


EUCHNER 088882 RPS3131SC100M


INTZA-WOERNER VP33/A-1/4-03/L2 020-R0202


INTZA-WOERNER VP33/A-1/4-00/L2 020-R0202


INTZA-WOERNER VP33/B-1/5-03LP P3PPR13PP3


EUCHNER 103267 GMOX-PR-12DN-C16


FINDER 20.22.9.024.4000


BONFIGLIOLI 309R4 457FP P132 B2


STERLING SAT 35026171


STERLING SAT 35013658


INFICON SQC310-4-E-2


SUHNER UAL 23RF ART.-NR. 06459305 (UAL 10R ist kundenspezifisches Modell)


ISRA VISION 288-5-S-40V1.1


ISRA VISION Nr.: S10902204


DANFOSS 18F6968 24VD. C / 0,02 KW


FUNKE TPL 00-K-12-11


ROLAND SM12CPM12S-GG


SAUNDERS AA040M62RHN


AERZEN 2000015543


SUPFINA ARTIKEL 10025290 68822.20


BRAUN A5S05T90-5M


Mankenberg Art. – Nr.: 6621403 sa- 1


Elektronik 1030195 E62.G85-303G10


GESSMANN V61.1LB1KM-02ZC-A050C152


GESSMANN VV81LB3MK-3ZP-B-X-A050P184EU03KHL/1030


DENISON 701-00610-8


HARTING 09 03 196 9621


HARTING 09 03 296 6825


PHOENIX 3031238 Mindestbestellung 50 Stück


PHOENIX 1050017 Mindestens 50 Stück


PHOENIX 3031212 Mindestbestellung 50 Stück


PHOENIX 3031225 Mindestbestellung 50 Stück


PHOENIX 1201442 Mindestbestellung 50 Stück


PHOENIX 3030417 Mindestens 50 Stück


PHOENIX 1004348 Mindestbestellung 100 Stück


PHOENIX 3031076 Mindestbestellung 50 Stück


PHOENIX 3030145 Mindestbestellung 50 Stück


PHOENIX 0824951 Mindestbestellung 50 Stück


PHOENIX 2891933


PHOENIX 2891018


PULSOTRONIK 9984-2065 120MA 5MM


PULSOTRONIK 9984-1150 10-120MM


MIKRO-EPSILON CTLT15+3 M MESSKOPFKABEL


BINKS 502375


BINKS 502376


SCHUNK 0300345 PZB 64


SCHUNK 0324452 Alter-Z-050


SCHUNK 0370103 PGN 125/1


KNF PML 4053-NF60 / 11.2W / 12VDC


GEFRAN KS-E-E-E-B16U-M-V


CONTITECH P 54-C8M-75-2BORDSCHEIBEND=¢71H7


CONTITECH P 60-C8M-75-2BORDSCHEIBEND=¢53H7


K+N CA10 A023 -620 E Gesamtbestellung gültig


K+N C125 A213 -620 E S2B G211 (PE nicht vorhanden, Vorderseite mit 4 Löchern)


K+N S3B G211


K+N C315 A200 -620 ER S3B G211


EATON-VICKERS MCSCH115AG000010


DUNKERMOTOREN GR63*55,8844208253


DUNKERMOTOREN GR42*25,8842701957


NOVOTECHNIK TRS-0050


Heingstler 0523292


DUFFNORTON 替代 SKA6000A10R


SIEMENS 5SM3344-4


FEIN 5356851144 BOP 10


HENNECKE F7620-100 089


HENNECKE D9509-703 971 D=26


HENNECKE D9541-007 152 D = 32 * 1,2


SIEMENS 7MF1567-3DB00-5EA1


SIEMENS 7MF1567-3DD00-5EA1


ROLAND P42AGS + E20-4P-B-O + SHX42 + CPM12S-G


Sontheimer A3 / 11ZM / Z32 / Z8


K&N CA10 F36828/001 Modellnummer ist unvollständig und muss bestätigt werden (Informationen zur elektrischen Funktion fehlen)


