Doppelphotonen-Aggregation

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Doppelphotonen-Polymerisierung 3D-Bearbeitung, Doppelphotonen-Polymerisierung_MPD: Echte dreidimensionale, maskenfreie Photogravur, die die Herstellung von 3D-Strukturen in hohem Freiheitsgrad mit einer Mindestgröße von bis zu 50 nm ermöglicht.

Produktdetails

Doppelphotonen-Aggregation_MPD: Echte dreidimensionale Maskenfreie Photografie, die eine hohe Freiheitsgrad für die Herstellung von 3D-Strukturen in der Nano-Größe mit einer Mindestgröße von bis zu 50 nm ermöglicht. Bietet eine ausgezeichnete Präzisionslösung für die Forschung und Entwicklung in mehreren Bereichen, einschließlich, aber nicht beschränkt auf, Mikro-Nano-Optik, Mikro- / Nano-Fluid-Chips, On-Chip-Lichtvernetzung, Mikromaschinen usw.

Doppelphotonen-Aggregation_MPDParameter:

Systemparameter		MPD-100 Unterreihe	MPD-1000 Unterreihe	MPD-2000 Unterreihe
Horizontale Mindestgröße (nm)		XY ≤80	XY ≤80	XY ≤50
Horizontale Mindestzyklus/Auflösung (nm)		XY ≤300	XY ≤300	XY ≤200
Genauigkeit (nm)		≤ 200
Höchste Oberflächenrauhe (nm)		≤5
Hinweis: Die oben genannten Werte sind nur ein typischer Bereich für die einzelnen Parameter, keine Grenzwerte. Beispiel: Die Mindestgröße xy≤80nm, die tatsächlich erreichbare Mindestgröße ist unter 80nm.
Besondere Funktionen und Konfigurationen (×-Standardmaschine nicht enthalten, √-Standardmaschine konfiguriert, ○-ergänzbar)		MPD-100 Unterreihe	MPD-1000 Unterreihe	MPD-2000 Unterreihe
Hochpräzise Fokussierung	Genauigkeit ≤25nm, kompatibel mit Silizium, Glas, Sapphire und anderen transparenten / undurchsichtigen Substraten	√	√	√
Fokus-/Differenzregulierung		×	○	√
3D im Fokus		×	○	○
Dreidimensionale Ausrichtung		×	○	○
Mehrparametrische Vorschau		√	√	√
Skriptfunktionen		√	√	√
Intelligente Strategie	1. Kontur / Schale - Füllung; 2. Beliebliche / benutzerdefinierte Sequenzmodus Dynamische Fokuspunktregelung (Graustufen) 4. Adaptive Schichten 5. Vektorbearbeitungsmodus	√	√	√
Befestigungen/Unterlagen	1. einschließlich, aber nicht beschränkt auf Metalle, Glas (Quartz), Sapphire, Siliziumflatten usw. 2. Kompatibel mit mehreren Unterlagen Fixierungsmodus: Adsorptionstisch, Griff, Magnetsaug 3. Unterstützung / kundenspezifische Faserverbindungen	√	√	√


Fokusüberwachung		√	√	√
Energieüberwachung		√	√	√
Hilfsfunktionen	Anker, Messung, Markierung, Neigungskompensation, Drehung usw.	√	√	√
Klebstoff/Material	1. Selbstforschung Doppelphotonen-Photogravur, HBP, PPI-Dip, HBO-2 usw. 2. Kompatibel mit Drittanbieter-Doppelphotonen-Photogravur; Andere optisch härtende Materialien umfassen, aber nicht beschränkt auf die AZ-Serie, die SU8-Serie 3. Unterstützt den Druck von Biokompatibilitäts-Hydrogel-Materialien 4. Unterstützung für Glas, PDMS und verschiedene Vorläuferkleber	√	√	√
Erweiterungsfunktion 1: Automatisches Aufkleben		○	○	○
Erweiterung 2: Fluoreszenz-Kofokussierung		×	○	○
Erweiterung 3: Mehrkanalerweiterung		○	√	√
Hardware-Konfigurationsinformationen (×- Standard-Maschine nicht enthalten, √- Standard-Maschinenkonfiguration, ○- ergänzbar)		MPD-100 Unterreihe	MPD-1000 Unterreihe	MPD-2000 Unterreihe
Fokussierungssystem		Standardausrüstung: 66-fache Gesamtvergrößerung, NA 1.42。 (Sonstige Vergrößerungen und Anforderungen können angepasst werden)
Femtosekundenlaser		Mittelwellenlänge: 515nm/780nm (optional) Durchschnittliche Leistung: ≥1W Impulsbreite: ≤200fs Wiederholungsfrequenz: 80MHz
Verschiebungsstation		XYZ行程： 100mm × 100mm × 25mm
Hochpräzise Z-Achse		Fahrstrecke: 75 μm; Genauigkeit: ≤10nm
Temperaturkontrollsystem		○	Umgebungstemperatursystem mit einer Genauigkeit von ±0,1 °C (der Temperaturbenchmark ist der gleiche wie im externen Labor, das externe Labor muss eine bessere Temperaturstabilität als ±1 °C gewährleisten)
Isolierungssystem		○	Konfiguration mehrstufiger aktiver/passiver Isolationssysteme
Installationsbedingungen (unten sind die empfohlenen Bedingungen, detailliertere Parameter können mit dem Hersteller kommuniziert werden)		MPD-100 Unterreihe	MPD-1000 Unterreihe	MPD-2000 Unterreihe
Elektrische Bedingungen	Stromversorgungsbedingungen	Stromkabel 6 Quadrat, 220V, 50Hz, 16A
	Spitzenleistung / Betriebsleistung	4kW / 1kW	8 kW / 4 kW
Umweltbedingungen		Gelbes Licht, Tausende und höhere Reinraum, Isolationsklasse bevorzugt als VC-C, Labortemperatur, empfohlen 21-23 ° C
Druckluft		Nicht notwendig, nur für aktive Schwingungs- und Absorptionstischmaschinen
Empfohlene Anwendungsfläche		2m × 2m
Größe	Ausrüstungskörper (mm, Breite x Tiefe x Höhe)	785×940×720	1300×1300×2200 (ohne Thermostat 1900)
	Schrank (mm, Breite x Tiefe x Höhe)	620×800×1600	620×800×1600
Gesamtgewicht (kg)		＜600	＜1200

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