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Chengdu Zhongke Purui Purification Equipment Co., Ltd
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Reinigungssystem der Serie CGX-9N

VerhandlungsfähigAktualisieren am05/11
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Übersicht

Produktbeschreibung Tieftemperaturkatalysation - Hochtemperatur-Stickstoffentfernung Reinigungssystem Dieses Reinigungssystem verwendet selbstgemachte patentierte Katalysatoren, diese Katalysatoren haben eine lange Lebensdauer, eine hohe Reinigungstiefe und eine starke Fluktuationsfähigkeit des Antistoffgases; Verwenden Sie physikalische Adsorption und chemische Reaktionsprozesse, die zuerst bei Raumtemperatur inert werden. ..

Produktdetails

Produktbeschreibung

Tieftemperaturkatalyse - Hochtemperatur-Stickstoffentfernungsreinigungssystem

Dieses Reinigungssystem verwendet selbstgemachte patentierte Katalysatoren, diese Katalysatoren haben eine lange Lebensdauer, eine hohe Reinigungstiefe und eine starke Schwankungsfähigkeit des Antistoffgases; Mit dem physikalischen Adsorption- und chemischen Reaktionsprozess werden zunächst bei Raumtemperatur große Mengen an Verunreinigungen aus Inertgasen und Wasserstoff (H2) H2O, O2, CO und CO2 entfernt, dann werden die restlichen Verunreinigungen und N2 durch den Hochtemperatur-Absaugturm entfernt, so dass die Verunreinigungen des reinen Gases unter 1 ppb verteilt werden. Dieses Gerät hat eine lange Lebensdauer, einfache Bedienung und andere Merkmale.

Produktleistung

Geeignet für den Einsatz mit Rohgas mit einer Reinheit von nicht weniger als 99,999%.

◎ Dieses Produkt ist eine doppelte Struktur, eine Reihe von Arbeit, eine andere Reihe von Recycling Ersatz

◎ hohe Reinigungstiefe, Export verschiedener Verunreinigungen <1ppb

Elektrochemisches Polieren aus Edelstahl 316 (L)

Integrierter 0,003 Mikrometer Filter

◎ Dieser Reiniger ist mit einem Vorreinigungsturm ausgestattet, um eine große Menge an Verunreinigungen vor dem wertvollen Verbrauchsabsorptionsturm zu entfernen, so dass die Lebensdauer des wertvollen Verbrauchsabsorptionsmittels verlängert werden kann

Produktanwendungen

◎ Reinigung von Elektronikgasterminals aus hochreinem einkristallinem Silizium, Chip-Ausdehnung, Massenkreislauf, Herstellung von photoelektrischen Produkten

Halbleiterprozessanlagen: CVD, MOCVD, HVPE, Diffusionsofen usw.

• Große Gasreinigung

Systemparameter