INFICON 3CC5-651-238B


INFICON 355-492


KETTENWULF 115/30.3X47, PA6


MULTI KONTAKT 14003491-200


MULTI KONTAKT 720005


SRM TECHNIK SR-M-PH 5 L0.7/ SN: 09091354


Karosserie-Komponenten AGB069


LENZE CPC 2700 Nr.:1160-0002


GESSMANN V62RDV-02ZC+02ZC-221


SCHMALENBERGER 59416X LAUFRAD SZ-M20X1,5-B61-2FLüGEL


SCHMALENBERGER 45557 LAUFRAD OFFEN 142X25-25-0.6020


Elektronik E62.S23-204M30


GEFRAN F058483


MULTI-KONTAKT 18.8005


MULTI-KONTAKT 18.0301 MGK3VB10-14+MGK3R29


MULTI-KONTAKT 18.4706 E3-36PE/B


STEINEL NEO-1


CONTRINEX DW-AS-607-M18-002


CONTRINEX RIT-1491-100


ORTLINGHAUS 0085-103-03-003000


SCHUNK 0362252 SRU-PLUS 40-W-180-90-8


NARDA EF0391


NARDA EHP-50F


SCHUNK 0371103 PGN-PLUS 125-1


Die NARDA RM2030


Die NARDA 6150AD-B


SONNE RDJALCV


SUN DSCHXHV


Sonne FXDALAN-30LPM


SUN RDDALEV


KARL KLEIN ENG1-1,2B/S P/N:71463-1.000


GEFEG-NECKAR K542 254200998 6UF / IP44 110V50 / 60HZ / 200MA


FUNKE TPL 00-K-12-11


GUNNEBO S70003PCB


AVTRON HS35MYX6FPU0MA00 (Bitte prüfen Sie die Version des Steckers oder Kabels)


MITTELMANN MKA20 1×0,5M


SILVENT 712315, SV209-L


MAGNETS4YOU STM-05X07-N


ROLAND IE42-30GS


GEFRAN F058483


GUTEKUNST D-235


BERNSTEIN 6502999018


CEJN 10-981-1588


SPANDAU PUMPE PRK0302PBS275E05AA 0,37KW 380V / 50HZ


SCHENCK V023643.B01


HEIDENHAIN 827039-16 Weitere kompatible Modelle


GFA Elektronic 25.15 - 30, 00


OMRON F3S-TGR-NMPC-21-10


SCHUNK 0301130 MMS 22-PI2-S-M8-PNP-HD


PHOENIX 2708232


PHOENIX 2834070


HENGSTLER AC58/1212EK.42SCH


HENGSTLER AC58 / 1212EK.72SGX: 6251


BINKS 502375


BINKS 502376


SCHLEUNLGER UNISTRIP2300


VENTUR 436511300 SC50C1500T MIT MOTOR IE3 TP/PTC 400/690V,50HZ


CONTRINEX CXG24C-512-BN-V30-M7-050


BINKS 502375


BINKS 502376


KNF 025202/024910 N85.3KNDC


KNOLL AMHE 90LCA2


NORELEM 07144-508


DUNKERMOTOREN 88437 07503 GR 53X30


DR.BRANDT 007090004G03 / AN-SZ (4-20MA) / LP909


INNER 66RNS06212LWX07XFDKTNPT1/230+


KAYDON KG 200 CPO 508,00 X 558,80 X 25,40 MM


CONTRINEX DW-AS-603-C44-304


RHEONIK RHM15L-N1-P1-PM0-M1-D1-JM-NN-A1-SE-N-A/B


SCHUNK 0302308 SWA-005-000-000


SCHUNK 0302307 SWK-005-000-000


PROXITRON IKQ 100T.38 G S4


LUFTTECHNIK SD101 NW 200 MM MIT KERN 120 MM


KNOLL SP50-550


GFA ELEKTROMATEN SG63F_25.15 Art.10003166.00011


Kran PF090200150001


SVENDBORG 1712-1024-001








(kleines Out-Line-Paket)


Kleine Verpackung. Eines der Oberflächenmontage-Gehäuse, der Stift wird von beiden Seiten des Gehäuses in Möwenflügelförmigkeit (L-Form) ausgeführt. Es gibt sowohl Kunststoff als auch Keramik. Auch SOL und DFP genannt.


SOPs werden neben Speicher-LSIs auch weit verbreitet in Schaltungen wie ASSPs, die nicht sehr groß sind. In den Bereichen, in denen die Eingangs- und Ausgangsklemmen nicht mehr als 10 bis 40 sind, ist SOP die beliebteste Oberflächenmontage. Die Stiftzentrum ist 1,27 mm entfernt und die Anzahl der Stifte liegt zwischen 8 und 44.


Außerdem wird ein SOP mit einem Abstand von weniger als 1,27 mm aus dem Stiftzentrum auch als SSOP bezeichnet. SOPs mit einer Montagehöhe von weniger als 1,27 mm werden auch als TSOP bezeichnet (siehe SSOP, TSOP). Es gibt auch eine SOP mit Kühler.


