Der vollautomatische Ionensputtergerät hat eine gleichmäßige Beschichtung und eine gute Leitfähigkeit, dank seiner Magnetronsputtertechnologie, seines Präzisionssteuerungssystems und seiner Fähigkeit, mehrere Ziele auszuwählen.

I. Magnetron-Spritztechnik gewährleistet die Gleichmäßigkeit der Beschichtung

1. Magnetfeldoptimierungsdesign: durch Anpassung der Magnetform, Anordnung oder Bewegung des Magnetfeldes wird die Gleichmäßigkeit der Plasmadichte verbessert, so dass die Spritzrate an verschiedenen Stellen der Zielfläche konsistent ist, um die Gleichmäßigkeit der Membranschicht zu verbessern. Beispielsweise verhindert die Optimierung des Abstands zwischen dem Ziel und dem Substrat eine ungleichmäßige Ansammlung von Sputterpartikeln und gewährleistet eine gleichmäßige Filmdicke.

Dynamische Einstellung des Ziels-Basisabstands: Experimente zeigen, dass mit der Erhöhung des Ziels und des Abstands zwischen dem Substrat der Differenzvert zwischen den verschiedenen Punkten des Substrats allmählich verringert wird und die Gleichmäßigkeit erheblich verbessert wird. Diese Eigenschaft ermöglicht es dem Ionensputtergerät, sich an Proben unterschiedlicher Größen und Formen anzupassen, um eine hochpräzise Beschichtung zu erzielen.

3. Streuerleistung und Vakuumkontrolle: Erhöhung der Streuerleistung kann die Zielfläche vergrößern und die Leistungsdichte gleichmäßiger machen; Die Verbesserung des Vakuums reduziert die Kollisionswahrscheinlichkeit von Spritzatomen mit Gasatomen in der Kammer und optimiert die Gleichmäßigkeit der Membransticke weiter. Diese doppelte Steuerung gewährleistet die Stabilität der Beschichtungsqualität.

II. Vollautomatisches Präzisionssteuerungssystem für Ionensputtern zur Verbesserung der Leitfähigkeit

1. Konstantestrom-Steuerungstechnologie: Mit einer hochpräzisen konstanten Strom-Magnetron-DC-Spritzstromversorgung kann die Kontrollgenauigkeit bis zu 1mA erreicht werden, um die Stabilität des Spritzstroms zu gewährleisten. Diese stabile Stromausgabe hilft bei der Bildung einer dichten Metallbeschichtung, die die elektrische Leitfähigkeit der Probe verbessert.

Präzise Regelung der Vakuumumgebung: Schnelle Verwirklichung der Arbeitsvakuumumgebung (Endvakuum < 1Pa) durch eine leistungsstarke Rotationswakumpumpe und Echtzeitüberwachung des Vakuumgehaltes mit einem Pilani-Vakuummeter mit voller Bandbreite. Diese präzise Vakuumkontrolle reduziert den Einfluss von Verunreinigungen auf die Beschichtung und verbessert die Leitfähigkeit.

3. Nanotechnische Spritzpartikelkontrolle: Spritzpartikel können auf Nanotechnik (< 5 nm) erreicht werden, und der hergestellte Film ist dicht und gleichmäßig. Diese Nano-Beschichtung ist nicht nur sehr leitfähig, sondern erfüllt auch die Anforderungen der hochauflösenden SEM-Beobachtungen.

3. Vollautomatischer Ionensputtergerät Multi-Target-Auswahl, um die vielfältigen Anforderungen zu erfüllen

1. Edelmetallzielunterstützung: Ionensputtergeräte unterstützen eine Vielzahl von Edelmetallzielen wie Gold, Platin, Silber und Palladium. Diese Ziele verfügen über eine gute elektrische Leitfähigkeit und chemische Stabilität und können die Bedürfnisse verschiedener Proben an Beschichtungsmaterialien erfüllen.

2. Bequemlichkeit des Zielaustauschs: Der Zielkopf besteht aus einem Schirmring, einem Druckring und einem Ziel. Wenn Sie das Ziel austauschen, müssen Sie einfach den Schirmring und die Druckringschraube drehen, um das alte Ziel zu entfernen und ein neues Ziel zu installieren. Diese bequeme Methode des Zielwechsels erhöht die Flexibilität und die Nutzungseffizienz der Geräte.

4. Vollautomatische Ionensputterung Wirkungsprüfung

Optimierung der Scan-Elektroskop-Beobachtung: Bei der Scan-Elektroskop-Beobachtung (SEM) können Ionensputtern eine gleichmäßige und gut leitfähige Beschichtung für nicht-leitfähige Proben liefern. Dies verhindert effektiv die Erzeugung von Ladungseffekten und macht das Elektroskopbild klarer und detaillierter.

Unterstützung der Bildgebung mit hoher Vergrößerung: Für Proben, die eine Bildgebung mit hoher Vergrößerung erfordern, kann der Ionensputtergerät eine feine und gleichmäßige leitende Metallschicht liefern. Dies ermöglicht Beobachtungen und Bildgebung bei größeren Vergrößerungen und verbessert die Genauigkeit und Zuverlässigkeit der Experimente.