Die Halbleiterindustrie stellt hohe Anforderungen an die Wasserqualität, ultrareines Wasser als Kernverbrauchmaterial für die Produktion, dessen Qualität direkt die gute Qualität des Chips beeinflusst. Halbleiter-ultrareines Wasser muss mehrdimensionale Indikatoren erfüllen: Der Widerstand muss über 18,2 MΩ.cm (25 ° C) erreichen, um einen äußerst niedrigen Ionengehalt sicherzustellen; Der TOC (Total Organic Carbon) wird unter 0,5 ppb gesteuert, um die Lichtgraviergenauigkeit zu vermeiden. Partikel größer als 0,05 Mikrometer nicht mehr als 100 Stück pro Liter, um Lithographiefehler zu verhindern; Der gelöste Sauerstoff ist weniger als 1 ppb und hemmt die Bakterienproduktion und die Bildung von Oxidationsschichten.
Ultrareines Wasser Anwendungen durchlaufen den gesamten Halbleiter-Produktionsprozess: Wafer-Vorbereitung für die Reinigung, Entmischung und Gewährleistung der Oberflächenkristallität; Wäsche die Schablone und die Wafer während des Gravurprozesses, um die Präzision des Musters zu gewährleisten; Gravur, mechanische Polierlinkel spielt die Kühlreinigungsrolle, um die Prozesskonsistenz aufrechtzuerhalten; Die elektronische chemische Ablagerungsphase reinigt den Metallfilm, um die Ablagerungsgenauigkeit zu gewährleisten; Es kann auch für die Kühlung von Geräten und Laborversuche verwendet werden, um die Zuverlässigkeit der Daten zu gewährleisten.
Ultrareines Wasser stammt aus Leitungswasser und erfordert eine Tiefenbehandlung mit mehreren Prozessen: Der Frontend reduziert den TOC von 1-3 ppm auf 10-30 ppb im Leitungswasser durch Prozesse wie ACF, UF, RO und EDI; Dann wird die TOC-UV-Lampe weiter auf ≤0,5 ppb reduziert, um schließlich den Standard zu erreichen. Bei der Erkennung werden Mikropartikel mit einem Flüssigkeitspartikelzähler überwacht, TOC、 Widerstandsraten, gelöster Sauerstoff, pH-Werte und andere Indikatoren werden in Echtzeit durch Online-Monitore (z. B. elektrochemische Instrumente) erfasst, und einige Szenarien erfordern ein integriertes System zur dynamischen Steuerung der Wasserqualität.
Der Überwachungszyklus muss die Einstellung der Arbeitsbedingungen und der Wasserqualitätsänderungen kombinieren, regelmäßige Probenanalysen durchführen, um Wasserqualitätsprobleme rechtzeitig zu erkennen, um zu vermeiden, dass die Gesamtmenge von organischem Kohlenstoff überschritten wird, zu viel gelöster Sauerstoff und zu viel Partikel zu verursachen. Da sich die Größe der Halbleiterkomponenten verringert und die Genauigkeit verbessert, erfordert die Überwachung des ultrareinen Wassers eine kontinuierliche Aktualisierung der Prüfungsgenauigkeit und -technologie (z. B. Fernüberwachung), um den zunehmend anspruchsvollen Wasserqualitätsanforderungen der Branche gerecht zu werden.