66 und Sow


(Kleines Umrisspaket (Wide-Jype))


Breitkörper SOP. Einige Halbleiterhersteller verwenden einen Namen.


herstellen


Ab den 1930er Jahren wurden Halbleiter in chemischen Elementen in der Periodischen Tabelle von Forschern wie William Shockley von Bell Labs als die wahrscheinlichsten Rohstoffe für feste Vakuumröhre angesehen. Von Kupferoxid über Germanium bis hin zu Silizium wurden die Rohstoffe in den 1940er und 1950er Jahren systematisch untersucht. Heute, obwohl einige III-V-wertige Verbindungen in der Periodischen Tabelle wie Galliumaransinid für spezielle Zwecke wie Leuchtdioden, Laser, Solarzellen und integrierte Schaltungen mit höchster Geschwindigkeit eingesetzt werden, wird monokristallines Silizium zur Grundlage für integrierte Schaltungen. Die Methode zur Herstellung fehlerfreier Kristalle dauerte Jahrzehnte.


Halbleiter-IC-Prozess umfasst die folgenden Schritte und wiederverwendet:


Gelbes Licht (Schatten)


Ätzung


Film


Verbreitung


CMP


Einkristalline Siliziumwaffen (oder III-V-Gruppen wie Galliumaransid) werden als Substrate verwendet. Anschließend werden Komponenten wie MOSFETs oder BJTs mit Mikro-, Diffusions- und CMP-Technologien hergestellt und anschließend Leitungen mit Mikro-, Film- und CMP-Technologien hergestellt, um die Chipfertigung abzuschließen. Aufgrund der Anforderungen an die Produktleistung und der Kosten können die Leitungen in Aluminium- und Kupferverarbeitung unterteilt werden.


ICs bestehen aus vielen überlappenden Schichten, die jeweils durch Bildtechnik definiert sind und in der Regel in verschiedenen Farben dargestellt werden. Einige Schichten geben an, wo sich verschiedene Dopings in die Substratschicht verbreiten (zu einer Diffusionsschicht), einige definieren, wo zusätzliche Ioneninfusion erfolgt (Intrusionsschicht), einige definieren Leiter (Polykristallines Silizium oder Metallschicht) und einige definieren Verbindungen zwischen Leiterschichten (Perforation oder Kontaktschicht). Alle Komponenten bestehen aus einer bestimmten Kombination dieser Schichten.


Bei einem CMOS-Prozess bilden alle Türschichten (polykristallines Silizium oder Metall) Transistoren, die durch die Diffusionsschicht hindurchgehen.


Widerstandsstruktur, das Länge-Breite-Verhältnis der Widerstandsstruktur, kombiniert mit dem Oberflächenwiderstandskoeffizienten, bestimmt den Widerstand.


Die Kapazitätsstruktur kann aufgrund von Größenbeschränkungen nur sehr kleine Kapazitäten auf der IC erzeugen.


Seltenere Induktionsstrukturen können Chip-Induktionen hergestellt oder durch einen Zyklon simuliert werden.


Da CMOS-Geräte nur den Strom zwischen den logischen Türen leiten, verbrauchen CMOS-Geräte viel weniger Strom als Doppelstufenkomponenten.


Random Access Memory ist die häufigste Art von integrierten Schaltungen, daher ist das Gerät mit der höchsten Dichte Speicher, aber es gibt auch Speicher auf dem Mikroprozessor. Obwohl die Struktur sehr komplex ist - die Chipbreite hat sich seit Jahrzehnten verringert - sind die Schichten der integrierten Schaltungen immer noch viel dünner als die Breite. Die Herstellung der Komponentenschicht ähnelt sehr dem Fotoprozess. Obwohl Lichtwellen im sichtbaren Spektrum nicht verwendet werden können, um Komponentenschichten zu belichten, da sie zu groß sind. Hochfrequente Photonen (in der Regel UV) werden verwendet, um Muster in jeder Schicht zu erstellen. Da jedes Merkmal sehr klein ist, ist ein Elektronenmikroskop ein notwendiges Werkzeug für einen Prozessingenieur, der einen Fertigungsprozess in Betrieb nimmt.


Jedes Gerät muss getestet werden, bevor die Verpackung mit einem automatischen Testgerät (ATE) verwendet wird. Der Testprozess wird als Wafer-Test oder Wafer-Probe bezeichnet. Die Wafer werden in rechteckige Blöcke geschnitten, die jeweils als "die" bezeichnet werden. Jede gute Diet wird mit Aluminium- oder Golddraht auf "Pads" geschweißt, die mit der Verpackung verbunden sind, die in der Regel an den Seiten der Diet liegen. Nach der Verpackung wird das Gerät auf dem gleichen oder ähnlichen ATE, der bei der Wafer-Probe verwendet wird, endgültig geprüft. Die Testkosten können bis zu 25% der Herstellungskosten eines kostengünstigen Produkts erreichen, sind jedoch für niedrige Leistungen, große und / oder kostengünstige Geräte vernachlässigbar.


