Umkehrtes Dunkelfeldmikroskop CMM-202

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Das Infinite Vision Darkfield Transreflective Metallic Microscope ist ein vielseitiges industrielles Inspektionsoptisches Instrument mit hellen / dunklen Objektiven, großen Sichtfeldbrillen und polarisierten Beobachtungsgeräten. Kann für die Prüfung von Halbleiter-Siliziumchips, LCD-Substraten, Leiterplatten, Festkörpern und anderen verschiedenen transparenten oder undurchsichtigen industriellen Proben verwendet werden, ist das ideale Instrument für die Forschung in der Biologie, Metallologie, Mineralogie, Präzisionstechnik und Elektronik.

Produktdetails

Umkehrtes Dunkelfeldmikroskop CMM-202 Detaillierte technische Parameter

1. Verwendung der Geräte

Infinite Vision Dark Field Inverted Metaphase Mikroskop mit einem ausgezeichneten Infinite Distance Optics System und modularem Funktionsdesign-Konzept, das das System leicht aktualisieren kann, um Polarisationsbeobachtung, Dunkelfeldbeobachtung und andere Funktionen zu erreichen. Der kompakte, stabile und hochsteife Körper spiegelt die Vibrationsschutzanforderungen des Mikroskopbetriebs vollständig wider. Ein ideales Design, das den ergonomischen Anforderungen entspricht, macht den Betrieb bequemer und komfortabler und bietet größeren Raum. Für die mikroskopische Beobachtung von Metallphase-Gewebe und Oberflächenformationen ist es das ideale Instrument für die Metallologie, Mineralogie und Präzisionstechnikforschung.

II. Systemeinleitung

Das Infinite Vision Darkfield Inverted Metallic Microscope System ist eine organische Kombination des herkömmlichen optischen Mikroskops mit dem Computer (Digitalkamera) durch die optische Umwandlung, die nicht nur die Mikrobeobachtung auf der Brille, sondern auch die Beobachtung von Echtzeit-dynamischen Bildern auf dem Computer (Digitalkamera) -Bildschirm ermöglicht und die erforderlichen Bilder bearbeiten, speichern und drucken kann.

Technische Parameter

1. Brille

Kategorien	Vergrößern	Sichtfelddurchmesser (mm)
Große Sichtbrille	10×	f22

2. Objektive

Optische Systeme	Vergrößern	Durchmesser (NA)	Arbeitsabstand (mm)
Unbegrenzte Entfernung Licht- und Dunkelfeld-Objektiv	5×	0.12	9.7
	10×	0.25	9.3
	20×	0.40	7.2
	50×	0.70	2.5

3. Doppelbrille: 45 ° geneigt, Augenaufstandseinstellungsbereich 53 ~ 75mm.

4. Grobe Mikrodynamik-Koaxialfokussierung mit Verriegelungseinrichtung, Mikrodynamikvert: 2μm.

5. Konvertierung: Fünf Löcher (innere Positionierung der inneren Kugel)

6. Tragstisch: mechanischer beweglicher Tragstisch, Formgröße: 242mmX200mm, Bewegungsbereich 30mmX30mm.

Runde drehbare Tragplattengröße: Maximaler Außendurchmesser Ф130mm, Mindestdurchmesser kleiner als Ф12mm.

7. Abbe Fokus NA.1.25 kann auf und ab

8. Beleuchtungssystem: Halogenlampe 12V 50W, einstellbare Helligkeit, eingebaute Sichtfeld-Licht-Pendenz, Apertur-Licht-Pendenz und Pullover

Gelbes, grünes und blaues Filterglas

4. Systemzusammensetzung

Computer (CMM-202E): 1, Metallphasemikroskop 2, Adapterspiegel 3, Kamera (CCD) 4, A/D (Bilderfassung)

Digitaler Typ (CMM-202Z): 1, Metallphasemikroskop 2, Adapterspiegel 3, Digitalkamera

V. Gesamtvergrößertes Referenzverfolgliches

Typ CMM-202E: 50-2800x Typ CMM-202Z: 50-2000x

6. Auswahl der Einkäufe

1. Gläser: 10x Aufteilung 2. Objektiv: 40x 60x 80x 100x 3. Hochpixelbildsystem

4. Metallographische Bildmesssoftware 5. Metallographische Gewebekartenanalysesoftware (quantitativ)

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