Willkommen Kunden!

Mitgliedschaft

Hilfe

Shenzhen Zejin Technologie Co., Ltd.
Kundenspezifischer Hersteller

Hauptprodukte:

instrumentb2b>Produkte

Shenzhen Zejin Technologie Co., Ltd.

  • E-Mail-Adresse

    info@chinazerentools.com

  • Telefon

    18123966210

  • Adresse

    No. 3, Lane 4, South Road, Songgang Street, Baoan District, Shenzhen, China

Kontaktieren Sie jetzt

TED PELLA Lichtentladungsgerät

VerhandlungsfähigAktualisieren am12/14
Modell
Natur des Herstellers
Hersteller
Produktkategorie
Ursprungsort

Übersicht

PELCO easiGlow Das Glow Discharge Glow Discharge Reinigungssystem ist ein preiswertes, kompaktes und benutzerfreundliches System für TEM-Kupfernetze und Unterstützungsmembranreinigung und Oberflächenbehandlung. Wie ölphile TEM-Kohlenstoff-Träger-Membran nach der Behandlung durch Gas-Glitzentladung, ist die Oberfläche negativ geladen und hydrophil, wodurch die Wasserlösung leicht dispergiert werden kann. TED PELLA Lichtentladungsgerät

Produktdetails

TED PELLA Lichtentladungsgerät

PELCO easiGlow ™ Das Glow Discharge Glow Discharge Reinigungssystem ist ein preiswertes, kompaktes und benutzerfreundliches System für TEM-Kupfernetze und Unterstützungsmembranreinigung und Oberflächenbehandlung. Wie ölphile TEM-Kohlenstoff-Träger-Membran nach der Behandlung durch Gas-Glitzentladung, ist die Oberfläche negativ geladen und hydrophil, wodurch die Wasserlösung leicht dispergiert werden kann.

MitDie TEM-Arbeitslast nimmt zu, und die Verwendung von sauberen und reproduzierbaren TEM-Kupfernetzen und -trägern wird wichtiger als je zuvor. PELCO easiGlow ™ Glitter-Entladungsreinigungssysteme, die jedes TEM-Labor wert ist, bieten unter anderem:

Präzise und einfache Vakuumsetzung

Kurze Bearbeitungsdauer

Das Ergebnis wiederholt sich gut

Automatische Programmsteuerung und manueller Modus optional

Touchscreen für intuitive Anzeige und Steuerung

Unterstützungsband/ Negativ, hydrophil / hydrophob

Kompakte Struktur und günstiger Preis

TED PELLA Lichtentladungsgerät

Das System besteht aus zwei unabhängig gesteuerten Gaseingängen, der Vakuumgrad wird durch ein elektronisch gesteuertes präzises Proportionsventil eingestellt und das neue Design verhindert die manuelle Einstellung des Nadelventils. Schrittweise Entgasungsverfahren garantiertTEMKupferNetz und Trägermembran werden bei der Entgasung nicht beschädigt.

Zwei optionale Befestigungen zur Massenbearbeitung von Kupfernetzen oder Stützfolien. Natürlich können Sie auch direkt im Labor mitnehmen.

Technische Parameter:

Plasmastrom

0 bis 30 mA

Leistung

30W

Glanzentladungskopf Polarität

Positiv-negativ extrem einstellbar

Probentesch

Ø75mmLagerbar25 x 75 mmFolien

Höhe der Probe

1 bis 25 mmEinstellbar

Verzögerung der Verarbeitung

0-14411 Sek.

Bearbeitungszeit

0-900 Sekunden.

Probenraumgröße

Ø120 x 100mmHoch

Eingangsloch

2 einØ6 mmEingangsloch

Hochdruckvakuumversperrung

Doppelte Verriegelung von Hardware und Software

Vakuumkontrolle

PiraniRegeln Kontrolle,Vakuumbereich: Atmosphärischer Druck~ 0,01 mbar

Arbeitsvakuumbereich

1,1 - 0,20 mbar

Systemanzeige

BesitzenLEDsLicht.3'Berühren und haben.5eine Funktionstaste

Betriebsmodus

Automatische Programmierung(Bearbeitbar4ein Benutzerprogramm)

Größe

305 langx 292breitx 230 mmHoch

Gewicht

6,26 kg

GD4Vakuumpumpe (optional)

337 langx 138breitx 244mmHoch

Gewicht

11 kg

Vakuumpumpenleistung

2,5 m3/ Stunde,Endvakuum0,03 mbar

Stromanforderungen

230V 50Hz, 10A