Im Jahr 2005 kostete der Bau einer Fertigungsanlage (häufig als Halbleiterfabrik bezeichnet) mehr als eine Milliarde US-Dollar, da der Großteil der Operationen automatisiert war.


Entwicklungstrends


Zwischen 2001 und 2010 war die durchschnittliche jährliche Wachstumsrate der Produktion von integrierten Schaltkreisen in China von über 25% und die durchschnittliche jährliche Wachstumsrate des Umsatzes von integrierten Schaltkreisen von 23%. Im Jahr 2010 erreichte die inländische Produktion von integrierten Schaltkreisen 64 Milliarden Blöcke und der Umsatz überschritt 143 Milliarden Yuan, was das Zehnfache und Achtfache des Jahres 2001 entspricht. Die Größe der chinesischen integrierten Schaltkreisindustrie hat sich von weniger als 2% der weltweiten integrierten Schaltkreisindustrie im Jahr 2001 auf fast 9% im Jahr 2010 erhöht. China ist in den letzten zehn Jahren eine der am schnellsten wachsenden Regionen der integrierten Schaltungsindustrie der Welt.


Die Größe des inländischen Marktes für integrierte Schaltungen hat sich auch von 114 Milliarden Yuan im Jahr 2001 auf 735 Milliarden Yuan im Jahr 2010 erweitert, was das 6,5-fache ist. Das Verhältnis der inländischen integrierten Schaltungsindustrie zur Marktgröße hat immer nicht mehr als 20% überschritten. Wenn der Umsatz in der integrierten Schaltkreisindustrie abgezogen wird, der im Ausland beauftragte Gießerei akzeptiert wird, ist die tatsächliche inländische Selbstversorgungsquote des chinesischen integrierten Schaltkreismarkts noch weniger als 10%, und die integrierten Schaltkreisprodukte, die auf dem inländischen Markt benötigt werden, sind hauptsächlich von den Importen abhängig. Die Importe von integrierten Schaltkreisen im Inland haben sich in den letzten Jahren schnell erweitert, 2010 erreichten sie einen Rekordwert von 157 Milliarden US-Dollar, und integrierte Schaltkreise haben zwei Jahre in Folge Rohöl als Importgüter übertroffen. Im Vergleich zum riesigen und schnell wachsenden Binnenmarkt entwickelt sich die integrierte Schaltungsindustrie Chinas zwar schnell, kann aber immer noch die Nachfrage nach innen nicht erfüllen.


Die schnelle Entwicklung der derzeitigen strategischen aufstrebenden Industrien, die durch das mobile Internet, die Konvergenz der dreier Netzwerke, das Internet der Dinge, die Cloud-Computing, das intelligente Stromnetz und die neue Energiefahrzeuge repräsentiert werden, wird nach Computer, Netzwerkkommunikation und Verbraucherelektronik eine neue Kraft für die Entwicklung der integrierten Schaltungsindustrie sein. Das Industrieministerium erwartet, dass der inländische Markt für integrierte Schaltungen bis 2015 1200 Milliarden Yuan erreichen wird.


Die ökologische Umgebung für die Entwicklung der integrierten Schaltungsindustrie Chinas muss dringend optimiert werden, Design, Fertigung, Verpackungsprüfung und spezielle Geräte, Instrumente, Materialien und andere Industrieketten haben mangelnde Upstream-Synergie, Chips, Software, gesamte Maschinen, Systeme und Anwendungen sind nicht eng miteinander verbunden. Während des zwölften Fünfjahres wird China aktiv das virtuelle Integrationsmodell der Industriekette von integrierten Schaltkreisen oben und unten erforschen, die Rolle des Marktmechanismus voll ausnutzen, die Zusammenarbeit und die Synergie oben und unten der Industriekette stärken und gemeinsam Wertschöpfungsketten aufbauen. Förderung und * Ökologie, Stärkung der organischen Verbindung von integrierten Schaltungsprodukten und Software, Maschinen, Systeme und Dienstleistungen, Verwirklichung des Sprungs der Gruppe in allen Bereichen des Unternehmens und Verbesserung des allgemeinen Wettbewerbsvorteils der großen Industriekette für elektronische Informationen.


Im Jahr 2023 wird die allgemeine Versuchseinrichtung für Bauteile und Bauteile außerhalb der Kabine von Xiaotian ein großes Maßstab an integrierten Schaltkreisen und neue Halbleitergeräte mit Raumumwelteeffekten testen [4].


