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Sensofar Cofocus White Light Interference Optical Profiler S neox Multimode Switch: Der Weg zur Realisierung der gesamten Oberflächenmessung
Datum:2025-12-23Lesen Sie:0
Sensofar S neox ermöglicht durch den nahtlosen Wechsel von Kofokuss-, Interferenz- und Multifokusüberlagerungstechnologien eine vollständige Messabdeckung von glatten Oberflächen auf Sub-Nano-Ebene bis hin zu rauen Strukturen auf Millimeterstufe.
Die Co-Focus-Technologie filtert das nicht fokussierte Licht durch Nadellöcher, erzeugt ein hochkontrastisches 2D-Bild und erstellt ein 3D-Profil nach dem Längsscann. Mit einer horizontalen Auflösung von bis zu 0,10 μm, mit einem 150-fachen Objektiv mit einer numerischen Apertur von 0,95, können glatte Oberflächen bis zu 70° und raue Oberflächen bis zu 86° gemessen werden und die Wiederholbarkeit der Z-Achse ist auf Nanonebene stabil. Geeignet für die Erkennung von feinen Strukturen wie kleinen Linien, Spalten, wie die Leitungsformprüfung von Halbleiterchips.
Weißes Licht Interferenz und Phasenverschiebung Interferenz Muster für unterschiedliche Glattflächen optimiert: Weißes Licht Interferenz Längsauflösung 0,1 nm, für etwas raue Oberflächen geeignet; Die Phasenverschiebung stört die Genauigkeit von Dayan-Nanometern und ist speziell für ultraglatte Oberflächen konzipiert, ohne dass beide durch Vergrößerungsvermöglichungen beeinflusst werden. Die Multi-Fokus-Oberflächenlage-Technologie konzentriert sich auf raue Oberflächen mit einer einzelnen Scantiefe von 8 mm, um den Messbedarf komplexer Strukturen wie Formen und Teile der additiven Fertigung gerecht zu werden.
Die Umschaltung dieser Modus erfolgt automatisch durch einen intelligenten optischen Motor, bei dem der Anwender mit nur einem Klick die passende Technologie basierend auf den Merkmalen der Messaufgabe auswählt. Zum Beispiel bei der Messung der ultraglatten Oberfläche eines optischen Objektivs wird automatisch auf Phasenverschiebungsstörungen umgeschaltet; Wenn die raue Struktur der Form erkannt wird, wird der Multi-Focal-Overlay-Modus gestartet.
Technische Modellanpassungstabelle
Messmodus
Kernparameter
Anpassung an den Oberflächentyp
Gemeinsamer Fokus
Horizontal 0,10 μm, Steigung 86°
Feine Struktur, mittlere raue Oberfläche
Weißes Licht stört
Länge 0,1 nm, Scantiefe 8 mm
Etwas raue Oberfläche
Phasenverschiebung
Längsläufige Genauigkeit im Sub-Nano-Maßstab
Superglatte Oberfläche
Mehrfokusüberlagerung
8 mm Tiefe, 86° Neigung
Raue, komplexe strukturelle Oberflächen
Bei der Verwendung muss der Benutzer die Anpassung des Musters nicht manuell beurteilen, die Software wird automatisch auf der Grundlage der Oberflächeneigenschaften des Vorschaubilds empfohlen oder manuell in den "Erweiterten Einstellungen" ausgewählt. Das Design verbessert die Anpassungsfähigkeit der Geräte an verschiedene Proben und deckt die Messanforderungen vieler Branchen wie Elektronik, Automobil und Medizin ab.