Vakuum-Induktions-Kupferofen

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Verbesserung der Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung der Schmelzelegierung, besonders geeignet für niedrige Schmelzpunktmetalle und große Schmelzpunktunterschiede in der Komponente.

Produktdetails

Für Induktionsschmelzen und Legierungen unter Vakuum oder Argon

Wassergekühlte Kupferband-Form, schmelzbarmax.20g Probe, versiegelt in einem Quarzrohr zur Vakuumdichtung
Die Probe wird in die Achse der Induktionsspule gelegt, um eine vollständige Mischung und Schmelze der Probe zu gewährleisten
Schnelle Vakuumpumpung
Kompakte Anlagemontage mit integriertem Druckmesser für Vakuumpumpen in einem abnehmbaren Schrank
Sicherheitsfunktionen:
Stromgenerator im Schutzmantel mit Sicherheitsschalter
Kühlwasserstromsteuerung

Auswahl

Kupferband kundenspezifische Form
Bornitrid-Probenaufnahme
Hochvakuummessgerät für mechanische PumpenHVM7
Turbomolekularpumpensystem mit Regler und Hochvakuummeter
Zirkulationskühler
Spezialausführung, in die Handschuhkasse integriert: Auf Anfrage anpassbar

Technische Parameter

Schmelzgewicht	max. 20 g
Schmelztemperatur	bis zu 1800°C
真空度	10 bis 3 mbar
Pumpengeschwindigkeit des Vakuums	2,5 m3/h (Atmosphärischer Druck.)
Vakuumzeit pumpen	10-3 mbar in ca. 8 Minuten
Generator Leistung	12 KW erforderlich
Frequenz	50 bis 200 kHz
Stromversorgung	230 V / 50/60 Hz 1-ph und 400 V / 50/60 Hz 3-ph
Standardform	50 x 12 x 4,5 mm (L x B x D) Proben platzieren 16 x 12 x 4,5 mm (L x B x D) Sauerstoff oder kleine Proben platzieren
Größe	(Breite x Breite x Höhe) 880 x 900 x 1300 mm

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