Entwicklungsempfehlungen


Innovative Effizienz übertrifft herkömmliche kostenstatische Effizienz


Theoretisch gehören die Geschäftskosten zur Kategorie der kostenstatischen Effizienz und spielen eine bedeutende Rolle in den Anfangsphasen der industriellen Entwicklung. Die steigenden Kosten für das externe Geschäft sind tatsächlich ein externer Triebkraft für die Modernisierung der Industrie und die Innovation. Die integrierte Schaltungsindustrie von Shanghai als High-Tech-Industrie muss die Vorteile des Clusters wie die Vollständigkeit der Industriekette, die hohe interne Vernetzung und die organische Verbindung mit dem globalen Produktionsnetz aktiv nutzen, um die ökologische Beziehung der High-Tech-Industrie zu erreichen, die die Interaktion und die Symbiose zwischen den Unternehmen ermöglicht, um das Tempo des Unternehmertums und der Innovation in der Industrie effektiv zu sichern und zu fördern. Es hat sich gezeigt, dass, obwohl die Landkosten im Silicon Valley in den 1980er Jahren deutlich höher waren als in der Route 128 Region, Halbleiterunternehmen, die im Silicon Valley gegründet wurden, 60% schneller neue Produkte entwickelten und 40% schneller lieferten als Unternehmen anderswo in den USA. Insbesondere haben Hardware- und Softwarehersteller im Silicon Valley enge Bündnisse geschlossen, um die Kosten für Prozesse wie die Idee bis zur Herstellung zu minimieren, d. h. durch dynamische Unternehmenskollegationen, die technologisch intensive Verbindungen als Grundlage bilden, die Unternehmenskosten zu senken und somit statische Geschäftskosten zu kompensieren [2].


Genaue Produkt- und Marktpositionierung


Viele Designer-Talente, die nach Hause zurückkehren, glauben, dass die Eltern in China, die gute Kleidung und Essen verbrauchen, im Vergleich zu den entwickelten Ländern in Europa und Amerika, unsere Verbraucher neugierig auf neue Produkte sind, in der Regel nicht zurücksenden, im Grunde keine Entschädigung. Diese Eigenschaften bieten gute Marktchancen für Unternehmertum, Innovation und Entwicklung von Designunternehmen. Unternehmen müssen gut in der Entdeckung von Produktanwendungen und der Suche nach Märkten sein [2].


Die Expansion von Designunternehmen ist hauptsächlich durch Talent und Produktpositionierung beschränkt. Aufgrund der mangelnden Definition von Talentteams, Märkten und Produkten sind Startups nicht in der Lage, große Projekte zu realisieren und sind nicht geeignet, große Projekte zu realisieren. Die meisten bestehenden Designunternehmen sind immer noch für dezentrale Märkte geeignet, um Systemhersteller zu unterstützen und eine Vielzahl von Dienstleistungen anzubieten. Humanintensive Geschäftsprojekte eignen sich nicht für europäische und amerikanische Unternehmen, sondern für uns. Zum Beispiel, wenn ein Produkt auf dem Inlandsmarkt 3 Millionen Stück liefern kann, dann wird das Unternehmen tun, und ausländische Unternehmen können es nicht tun.


3. Schaffung einer "neuen Heimat" der internationalen Elite-Talente, um die Vorteile der zurückkehrenden Talente voll auszuschöpfen


Haiback Talent hat viele fortschrittliche Technologieentwicklungsforschung im Ausland gemacht und in einigen der führenden Unternehmen der Welt Industrieerfahrung, nach der Rückkehr in die Nachfrage nach Produktentwicklungsanwendungen, leicht erfolgreich. Die Forschung und Entwicklung der integrierten Schaltungsindustrie fürchtet sich vor Richtungsfehlern und niedrigen Wiederholungsniveaus, und die Leute wissen, wie es zu tun ist, um erfolgreich zu sein [2].


Das typische Modell der Entwicklung der integrierten Schaltkreisindustrie von Shanghai im Stil von "Heimattalentteam + Auslandsarbeitserfahrung + Vorzugspolitik + Risikokapital" ist besonders im Zhangjiang High-Tech-Park offensichtlich. Aufgrund der Verzögerung im Aufbau internationaler Gemeinschaften, der Einschränkungen der Haushaltspolitik und der mangelnden internationalen Wettbewerbsfähigkeit der Einkommenssteuerpolitik ist Zhangjiang jedoch immer noch nicht ein Heimatgebiet für hochkarätige Talente im Ausland, eine langfristig verwurzelte Offenheit und ein internationaler High-Tech-Park. Die kurzfristige Absicht der ausländischen Studenten und die Atmosphäre des "Zuwandervogels" zu beobachten ist stark, was der globalen Ansammlung von hochrangigen Talenten ungünstig ist. Um die Vorteile der Lage von Zhangjiang und der Pudong-Integration voll auszuschöpfen


Die politischen Vorteile des Reformpilots werden die bloße Anziehung von ausländischen Studenten in die Anziehung von hochrangigen Talenten wie ausländischen Studenten und ausländischen Eliten verwandeln. Durch den Bau der Wissenschaftsstadt und die Internationalisierung der persönlichen Einkommenssteuersatze und die Optimierung der Siedlungspolitik wird die Tradition der Shanghai-Kultur der „Haisekultur“ entwickelt, um Zhangjiang zu einer neuen Heimat für die Zusammenführung von Talenten aus allen Ländern der Welt zu machen und die internationale Wettbewerbsfähigkeit von Zhangjiang im Wettbewerb um Talente auf hoher Ebene erheblich zu verbessern [2].


