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32, Lane 156, Changji Road, Jiading Distrikt, Shanghai
Zhanghe Wissenschaftliche Instrumente (Shanghai) Co., Ltd.
32, Lane 156, Changji Road, Jiading Distrikt, Shanghai
Proxy LOGOSOL Vorausrichter Optische Instrumente
Ansprechpartner: i872i868549
amerikanisches LogosolVorausrichterEs ist ein hochintegriertes Gerät, das hauptsächlich für die Wafer-Vorausrichtung während der Halbleiterherstellung verwendet wird. Vorausrichter werden in der Regel in größere Geräte oder Systeme wie Klebemaschinen, Graviermaschinen, Filmabscheidungsgeräte und Graviergeräte integriert, um Wafer vor Prozessbeginn schnell und präzise auszurichten.
Die LOGOSOL-Vorausrichterserie umfasst mehrere Modelle, die jeweils ihre spezifischen Anwendungsszenarien und technischen Eigenschaften besitzen:
LPA26-3: Geeignet für die hochpräzise Ausrichtung kleiner Wafer.
LPA38-3: Für eine effiziente Ausrichtung mittelgroßer Wafer geeignet.
LPA58-3: Geeignet für die hochpräzise Ausrichtung großer Wafer.
LPA312-3: Geeignet für die Ausrichtung von übergroßen Wafers.
LPA812-3: Geeignet für die hochpräzise Ausrichtung von Wafers mit übergroßen Größen.
LPA1218-3: Geeignet für die Ausrichtung von Wafers mit sehr großen Größen.
Diese Vorausrichter unterstützen Wafer-Größen von 45 mm bis 480 mm und eignen sich für unterschiedliche Prozessanforderungen.
Zu den technischen Merkmalen der LOGOSOL-Vorausrichter gehören:
Hoch integriertSpeichern Sie Platz, teilen Sie das Steuersystem mit dem Hauptgerät und ermöglichen eine nahtlose Anbindung.
Hohe PräzisionGeeignet für hochpräzise Prozesse, um eine genaue Ausrichtung der Wafer-Mitte und der Kristallisierung zu gewährleisten.
Multifunktionale SteuerungssoftwareUnterstützt Kompatibilität und Schnittstellen mit verschiedenen Halbleiterplattformen.
Schnelle PositionierungSchnelle und präzise Wafer-Positionierung in der Hochgeschwindigkeits-Produktionslinie.
LOGOSOL-Vorausrichter werden weit verbreitet in folgenden Halbleitergeräten eingesetzt:
Sicherstellung einer genauen Ausrichtung der Wafer-Mitte und der Kristallinition vor dem Lithographieprozess.
Verklebte Darstellungsgeräte: Gewährleistung einer konsistenten Wafer-Position während der Beschichtung und Darstellung.
Dünnfilm-AblagegeräteSicherstellung der Ausrichtung des Wafers an die Reaktionsräume vor dem Ablagerungsprozess.
GravungsgeräteGewährleistung einer genauen Ausrichtung der Wafer-Position und -Winkel im Gravurprozess.
