PALD Hersteller

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PALD (Atomic Layer Deposition) ist eine Technologie zur Bildung von Ablagerungsmembranen, die sich selbstbeschränkend und selbstgesättigt, indem sie Impulse von Gas-Vorphasen abwechselnd in die Reaktionsräume bringen und auf dem Ablagerungssubstrat chemisch adsorbieren und reagieren. Die Atomschicht-Ablagerungstechnik wird hauptsächlich verwendet, um hochpräzise, nadellose und hochfeste Nanofilme auf Substanzen verschiedener Größen und Formen abzulegen.

Produktdetails

1. Kernparameter:

Preisbereich: 100.000-500.000

Herkunftskategorie: Inländische Atomschicht-Ablagerungssysteme (ALD)

Unterlagen Größe: 4 Zoll

Prozesstemperatur: RT-300°C

Anzahl der Vorläufer: 4 Gruppen flüssiger oder fester Vorläufer

Gewicht: 40kg

Größe (BxHxD): 500 * 400 * 400mm

Gleichmäßigkeit: 99,9%

Atomschichten-Ablagerung (Atomiclayerdeposition) ist eine Technik zur Bildung von Ablagerungsmembranen, die sich selbst beschränken und selbstgesättigen, indem sie Impulse der Gasphase-Vorläufer abwechselnd in die Reaktionsräume führen und auf dem Ablagerungssubstrat chemisch adsorbieren und reagieren. Die Atomschicht-Ablagerungstechnik wird hauptsächlich verwendet, um hochpräzise, nadellose und hochfeste Nanofilme auf Substanzen verschiedener Größen und Formen abzulegen.

3. Desktop-Atomschicht-Ablagerungssystem PALD Hersteller Produktbeschreibung:

Die ultrakleine Tisch-ALD-Ablagerungsanlage, die von Xiamen Tianmao Technology Co. entwickelt wurde, ist eines der leistungsstarken Geräte für die Materialforschung. Es kann eine gleichmäßig kontrollierte Ablagerung der Atomschicht auf 4-Zoll-Kristallen (kompatibel) und Mikro-Nanopulvern erreichen, mit einem breiten Anwendungsbereich. Jedes System verfügt über ein komplettes Heizraktionskammersystem von 300 ° C mit unabhängiger Steuerung, um die gleichmäßige Prozesstemperatur zu gewährleisten. Dieses System verfügt über Pulverprobenfässer, Kristallplatten, vollautomatische Temperaturregelung, ALD-Vorläuferstahlflaschen, automatische Temperaturregelventile, industrielle Sicherheitssteuerung sowie vor Ort RGA, QCM, Ozongenerator, Handschuhkosten und andere Designoptionen. Es ist das beste Forschungs- und Entwicklungswerkzeug für Energiematerialien, Katalysatormaterialien, neue Nanomaterialforschung und Anwendungen.

4. Xiamen Qingdao Technologie Co., Ltd. bietet Ihnen die Parameter, Preis, Modell, Prinzip und andere Informationen des Herstellers des Desktop-Atomschicht-Ablagerungssystems PALD, Herkunftsort Fujian, Marke Qingdao, Modell MiniDesktopALD, Preis von 500.000 RMB, weitere Informationen können Sie konsultieren, Kundenservice-Telefon des Unternehmens 7 * 24 Stunden für Sie.

5. Nachverkaufsservice:

Garantiezeit: 1 Jahr

Verlängerung der Garantie: Nein

Technische Beratung vor Ort: Ja

Kostenlose Schulung: Mindestens 2 Personen für eine Woche zur Ausrüstung vor der Auslieferung der Ausrüstung. 2. Installation und Inbetriebnahme vor Ort

Kostenlose Wartung der Geräte: Notwendig

Garantieverpflichtung: Die Kosten für Teile, Komponenten und Reisekosten während der Garantiezeit (außer Naturkatastrophen und menschlichen Schäden) werden von unserer Firma getragen.

Reparatur-Versprechen: Wenn ein Fehler innerhalb der Garantiefrist auftritt, wird unsere Firma rechtzeitig reagieren und Techniker innerhalb von 8 Stunden zur Fehlerbehebung vor Ort schicken.

6. Technische Parameter:

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