Plasma-chemische Gasphase-Ablagerungssystem

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PECVD Plasma chemische Gasphase Ablagerungssystem. Das Produkt besteht aus Feststoff-Plasmaquellen, Gasproton-Strömungsregelsystemen, Substrat-Temperaturregelsystemen, Vakuumsystemen und Nobardi-Bediensoftware mit zentraler Bussteuertechnologie. Geeignet für die Ablagerung von SiO2 und SiNx-Filmen unter Raumtemperatur bis 1200 ° C, während TEOS-Quellenablagerung, SiC-Membranschichtenablagerung und flüssige Gasquelle-Ablagerung anderer Materialien erreicht werden können, besonders geeignet für die Ablagerung von effektiven Schutzschichten auf organischen Materialien und schädigungsfreien Passivierungsfilmen bei bestimmten Temperaturen.

Produktdetails

PECVDPlasma-chemische Gasphase-Ablagerungssystem

1. Reinigen Sie die Beschichtung und vermeiden Sie die Sekundärverschmutzung;

2. Obere offene Struktur für die Beobachtung der Probe;

3. Produkte mit vollautomatischer Steuerung, Touchscreen, digitaler Anzeige;

4. hohe Integration der Ausrüstung;

5. Stabile HF-Stromversorgung, gleichmäßige Temperaturverteilung, Verbesserung der Membranqualität;

ProduktmodellNBD-PECVD1200-80TI

Elektrische SpezifikationenAC220V 4KW

Temperatur erreichbar1200 ℃

Kontinuierliche Temperatur1150℃

Erwärmungsgeschwindigkeit ≤ 20 ℃/Minute

HF-Stromversorgung300oder500W 13,56MHz

Ofengröße Φ80 * 1200mm

PECVDPlasma-chemische Gasphase-Ablagerungssystem

Steuerungssystem

1undNBD-101EPGrafische Interface auf Englisch in Embedded-Betriebssystemen,7Zoll-Echtfarb-Touchscreen-Eingang, intelligenter Mensch-Maschine-Dialogmodus, Echtzeit-Heizleistungsanzeige, Temperaturkorrektur im nicht-linearen Stil; Experimentale Berichte werden selbstständig generiert und Experimentsdaten werden unbegrenzt oft exportiert.

2Der experimentelle Prozess ist intuitiver und die Bedienung einfacher.3Mit Übertemperatur-Alarm, Kopplungshinweis, Leckageschutz und anderen Funktionen.

Temperaturgenauigkeit+/- 1℃

HeizungselementeMoDoping.Fe-Cr-Al合金

Dichtungssystem

真空度： ≤10Pa(Mechanische Pumpen)

Druckmessung und -überwachung Die Verwendung von digitalen Vakuummetern macht den Vakuumgehalt der Geräte intuitiver und die Experimentergebnisse genauer.

Gasversorgungssystem mit zweiwegigen Protonendurchflussmessern zur präzisen Steuerung der Gasdurchflussgeschwindigkeit und zur Integration mit der Ausrüstung;

Nettogewicht360 kg

Hinweise zur Verwendung von Geräten

1Temperatur der Anlage ≥300Bei ℃ ist es verboten, den Ofen zu öffnen, um Schäden zu vermeiden;

2Bei der Verwendung der Ausrüstung darf der Druck im Ofenrohr nicht überschritten werden.0,125MPa(absoluter Druck), um zu verhindern, dass übermäßiger Druck Anlagenschäden verursacht;

3Bei Verwendung unter Vakuum darf die Gerätetemperatur nicht überschritten werden.800℃。

4Der innere Luftdruck der Gasversorgungsstahlflasche ist höher, wenn das Gas in das Ofenrohr eingeführt wird, muss ein Druckdämpfungsventil auf der Gasflasche installiert werden, empfohlen wird, ein kleines Druckdämpfungsventil im Kaufversuch zu verwenden, das Druckdämpfungsventil ist0,01MPa-0,15MPa,Genauer und sicherer beim Gebrauch.

5Wenn die Temperatur höher als1000Bei ℃ kann sich das Ofenrohr nicht im Vakuumzustand befinden, der Luftdruck im Ofenrohr muss dem atmosphärischen Druck entsprechen und im Normaldruckzustand bleiben;

6Lange Gebrauchstemperatur von hochreinem Quarzrohr≤1100℃

7Bei beheizten Experimenten wird nicht empfohlen, das Pumpventil und das Einluftventil des Ofenflansendes zu schließen. Wenn das Ventil geschlossen werden muss, um die Probe zu erwärmen, müssen Sie immer auf die Anzahl des Druckmessers achten, wenn die absolute Messwerte größer ist als0,15 MPaDas Abgasventil muss sofort geöffnet werden, um Unfälle zu verhindern (z. B. Ofenrohrbruch, Flansch, etc.)

Service-Unterstützung1Jahresgarantie, lebenslange Unterstützung (Verbrauchsteile wie Ofenrohre und Dichtungsringe usw. sind nicht in der Garantie enthalten).

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