4. Schwer auf der Akkumulation, die Überwindung des akuten Gewinns


Die Komplexität der Designindustrie ist hoch und erfordert ein stabiles Team und eine tiefe Akkumulation. Akkumulation ist ein unüberwindbarer Entwicklungsprozess. Die Entwicklung der chinesischen integrierten Schaltkreisindustrie ist wie das Spielen von Go, kann nicht nur für einen Moment kürzer sein, sondern für eine längere Zeit als für wen, und nicht für wen.


Die Integration von Talenten in der Stromindustrie, insbesondere das Problem der Versorgung mit Design-Talenten, ist seit langem ein Schwerpunkt der Bedenken der Grenzen, viele Hochschulen und Universitäten arbeiten in Berufs- und Einstellungen, Talentbildung und folgen einseitig den sogenannten sozialen Schwerpunkten und akademischen Kollegen, was zu den grundlegenden integrierten Qualitäten der Studenten und den Humanwissenschaften führt, die nicht hoch genug sind, das Wissen ist zu eng. Tatsächlich spiegeln zahlreiche Designunternehmen allgemein wider, dass ihre Kriterien für die Einstellung von Talenten nicht nur die sogenannten beruflichen Kollegen sind, sondern sich eher auf Grundkenntnisse und umfassende Qualitäten konzentrieren, und sie spiegeln allgemein wider, dass die Hochschulbildung zu schnell ist [2].


Förderung der Zusammenarbeit zwischen Unternehmen und Förderung der Zusammenarbeit in der Industriekette


Es gibt weniger horizontale Verbindungen zwischen inländischen Unternehmen, Outsourcing hat gerade begonnen, im Grunde hat jedes Designunternehmen seinen eigenen Chip und entwickelt sich umfassend. Diese Faktoren beschränken die schnelle Entwicklung des Unternehmens. Es ist wichtig, die Lösungen einiger Unternehmen im Süden Chinas für das Ausland vollständig zu nutzen, damit Endkunden die Produkte des Unternehmens direkt auf die bestehenden Lösungen anwenden können. Darüber hinaus sollen Konstruktionsunternehmen enge strategische Partnerschaften mit Lösungsanbietern, Routenhändlern und Systemherstellern aufbauen [2].


6. Verzicht auf idealisiertes Forschungsmodell


Die Integration der Industrie und Wissenschaft wurde von allen Sektoren als eine gute Rezeption zur Förderung der Entwicklung der High-Tech-Industrie angesehen, aber die Ergebnisse der Feldforschung zeigen, dass es in dieser Hinsicht unrealistische Illusionen gibt. Viele Designunternehmen, die ich untersucht habe, haben keine Hoffnung, dass Universitäten helfen, Produkte zu machen. Die Projektanforderungen des Unternehmens sind schnell fortgeschritten und es gibt Probleme mit der Zeit der Zusammenarbeit; Hochschulen haben in der Regel keine Möglichkeit, die Fabrik in der Lage ist, die Fabrikräume effektiver zu nutzen, ist auch für die Verwendung von Forschungs- und Entwicklungszentren geeignet. Die neu entwickelte Luftkühlungsanlage reduziert die Abhängigkeit von externen Anlagen und ermöglicht die Installation von Einrichtungen an jedem beliebigen Ort, während sie weiterhin verschiedene STC-konforme T2000-Module unterstützt, um den Anforderungen verschiedener Tests gerecht zu werden [2].


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Nach der Erfindung und Massenproduktion von Transistoren wurden verschiedene Halbleiterkomponenten wie Dioden, Transistoren und andere in großen Mengen verwendet, um die Funktion und Rolle von Vakuumröhren in der Schaltung zu ersetzen. Mitte und Ende des 20. Jahrhunderts machten technologische Fortschritte in der Halbleiterherstellung integrierte Schaltkreise möglich. Im Vergleich zur manuellen Montage von Schaltungen mit einzelnen getrennten elektronischen Komponenten können integrierte Schaltungen eine große Anzahl von Mikrotransistors in einen kleinen Chip integrieren, was ein großer Fortschritt ist. Die Produktionskapazität, Zuverlässigkeit und der modulare Ansatz zur Schaltungsdesign für integrierte Schaltungen sorgen für eine schnelle Einführung von standardisierten ICs anstelle der Konstruktion mit diskreten Transistoren.


