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Changzhou Shuncheng Thermal Werk
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Durchflussmesser für Halbleiterchips

VerhandlungsfähigAktualisieren am05/25
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Ursprungsort

Übersicht

Changzhou Shuncheng Thermal Instrumentation Factory neu entwickelte Halbleiterchip spezielle Durchflussmesser ein leichtes, kompaktes Durchflussmesser mit Fluorharz-Körper, ideal für die Messung einer Vielzahl von korrosiven Lösungen, hauptsächlich für die Messung von korrosiven Gasen oder Flüssigkeiten kleinen Durchfluss Präzisionsdurchflussmesser, mit einem kleinen Volumen, einfache Installation, intuitive Anzeige, hohe Messgenauigkeit und andere Vorteile, das Hauptmaterial verwendet ETFE, PFA, PFA, PCTFE und andere Fluorharzmaterialien, kann in direktem Kontakt mit starken korrosiven Flüssigkeiten (Säure, Alkali, Halogengase usw.). Vorwiegend für die Prozessüberwachung von korrosiven Gas- oder Flüssigkeitsflussmessgeräten in der chemischen Industrie, in der Halbleiterchipindustrie, im Labor

Produktdetails

SC-P7100 Glasrotor Durchflussmesser

Changzhou 双诚热Neu entwickelte WerkzeugfabrikDurchflussmesser für HalbleiterchipsEin leichter, kompakter Fluorharz-KörperDurchflussmesser, ideal zur Messung einer Vielzahl von korrosiven LösungenPräzisionsdurchflussmesser, die hauptsächlich zur Messung von kleinen Durchflussmengen von korrosiven Gasen oder Flüssigkeiten verwendet werden, haben die Vorteile einer einfachen Installation mit kleinem Volumen, intuitiver Anzeige und hoher Messgenauigkeit,Hauptmaterial verwendetETFE, PFA, PFA, PCTFE,FluorharzMaterial, das in direkten Kontakt mit stark korrosiven Flüssigkeiten (Säure, Alkali, Halogengase usw.) stehen kann. Wird hauptsächlich für die Prozessüberwachung von korrosiven Gas- oder Flüssigkeitsflussmessgeräten in der chemischen Industrie, der Halbleiterchipindustrie und der Präzisionsmessung von Flüssigkeiten im Labor verwendet. Ersatz für InlandsimporteDurchflussmesser ErsatzprodukteFunktionalität und Zuverlässigkeit erreichen die idealen Ergebnisse der inländischen Durchflussmesser.

半导体芯片专用流量计

Durchflussmesser für HalbleiterchipsMessbereichParametertabelle

Projekt

detaillierte Beschreibung

Gas

Luft Kleinste 50 bis500 ml/min (Standardzustand)

2 bis20 L/min (Standardzustand)

Flüssigkeit

wer Kleinste 3 bis30 ml/min

0.4 bis2 L/min

Maßbereichsverhältnis

10:1 (Besondere GrößenverhältnisseBitte konsultieren Sie Bestätigung)

Genauigkeit

±5 % F.S.(Besondere Präzisionsberatung)

Arbeitsdruck

0,5 Mpa(Über Arbeitsdruckberatung bestätigt)

Betriebstemperatur

70℃ (spezielle Temperaturbestätigung)













Durchflussmesser für HalbleiterchipsHauptmaterial


Name

Materialbeschreibung und Spezifikationen

Durchflussmesser

ETFE (Rc1/8) (Standard)PFA(Säulenverbindung)

Messkegelrohr

HochborosiliciumglasoderPCTFE

Dichtring

Perfluorether

Durchflussmesserhalter

Polyformaldehyde(Standard)PPS

Schutzabdeckung

Polycarbonate

Ventilnadel

PCTFE

Schwimmen

PTFE,Anu, Glas

Prozessverbindung

Rc1/8' (Standard)Oder Standardmaßnahmen

Installationsmethode

Frontschraubenmontage(Standard)oderPanel-Embedded-Installation















Durchflussmesser für HalbleiterchipsRegelmäßiger Zeitplan

HochborosiliciumglasMessleitungsbereich

PCTFEMessleitungsbereich

Luft (0°C0 MPa

Wasser

Wasser

50 -500 ml/min

3-30 ml/min

0.1 -1 L/min

5 -50 ml/min

0.2 -2 L/min

10 -100 ml/min

0.3 -3 L/min

20-200 ml/min

0.5 -5 L/min

30-300 ml/min

1 -10 L/min

50 -500 ml/min

50 -500 ml/min

2 -20 L/min

0.1 t-1 L/min

0.1 -1 L/min

0.12 -1,2 L/min

0.12 -1,2 L/min

0.4-2 L/min

0.4-2 L/min














Hinweis: Zusätzliche Verkehrsspezifikationen sind verfügbar, einige Verkehrsbereiche können sich jedoch ändern.


Noch mehr. Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen.

Durchflussmesser für HalbleiterchipsDimensionsdiagramm

半导体芯片专用流量计


Changzhou 双诚热Die Werke bietet professionelle inländische Alternativen und die Entwicklung von speziellen Durchflussmessern, bietet Kunden Alternativen und löst den Prozess der Steuerung des Durchflussmessers und begrüßt den technischen Austausch und die Beratung.