Pulveratomschicht Ablagerungsanlage

VerhandlungsfähigAktualisieren am01/29

Modell

Natur des Herstellers: Hersteller

Produktkategorie

Ursprungsort

Online Beratung

Übersicht

Die Atomschichtabscheidung ist eine Technik zur Bildung einer Ablagefläche, die sich selbst begrenzt und selbstgesättigt, indem man die Impulse eines Gasphasenvorschiebers abwechselnd in die Reaktionsräume führt und chemisch adsorbiert und auf dem Ablagenmaterial reagiert. Die Atomschicht-Ablagerungstechnik wird hauptsächlich verwendet, um hochpräzise, nadellose und hochfeste Nanofilme auf Substanzen verschiedener Größen und Formen abzulegen.

Produktdetails

Einer,PulverbeschichtungKernparameter:

Herkunftskategorie: Inländische Atomschicht-Ablagerungssysteme (ALD)

Substrat Größe: 100g-1000g Pulver

Prozesstemperatur: RT-300°C

Anzahl der Vorläufer: 2 Reaktionsgasse 8 Flüssigkeits- oder Feststoffreaktionsvorläufer

Gewicht: 300kg

Größe (BxHxD): 1150 * 1030 * 1850mm

Gleichmäßigkeit: eine gleichmäßige Atomschichtüberdeckung auf der Pulveroberfläche erreicht, die Gleichmäßigkeit der Überdeckung < 3%

Atomschichten-Ablagerung (Atomiclayerdeposition) ist eine Technik zur Bildung von Ablagerungsmembranen, die sich selbst beschränken und selbstgesättigen, indem sie Impulse der Gasphase-Vorläufer abwechselnd in die Reaktionsräume führen und auf dem Ablagerungssubstrat chemisch adsorbieren und reagieren. Die Atomschicht-Ablagerungstechnik wird hauptsächlich verwendet, um hochpräzise, nadellose und hochfeste Nanofilme auf Substanzen verschiedener Größen und Formen abzulegen.

Drei,PulverbeschichtungProduktbeschreibung:

GM-Serie von Xiamen Qianmou Technologie Co.Pulveratomschicht AblagerungsanlageEs kann eine gleichmäßig kontrollierte Ablagerung der Atomschicht oder das Wachstum der Ablagerung der Molekuleschicht auf Mikronanopulver erreichen, die Reaktionskammer von GM1000 kann ALD (Atomschicht Ablagerung) oder MLD (Molekuleschicht Ablagerung) automatisch betreiben, und die Geräte sind mit einem unabhängig gesteuerten 300 ° C-kompletten beheizten Reaktionskammersystem ausgestattet, um eine gleichmäßige Prozesstemperatur zu gewährleisten. Das System verfügt über Pulverprobenfässer, dynamische Pulverflüssigungsmechanismen, vollautomatische Temperaturregelung, ALD-Vorfahrerstahlflaschen, automatische Temperaturregelventile, industrielle Sicherheitssteuerung sowie Designoptionen wie RGA, QCM, Ozongenerator, Handschuhkasse vor Ort. Es ist das beste Forschungs- und Entwicklungswerkzeug für die Forschung und Anwendung von Energiematerialien, Katalysatormaterialien und neuen Nanomaterialien.

4. Nachverkaufsservice:

Garantiezeit: 1 Jahr

Verlängerung der Garantie: Nein

Technische Beratung vor Ort: Ja

Kostenlose Schulung: Mindestens 2 Personen für eine Woche zur Ausrüstung vor der Auslieferung der Ausrüstung. 2. Installation und Inbetriebnahme vor Ort

Kostenlose Wartung der Geräte: Notwendig

Garantieverpflichtung: Die Kosten für Teile, Komponenten und Reisekosten während der Garantiezeit (außer Naturkatastrophen und menschlichen Schäden) werden von unserer Firma getragen.

Reparatur-Versprechen: Wenn ein Fehler innerhalb der Garantiefrist auftritt, wird unsere Firma rechtzeitig reagieren und Techniker innerhalb von 8 Stunden zur Fehlerbehebung vor Ort schicken.

Technische Parameter:

Ähnliches Produkt Empfehlen