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Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe
Superstrukturierte Oberfläche ohne Maske Laser-Direktgravur Hersteller - Nano-Sticky 3D Nanoscribe, die Glocke muss auch die Glocke!
Datum:2025-10-30Lesen Sie:0
Superstrukturierte Oberflächen bestehen aus künstlichen Atomen auf einer Subwellenlängenschala und stellen hohe Anforderungen an Bearbeitungsgenauigkeit, Oberflächengüte und Konstruktionsfreiheit dar.
Die Quantum X-Serie ist ein Pionier in der Technologie der maskenlosen Photogravur und verfügt über eine patentierte Dual-Photon-Grauskala-Photogravur mit einer Mindestgröße von 160 nm und einer Oberflächenrauheit von ≤10 nm. Das Quantum X align-System verfügt über eine nanometrische Ausrichtungsgenauigkeit, die hochauflösende dreidimensionale Strukturen auf Fasern, Chips und Wafers herstellt und komplexe Strukturen wie freie Kurvenflächen präzise verarbeitet.
Technische Merkmale: Die Photonic Professional GT-Serie, die sich auf die 3D-Lithographie mit Doppelphotonen-Polymerisierung (TPP) konzentriert, ist ein Branchenstandard.
Vorteile: Die Möglichkeit, echte dreidimensionale Mikronanostrukturbearbeitung mit einer Auflösung von bis zu 100 Nanometern oder höher zu realisieren, eignet sich besonders für die Herstellung von superstrukturierten Oberflächen mit komplexen dreidimensionalen Formen (z. B. heterogenen Nanosäulenarrays).
Anwendbarkeit: Ideal für die Entwicklung fortschrittlicher, komplexer 3D-Oberflächen.
Die strukturelle Regulierung der subwellenlängen der suprastrukturellen Oberfläche stellt nahezu anspruchsvolle Anforderungen an die photogravierenden Geräte.Dreidimensionale NanoscribeDie Geräte der Quantum X-Serie können mit einer dreidimensionalen horizontalen Charakteristikskala von 160 nm und einer Oberflächenrauheitsleistung von ≤10 nm komplexe Strukturbearbeitungen wie freie Flächen, Diffraktionsarrays und andere einfach bedienen. Der Kern 2GL ® Die Technologie verbindet die hohe Effizienz der Graustufengravur mit der Präzision der Doppelphotonen-Aggregation, die dynamische Einstellung der Laserleistung durch die Geschwindigkeit von 1 MHz, die Querdimensionale Fertigung von Nano bis mittlerer Größe erreicht, die sich perfekt an die Anforderungen der feinen Regulierung der Lichtphase und -amplitude der suprastrukturierten Oberfläche anpasst.
In der Spitzenforschung ist dieses Gerät der Schlüssel zum Durchbruch technologischer Engpässe geworden. Ein Team hat mit seiner Breitband-Superstrukturfläche erfolgreich den inneren Widerspruch zwischen „Messbereich und Auflösung“ in der Diffuse Cofocus-Technologie aufgehoben, um die horizontale Auflösung im 100-Mikrometer-Axialbereich auf 1 Mikrometer zu stabilisieren und die Leistung um das 2,5-fache zu verbessern. Auf dem Gebiet der Biosensorik haben die Forscher ihre integrierte Verarbeitungsfähigkeit genutzt, um einen Sensor zu drucken, der eine hyperhydrophobe Struktur mit nanophotonischen Komponenten integriert hat, um die Empfindlichkeit der Viruserkennung auf 0,1 TCID50/ml zu erhöhen und die Erkennungszeit auf 15 Minuten zu verkürzen.