Der Bandbereich der extrem kurzwelligen ultravioletten (EUV) Strahlungsquellen bezieht sich in der Regel auf einen Teil der Wellenlänge im ultravioletten Spektrum, spezifisch im Bereich von 10 bis 121 nm, d. h. eine Wellenlänge kürzer als die UV-Strahlung im herkömmlichen UV-Spektrum (UV-A, UV-B, UV-C).
Unterteilung der ultravioletten Kurzwellen:
Extrem UV (EUV): Der Wellenlängenbereich ist im Allgemeinen von 10 nm bis 121 nm definiert und befindet sich im kürzesten Teil des UV-Spektrums, unterhalb des herkömmlichen UV-C-Bandes (200 nm bis 280 nm) und ist größer als die Wellenlänge von Röntgenstrahlen.
Beziehung zu Röntgenstrahlen: EUV-Strahlung hat eine Wellenlänge, die länger ist als Röntgenstrahlen, aber kürzer als das UV-C-Band, daher wird es manchmal als "Übergangs"-Strahlung angesehen, die sich zwischen UV und Röntgenstrahlen befindet.
Merkmale von EUV:
Hohe Energie: EUV-Strahlung hat eine hohe Energie und kann viele Materialien durchdringen, wird aber in der Regel schnell von Luft und anderen Substanzen aufgenommen, so dass natürliche EUV-Strahlung auf der Erdoberfläche kaum auftritt.
Anwendungsbereich: Aufgrund ihrer kurzen Wellenlängen und hohen Energie wird die EUV-Lichtquelle in der modernen Halbleiterherstellung weit verbreitet, um integrierte Schaltungen in extrem kleinen Größen herzustellen (z. B. 7nm- und 5nm-Prozesse). Darüber hinaus wird EUV auch in der Astronomie, Materialwissenschaften und bestimmten medizinischen Anwendungen verwendet.
Typ der EUV-Lichtquelle:
Aufgrund der sehr kurzen Wellenlänge des EUV können herkömmliche Lichtquellen keine UV-Licht dieser Wellenlänge direkt erzeugen. Die bestehenden EUV-Lichtquellen verwenden hauptsächlich folgende Technologien:
Freielektronenlaser (FEL): Die Strahlung, die durch die Beschleunigung von Elektronen im Magnetfeld erzeugt wird, wird zur Erzeugung von EUV-Wellenlängen verwendet.
Plasma-Lichtquelle: Die EUV-Strahlung wird emittiert, indem ein hochenergetischer Laser das Plasma, das durch bestimmte Substanzen wie Zinn erzeugt wird, bestrahlt.
Anwendung:
Halbleiterherstellung: Die EUV-Technologie ist derzeit ein wichtiges Werkzeug für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterchips, insbesondere bei extrem kleinen Photogravuren wie 10nm, 7nm oder sogar kleineren Prozessknoten.
Astronomie: Das EUV-Band ist wichtig für die Untersuchung von hochtemperaturigen Objekten wie der Sonne, Galaxien usw. und deren Strahlungseigenschaften.
Materialwissenschaft: zur Analyse der Oberflächenstruktur und -zusammensetzung von Materialien, insbesondere im Bereich der Nanotechnologie.
Insgesamt ist das ultrakurzwellige UV (EUV) ein wichtiges Strahlungsband zwischen UV und Röntgenstrahlung, mit hoher Energie und spielt eine Schlüsselrolle in vielen Hightech-Bereichen.