1. Projekthintergrund: Halbleiter führt die zweite Entwicklungskurve ein

Unter dem Antrieb der generativen Künstlichen Intelligenz hat sich die Halbleiterindustrie in fast zwei Jahren stark erholt. Laut mehreren Prognosen wird die Halbleiterindustrie weiter wachsen.2030Jahr erwartet Durchbruch1Milliarden-Dollar-Meilenstein. Angesichts der schweren Realität, dass Halbleiter in den Hals stecken, ist ihre Entwicklung schnell und die Nachfrage groß. Der Staat legt auch hohen Wert auf die Entwicklung von Halbleitern und schlägt fortlaufend Unterstützungspolitik vor.

II. Unternehmensprofil: Verpflichtung zur inländischen Herstellung von Halbleitertechnologien

Ein bestimmtes Halbleiterunternehmen von Precision Science and Technology Services widmet sich der inländischen Ersatz, der professionellen Layout des Siliziumkarbidprozesses, nach Jahren der Prozessakumulation, bildet sich derzeit eine Reihe von Produkten wie Gravurprozessgeräte, Dünnfilm-Ablagerungsprozessgeräte, hauptsächlich für die Halbleitervorläuferprozessphase wie Siliziumkarbid, Galliumnitrid und andere Verbindungen zur Halbleiterverarbeitung.

Anforderungen an Arbeitsbedingungen: Überlieferungszyklus, um die Produktionsqualität zu gewährleisten

Das Halbleiterunternehmen liefert nachgelagerten Kunden Geräte wie Folienabscheidung, Gravur und Entklebung zur Herstellung und Ablagerung von Folienschichten auf dem Grundmaterial, um eine funktionale Schicht des Chips zu bilden. Ablagerung in chemischen Gasphasen (CVDIm Prozess wird das flüssige Ausgangsmaterial mit einem Gas- und Flüssigkeitsmischverdampfer verdampft und vermischt, wodurch eine gleichmäßige Folie während des Ablageprozesses gebildet wird.

Das Halbleiterunternehmen muss eine ausländische Marke ersetzen und folgende Anforderungen stellen:
1.Kurze und stabile Lieferzeiten;
2.Sicherstellung der vollständigen Verdunstung der Flüssigkeit;
3.Schnelle Reaktionsgeschwindigkeit und gleichmäßige Mischverdampfende Gasausgabe;

4.Flüssigkeitsstromgenauigkeit nach den vorgeschriebenen Normen.

4. Lösung: Kurze Lieferzeiten, um die Produktionsqualität zu gewährleisten

Nachdem wir die Anforderungen erkannt haben, entwerfen wir ein Gas- und Flüssigkeitsmischverdampfungssystem für unsere Kunden basierend auf dem gemischten Medium und den Arbeitsbedingungen.

System mit kontrolliertem Verdampfungsmischerx1Flüssigkeitsstromregelungx1Gasmasse-Durchflussreglerx1Temperaturreglerx1.

Abbildung: ACU20CEM Regulierbarer Verdampfungsmischerprodukt für Gas-Flüssigkeit-Mischverdampfungssysteme

Die Systemkonfiguration ist wie folgt:

Regulierbarer Verdampfungsmischer:Maximale Gasmenge 10 ln/min, Mindestmenge Flüssigkeit (Wasser) 120 g/h.
Flüssigkeitsstromregler:Genauigkeit ± 0,25% F.S., Wiederholungsgenauigkeit 0,05% F.S.
Gasmasse-Durchflussregler:Genauigkeit ± 0,5% F.S. Wiederholungsgenauigkeit ± 0,2% F.S.

Temperaturregler:Die hohe Temperatur kann bis zu 200 ℃ ~ 300 ℃ gesteuert werden, um die spezifischen Medienverdampfungsbedingungen vollständig zu erfüllen.

Für die Kommunikation mit spezifischen Parametern wenden Sie sich bitte an den Produktmanager der Seite!