RF-Plasmaprozessor Deutschland diener

Produktbeschreibung: VPS-MF05R ist ein rotierender Vakuum-Plasma-Prozessor, der hauptsächlich verwendet wird, um verschiedene Pulver, Pulvermeterialien (insbesondere Nanopulvermaterialien) zu verarbeiten, wie Kohlenschwarz, Kohlennanorohrpulver, Borpulver, Aluminiumpulver, Eisenpulver, Gummipulver, Polyethyldiolpulver, Wachsbasiertes Additivpulver, Katalysatorpulver, Walzenpulver, Siliziumdioxid, Polymerpulver und andere Materialien der Oberflächenaktivierung zu modifizieren. Durch die Bombardierung der Pulveroberfläche durch hochenergetische Partikel im Plasma, die Einführung verschiedener aktiver Gruppen nach der Änderung der Form der Pulveroberfläche, kann die Plasmabehandlung einige Verunreinigungen der Oberflächenabsorption entfernen, um die Hydrophilität, Dispersion, Kompatibilität, Fluidität, Katalyse und andere Zwecke des Pulvers zu verbessern.

Radiofrequenz-PlasmaprozessorAnwendungen: Verbesserung der Kompatibilität, Verbesserung der Dispersion, Verbesserung der Katalyse, Verbesserung der Hydrophilität, Verbesserung der Mobilität, Einführung von Funktionsgruppen.

Radiofrequenz-PlasmaprozessorEigenschaften: Dynamische Rollen-Rotationsbehandlung; Gleichmäßige Behandlung; eine Maschine mit doppeltem Gebrauch (nicht drehen, was einem normalen Vakuum-Plasma-Prozessor entspricht); Das Pulverfiltersystem (verhindert, dass das Pulver in die Vakuumpumpe einatmet und die Lebensdauer der Vakuumpumpe beeinflusst) hat niedrigen Energieverbrauch, geringe Verschmutzung, kurze Behandlungszeit und andere offensichtliche Merkmale.

Produktparameter: