Mit steigenden Anforderungen an Prozessverfeinerung und zunehmendem Kostendruck ist die Wasserqualitätsüberwachung des Unternehmens nicht mehr“Parameter entsprechen”So einfach ist es, mehr von Prozessstabilität, Energieverbrauchsmanagement, Gerätelebensdauer und allgemeiner Betriebseffizienz zu tun.

Hashes erweitern kontinuierlich die Tiefe und Breite der Wasserqualitätsüberwachung um weitere wichtige Parameter und Prozessszenarien unter komplexen Bedingungen abzudecken:

●Genauer gesehen.

●Schneller verarbeiten

●Stabiler Betrieb

●Einfachere Verwaltung

Wir möchten Ihnen helfen, ein effizienteres, sichereres und zuverlässigeres Betriebssystem mit professionelleren und umfassenderen Wasserqualitätsprüflösungen aufzubauen.

Anwendung von gelöstem Stickstoff in halbleiterfunktionellem Wasser

Hintergrundvorstellung

In der Halle der High-Tech ist der Halbleiterchip zweifellos die strahlende Perle. Die Entstehung dieser Perle ist jedoch nicht auf eine Nacht, dahinter verstecken sich unzählige feine und anspruchsvolle Prozesse. Und in diesen vielen Bereichen erreichen die Anforderungen an die Reinheit des Wassers ein nahezu anspruchsvolles Maß. Ultrareines Wasser spielt daher eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von Halbleiterchips.

Warum sollte gelöster Stickstoff im funktionalen Wasser kontrolliert werden?

Ultrareines Wasser ist Prozesswasser in der Mikroelektronikindustrie, und Halbleiterfabriken verwenden sehr viel ultrareines Wasser, das hauptsächlich für die nasse Reinigung vor und nach verschiedenen Prozessen verwendet wird. Neben der Entfernung von Gas aus dem ultrareinen Wasser, um die Anforderungen bestimmter Halbleiteranlagen zu erfüllen, muss auch das Gas zum ultrareinen Wasser hinzugefügt werden, um die spezifischen Funktionen der Anlage zu erfüllen.

Funktionelles Wasser verändert die Lösung durch Zugabe einer bestimmten Konzentration von SubstanzZETAPotential (bezieht sich auf das Potential der Schnittfläche, auch als elektrisches Potential oder elektrisches Potential bezeichnet, ist ein wichtiger Indikator für die Stabilität des Koloid-Dispersionssystems). Verwenden Sie das Konzept der chemischen Potenz, um die Ionenverteilung der Oberfläche des Reinigungsobjekts zu ändern, um die gleiche Ladungsabweisung zu erhalten, wodurch die Entfernungsrate einiger Nanopartikel verbessert wird. inCMP(Chemisch-mechanisches Polieren) System, durch den Zyklus der chemischen Reaktionen und mechanischen Entfernungsprozess, um die gesamte oder partielle Flachheit des Wafers zu erreichen, wird der Prozess immer komplexer, da die Anforderungen an den Wafer steigen.CMPDie Reinigung von den ursprünglichen Dutzenden von Malen bis zu den aktuellen Hunderten oder höheren Reinigungsfrequenzen, während einige spezielle Gase während des Polierprozesses eingeführt werden, um dadurch zu verbessernCMPDie Materialentfernungsrate und die Oberflächengüte reduzieren die schlechte Rate des Produkts.

Um ein besseres Reinigungsergebnis zu erzielen, wird in der Regel Stickstoff zu ultrareinem Wasser hinzugefügt und die Löslichkeit von Stickstoff muss genau kontrolliert werden. HashOrbisphäre 511Die Online-Lösungsstoffanalysatoren der Serie bieten eine präzise und leistungsstarke Prozessüberwachung.

Wie kann gelöster Stickstoff genau kontrolliert werden?

In einer Elektronikfabrik installiertOrbisphäre511Der Online-Lösstoffanalysator (wie unten gezeigt) ist für einen bestimmten Zeitraum Daten, die langfristig stabil sind.10 bis 16 ppm.

Laut dem Feedback der Mitarbeiter vor Ort,HACHDie Leistung von gelöstem Stickstoff vor Ort ist ausgezeichnet, die Wartung ist gering und nur einmal im Jahr erforderlich.

vonOrbisphäre511Abhängig von der Anwendung vor Ort,511Die Sondenentwicklung der Produktreihe kann sicherstellen, dass die Messung des Sensors genau, zuverlässig und kurz reagiert, ein ausgezeichneter Temperaturkompensationsmechanismus eingebaut ist, der eine breite Anwendbarkeit des Instruments gewährleistet, der Benutzer überwacht gelösten Stickstoff online durch dieses Instrument, um die präzise Kontrolle des funktionalen Wassers zu erreichen, um die effektive Überwachungsdaten für die Wasserprozesssteuerung des Benutzers bereitzustellen und gleichzeitig den stabilen Betrieb des Nachprozesses des Benutzers zu gewährleisten.