Maskenlose LichtgraviereinrichtungenEs ist ein Prozess-Test-Instrument, das Schaltungsmuster direkt auf lichtempfindliche Materialien durch ein hochpräzises optisches System projiziert, was die Herstellung von Maskenversionen, die für herkömmliche Lichtgravuren erforderlich sind, eliminiert. Das Gerät kann in optische und geladene Partikelklassen unterteilt werden, einschließlich Technologietypen wie Laserdirektschrift und Elektronenstrahldirektschrift. In der Halbleiterherstellung sind seine bemerkenswerten Vorteile die Verbesserung der Effizienz der Lithographie, die Senkung der Produktionskosten und die Verkürzung der Forschungs- und Entwicklungszyklen, die weit verbreitet in den Bereichen Biochips, Mikro-elektromechanische Systeme und fortgeschrittene Verpackungen verwendet werden.
Die Maskenlose Lithographie basiert auf der Scantechnik des Raumlichtmodulators oder der Methode der Direktschreibung des geladenen Teilchenstrahls und verwandelt das digitale Layout direkt in die physische Grafik auf dem Lithographie-Klebstoff, um eine schnelle Formgebung ohne Maske zu erreichen. Zu den wichtigsten technischen Indikatoren gehören die minimale Linienbreite, der automatische Auflösungswechsel und die Graustufen.
Anwendungsbereiche
Microfluidic Chip Forschung und Entwicklung: für die Forschung in den Bereichen Mikroflüssigkeit, Mikroelektronik und andere.
Power-Chip-Lithographie: Unterstützung von Multi-Layout-Experimenten mit integrierten Kohlenstoffrohren.
3D-optische Komponenten: Grauskala-Lithographie ermöglicht die dreidimensionale Strukturbearbeitung.
Zu den Kernfunktionen der Maskenfreien UV-Smart-Geräte von Magic Nano gehören:
Hohe Präzisionsbearbeitung: Mit digitalem Mikroskop (DMD) -Technologie, 300 nm Linienbreite Genauigkeit zu erreichen, Verpflichtungsfehler minimal, glatte Strukturkanten.
Effiziente Direktschreibgeschwindigkeit: 300 mm² pro Minute verarbeitbar, geeignet für schnelle Modellierung und kleine Serienproduktion.
Vollautomatische Steuerung: Integriertes Design, einfache Bedienung, Unterstützung von 12-Zoll-Substraten, geeignet für Mikrofluidik, Halbleiter und andere Bereiche.
Industrielle Anwendungen: Selbstentwicklungsalgorithmen in Kombination mit leistungsstarker Hardware mit hoher Ausrichtung und Genauigkeit, um die Anforderungen der Massenproduktion zu erfüllen.