ICs haben zwei Hauptvorteile für diskrete Transistoren: Kosten und Leistung. Die niedrigen Kosten sind darauf zurückzuführen, dass der Chip alle Komponenten durch die Grafiktechnik als eine Einheit druckt, anstatt nur einen Transistor zu einer Zeit zu produzieren. Die hohe Leistung ist aufgrund des schnellen Schalts der Komponenten und des geringeren Energieverbrauchs, da die Komponenten klein und nahe zueinander stehen. Im Jahr 2006 reichte die Chipfläche von wenigen Quadratmillimetern auf 350 m² und erreichte eine Million Transistoren pro Quadratmillimeter.


Der erste Prototyp der integrierten Schaltung wurde 1958 von Jack Kilby fertiggestellt und umfasste einen bipolaren Transistor, drei Widerstände und einen Kondensator.


Abhängig von der Anzahl der Mikroelektronik, die auf einem Chip integriert ist, können integrierte Schaltkreise in folgende Kategorien unterteilt werden:


1. Kleine integrierte Schaltungen


SSI steht für Small Scale Integration und hat weniger als 10 logische Tore oder weniger als 100 Transistoren.


2. Mittelständische integrierte Schaltungen


MSI steht für Medium Scale Integration mit 11 bis 100 logischen Toren oder 101 bis 1k Transistoren.


3. Massiv integrierte Schaltungen


LSI steht für Large Scale Integration mit 101 bis 1k logischen Toren oder 1.001 bis 10k Transistoren.


4. Supergroße integrierte Schaltungen


VLSI steht für Very Large Scale Integration mit 1.001 bis 10k logischen Toren oder 10.001 bis 100k Transistoren.


5. Sehr große integrierte Schaltungen


ULSI steht für Ultra Large Scale Integration mit 10.001 bis 1M logischen Toren oder 100.001 bis 10M Transistoren.


GLSI steht für Giga Scale Integration und hat mehr als 1.000.001 logische Tore oder 10.000.001 Transistoren.


Abhängig von der Verarbeitung des Signals kann es in analoge integrierte Schaltungen, digitale integrierte Schaltungen und gemischte Signal-integrierte Schaltungen mit analogen und digitalen Funktionen unterteilt werden.


Entwicklung integrierter Schaltungen


Die integrierten Schaltungen sind die "Kerne" eines Mikroprozessors oder Multikernprozessors, die alles steuern können, von Computern über Handys bis hin zu digitalen Mikrowellen. Speicher und ASICs sind Beispiele für andere Familien von integrierten Schaltkreisen, die für die moderne Informationsgesellschaft von großer Bedeutung sind. Obwohl die Entwurfskosten für die Entwicklung eines komplexen integrierten Schaltkreises sehr hoch sind, werden die Kosten pro IC minimiert, wenn sie in der Regel auf Millionen von Produkten verteilt sind. Die Leistung der ICs ist hoch, da die kleinen Größen kurze Pfade mit sich bringen, so dass niedrige Leistungslogikschaltungen bei hohen Schaltgeschwindigkeiten eingesetzt werden können.


Im Laufe der Jahre hat sich die IC kontinuierlich zu kleineren Baugrößen entwickelt, so dass jeder Chip mehr Schaltungen verpacken kann. Dadurch wird die Kapazität pro Flächeneinheit erhöht, was Kosten senkt und Funktionalität erhöht – siehe Moores Gesetz, bei dem sich die Anzahl der Transistoren in integrierten Schaltkreisen alle zwei Jahre verdoppelt. Zusammenfassend verbesserten sich fast alle Indikatoren, da sich die Formgröße verringerte - die Einheitskosten und der Schaltleistungsverbrauch sinkten und die Geschwindigkeit steigte. Die Integration von IC-Geräten auf Nanonebene ist jedoch nicht problemlos, hauptsächlich der Leckstrom (Leckstrom). Daher ist die Steigerung der Geschwindigkeit und des Stromverbrauchs der Endbenutzer deutlich, und die Hersteller stehen vor einer scharfen Herausforderung, bessere Geometrien zu verwenden. Dieser Prozess und die erwarteten Fortschritte in den kommenden Jahren sind in der Halbleiter International Technology Roadmap (ITRS) gut beschrieben.


Immer mehr Schaltungen erscheinen als integrierte Chips in den Händen der Designer, so dass die Entwicklung von elektronischen Schaltungen zu Miniaturisierung und hoher Geschwindigkeit neigt. Immer mehr Anwendungen haben sich von komplexen analogen Schaltungen in einfache digitale logische integrierte Schaltungen umgewandelt.


