Bei der Herstellung von Filmen werden bestimmte metallorganische Verbindungen (MOCsHydroxide, Ammoniak und andere Vorläuferdampfdrucke liegen deutlich unter dem Normaldruck der Atmosphäre (760 TorrEs ist bei normalen Temperaturen schwer zu verdampfen. Diese Vorläufer müssen zur chemischen Gasablagerung transportiert werden.(CVD)Die herkömmliche Methode in einem Reaktor ist die Verwendung von Lösungsmitteln./Lösungsmittelchemie und Flüssigkeitstransport. Einige Festkörper haben Löslichkeitsbegrenzungen, die den maximalen Massenstrom beeinflussen, der in die Prozesskammer gefördert wird.

Wir verwenden eine fortschrittliche Druckmess- und Steuertechnik, die die direkte Steuerung der Förderung von Feststoffvorläuferdampf ohne Lösungsmittel ermöglicht, um eine präzise, wiederholbare Förderung zu erreichen und die Herstellung von Dünnfilmmaterialien effizienter zu machen.

Für die Anforderungen an Durchflussbereiche in verschiedenen Bereichen verfügen unsere Niederdampfdruckregler über eine leistungsstarkeCPUSie können eine breite Palette von intelligenten Durchflusssteuerungen erreichen, der Kontrollbereich ist voll angelegt10%~100%.

Dieser niedrige Dampfdruckregler kann30℃~200℃Stabile Messung im Betriebstemperaturbereich, geeignet für raue Umgebungen. AnwendungModbusVereinbarung (RS485 / 232Einfache Verbindungen zu Computern oder anderen Geräten, Datenkommunikation und Fernsteuerung.

Weit verbreitet in einer Vielzahl von Industrien, wie die Herstellung von integrierten Schaltkreisen für Halbleiter, Photovoltaik-Dünnfilm-Solarzellen, Forschung und Entwicklung neuer Materialien, Biosensoren für medizinische Geräte und andere Industrien, ermöglichen durch kritische Filmprozesse die Produktion von hochwertigen Dünnfilm-Materialien.

Bei spezifischen Fragen können Sie sich an den Produktmanager der Seite wenden.