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Shenzhen Keshida Electronic Technology Co., Ltd
Es wird weit verbreitet in der Produktion von Kohlenstoff-Nanoröhren und industriellen Produktionsanlagen.
Flachplatten-Infrarot-Beheizungsreaktoren können für 50-300 mm Kreiskristallinverhitzungssysteme und industrielle Herstellungsbacklinien verwendet werden.
Heizung großflächiger Substrate (Solarzelle, FPD-Flachbildschirm) Schnelle Hochtemperatur-Erwärmung von Halbleiterkristallen Aushitzen von dünnen Metallplätzen Typ P mit einer goldenen Reflexfläche von 40 mm Breite Der Typ Pss verfügt über eine 20 mm breite goldene Reflexionsfläche für eine intensive Installation von Lampen Typ Ps und Typ Pss können durch Montage großflächig beheizt werden; *1 Modellbeschreibung: Zum Beispiel Ps(s)35V: P Parabolische Reflexionsfläche, s Breite: 40 mm (SS: 20 mm Breite), 3 Anzahl der Lampen; , 5 Lampenlänge; , V : Flachheitsstrahlung • Kühlwasser ist bei der Arbeit des Ofens erforderlich;Verwendung
Besonderheiten
Spezifikationen
Modell*1
Heizung
Maximale Heiztemperatur
Heizungslänge
(Lampenlänge)Spannung
Leistung
Ps15V
Strahlungsheizung
1
140 mm
200V
1,2 kW
Ps110V
265 mm
2,0 kW
Ps116V
420 mm
300V
3,0kW
Ps35V
3
140 mm
200V
3,6 kW
Ps310V
265 mm
6,0 kW
Ps316V
420 mm
300V
9,0 kW
PSS35V
140 mm
200V
3,6 kW
Pss38V
200 mm
4,8 kW
PSS310V
265 mm
6,0 kW
Pss316V
420 mm
300V
9,0 kW
● Erwärmtemperatur oder Erwärmgeschwindigkeit variiert je nach Infrarotreflexion, Absorptionsrate, Wärmekapazität und Material der erhitzten Probe.
● Weitere Konfigurationsanforderungen, kontaktieren Sie uns bitte.