2022, Vorschlag zur Förderung der nachhaltigen Entwicklung der gesamten Industriekette von integrierten Schaltkreisen in China: Die integrierte Schaltkreisindustrie ist eine strategische, grundlegende und führende Industrie für die nationale wirtschaftliche und soziale Entwicklung, und die Mängel der gesamten Industriekette sind zu einem der Schlüsselfaktoren geworden, die die qualitativ hochwertige Entwicklung der digitalen Wirtschaft in China einschränken und die umfassende Verbesserung der nationalen Kraft beeinflussen. In dieser Phase ist die integrierte Schaltkreisindustrie Chinas unterdrückt und der Mangel an Produktionskapazitäten im mittleren und niedrigen Bereich zunehmend verschärft, und es gibt immer noch einige dringende Probleme, die gelöst werden müssen. Erstens besteht die schwache Kapazität der inländischen Chip-Unternehmen neben dem unzureichenden Markt. Zweitens blockiert der Westen die Ausrüstung der fortschrittlichen Technologien der integrierten Schaltungsindustrie Chinas vollständig und bildet neue industrielle Barrieren. Drittens fehlt es derzeit an Talenten in der integrierten Schaltkreisindustrie in China, während die Ausbildung von Prozessforschern und Entwicklern keine Unterstützung der "Produktionslinie" hat. Zu diesem Zweck wird vorgeschlagen: Erstens ist es, die Vorteile des neuen nationalen Systems zu nutzen und die Entwicklung der integrierten Schaltungsindustrie fortzusetzen. Fortsetzung und Ausbau der wichtigsten nationalen wissenschaftlichen und technologischen Spezialprojekte, konzentrieren Sie sich auf die Bewältigung der Kernhwierigkeiten. Unterstützung der Anwendung, schrittweise die inländische Ersatz zu realisieren. Erweiterung neuer Anwendungsbereiche. Erhöhung der Größe der Industriefonds und Verlängerung des Investitionszyklus. Zweitens ist es, das langfristige Layout der Industrie einzuhalten und die Reform der Talentbildung zu vertiefen. Sowohl eine „Kurze“ als auch eine „Verlängerung“. Stärkung der Fortbildung von Wissenschaftlern und Sicherung der Investitionen in die Grundlagenforschung, um die Talentbasis zu stärken. Drittens ist es, ein hohes Maß an Offenheit gegenüber dem Ausland zu behalten, Emerging Markets zu erweitern und zu schaffen. Aktiv die zukünftigen Schwellenmärkte im Zusammenhang mit integrierten Schaltkreisen zu erforschen und unsere integrierten Schaltkreisunternehmen zu unterstützen. [3]


Verbreitung von IC


Erst ein halbes Jahrhundert nach ihrer Entwicklung wurden integrierte Schaltkreise überall und Computer, Handys und andere digitale Geräte wurden Teil der modernen Gesellschaft. Dies liegt daran, dass moderne Rechen-, Kommunikations-, Fertigungs- und Verkehrssysteme, einschließlich des Internets, alle von der Existenz integrierter Schaltungen abhängen. Viele Wissenschaftler glauben sogar, dass die digitale Revolution durch integrierte Schaltkreise das wichtigste Ereignis in der Geschichte der Menschheit ist.


Klassifizierung von IC


Es gibt viele Klassifizierungsmethoden für integrierte Schaltkreise, die nach der Art der Schaltkreise analog oder digital unterteilt werden können: analoge integrierte Schaltkreise, digitale integrierte Schaltkreise und integrierte Schaltkreise mit gemischtem Signal (analog und digital auf einem Chip).


Digitale integrierte Schaltungen können alles enthalten, von Tausenden bis zu Millionen von logischen Türen, Triggern, Multitaskern und anderen Schaltungen auf wenigen Quadratmillimetern. Die geringe Größe dieser Schaltungen ermöglicht höhere Geschwindigkeiten, geringeren Stromverbrauch und reduzierte Herstellungskosten im Vergleich zu Plattenintegrationen. Diese digitalen ICs, repräsentiert durch Mikroprozessoren, Digitale Signalprozessoren (DSPs) und Singlechips, verwenden Binäre bei der Arbeit und verarbeiten 1- und 0-Signale.


Analoge integrierte Schaltungen haben, wie zum Beispiel Sensoren, Stromsteuerungsschaltungen und Abgabe, die analoge Signale verarbeiten. Fertigstellung der Vergrößerung, Filtern, Demodulation, Mixing-Funktionen usw. Verringerung der Belastung der Schaltungsdesigner durch den Einsatz von von Experten entwickelter analoger integrierter Schaltungen mit guten Eigenschaften